JPS62128917A - 微細球状多孔質シリカの製造法 - Google Patents

微細球状多孔質シリカの製造法

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JPS62128917A
JPS62128917A JP27029685A JP27029685A JPS62128917A JP S62128917 A JPS62128917 A JP S62128917A JP 27029685 A JP27029685 A JP 27029685A JP 27029685 A JP27029685 A JP 27029685A JP S62128917 A JPS62128917 A JP S62128917A
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acid
fine spherical
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porous silica
spherical porous
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Takashi Matsui
松井 孝
Hiroshi Onodera
浩 小野寺
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FUJI DEBUISON KAGAKU KK
Fuji-Davison Chemical Ltd
Fuji Chemical Co Ltd
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FUJI DEBUISON KAGAKU KK
Fuji-Davison Chemical Ltd
Fuji Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は微細球状多孔質シリカの製造法に関するしので
あり、詳しくは、比表面積及び慣孔容積の大きい球状多
孔質シワ力のM 造法に関するものて・ある。
[従 宋 1支 術 ] 微細球状の多孔質シリカは種々の用途に利用されるが、
その用途に応じて、比表面積及び網孔容積の大きいもの
が要求される場合がある。従来、球状多孔質シリカの製
造法として、例えば、アルカリ金属ケイ酸塩を噴霧乾燥
することにより微細球状粒子を10、次いで、この粒子
を酸α狸して゛型造する方法が知られている。この方法
によれば、噴霧乾燥によって球状粒子を(りるので、ス
プレードライヤーの条件、例えばディスク方式ではディ
スクの回転数、ノズル方式ではlIF!霧圧力低圧力変
化させることにより、所望の粒径のものを(9ることが
でき好ましい方法である。
しかしながら、この方法では、一般的にj9られる球状
多孔質シリカの比表面積および期孔容清が小さいと言う
問題点がある。例えば、原料となるアルカリ金属ケイ酸
塩として、1弓ケイ酸カリウムを用いた場合には、比表
面積の大ぎいちのが(9られるがその場合でし、比表面
積は約400 nr 7′9程度のものが限度であった
[発明の課題と解決手段] 本発明者は上記実情に鑑み、アルカリ金属ケイ酸塩の水
溶液を噴霧乾燥して得た球状粒子を酸処理して球状多孔
質シリカを製造する際に、比表面積および細孔容積の大
きい多孔質シリカを1qる方法につき種々検討した結果
、ある特定の条件下で酸処理を行なうことにより、本発
明の目的が達成されることを見い出し本発明を完成する
に至った。
し発明の要旨〕 すなわち、本発明の要旨は、アルカリ金属ケイ酸塩水溶
液を噴霧乾燥することにより微細球状粒子をIn、次い
で、この粒子を酸処理した後、水洗。
乾燥して球状多孔質シリカを製造する方法において、酸
処理を30℃以上の温度で実施することを特徴とする微
細球状多孔質シリカの製造法に存する。
[発明の構成] 以下、本発明の詳細な説明する。
本発明では先ず、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液を噴霧
乾燥するが、ここで対象となるアルカリ金属ケイ酸塩と
しては、通常、Si O2/Na 2Oモル比が4.8
以下、好ましくは2〜4.5のモル比10以下、好まし
くは3〜8のケイ酸リチウムが挙げられる。例えば、1
号〜4号ケイ酸す1ヘリウムどしてのJ■S規格品等が
利用できる。
このケイ酸塩の水溶液濃度は通常、5〜60重攪%に調
節される。噴霧乾燥は通常、常法に従って、回転ディス
ク方式及びノズル式の噴霧乾燥機を用い、ケイ酸塩水溶
液を入口温度100〜300℃、出口温度40〜200
’Cの温度においてスプレーすることにより実施される
。この乾燥98浬により、例えば、1〜500μm程度
に造粒された球状粒子を1qることができる。
このようにして冑た球状粒子を次いで、酸処理するが、
ここで用いる酸としては、硫酸、塩酸。
硝酸、リン酸などの無機酸及び、酢酸、シュウ酸などの
有は酸が挙げられる。この酸の濃度は通常、5〜30重
最%、好ましくは8〜20重量%の範囲が好適に用いら
れる。この酸処理は通常、酸水溶液に上述の球状粒子を
混合し、例えば、0.5〜5時間程度、撹拌処理するこ
とにより実施される。酸水溶液の使用借は当然のことな
がら、少なくとも処理する球状ケイ酸塩粒子中に含有さ
れるアルカリ成分の中和に要する化学量論以上、好まし
くは1.5倍以上が用いられる。
本発明においては、この酸処理の温度を30℃以上、好
ましくは40℃〜100℃、特に好ましくは50〜90
℃の温度で実施することを必須の要件とするものである
。すなわら、上記温度範囲にて実施することより、比表
面積及び細孔容積の大ぎい球状多孔質シリカを1qるこ
とができるのである。
酸処理を終えた混合物は例えば、フィルタープルス又は
遠心分l1lIlなどの手段により固液分離し、生成し
た微細球状多孔質シリカを分離する。分離した多孔質シ
リカは常法により、水洗及び乾燥して例えば、1〜50
0μmの粒径を有(る球状の離などの手段で付着する酸
や生成塩が除去されるよう実施され、また、乾燥は通常
、100〜200℃の湿度で数時間程度実施される。一
方、濾液は冷却晶析により、生成塩を析出回収すること
もできる。
[発明の効果1 本発明によれば、酸処理温度を高めるど苫う園めて簡単
な手段によって、比表面積および細孔容積の大きい微細
球状多孔質シリカを1qることができる。また、本発明
で19られる多孔質シリカ(:L、BET細孔径分布に
おいで、その細孔径の大半が50△以下と言う微細なし
のである。この球状多孔質シリカは例えば、クロマ1−
充填剤を始めとし、触媒担体、プラスチック充填剤、化
駐用品原料などとして、広い分野で利用することができ
る。
[実施例] 次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記述に
限定されるものでない。
実施例1 3号ケイ酸ソーダの39.9wt%(MR3,10、粘
度225)水溶液を調製し、これを回転ディスク型噴霧
乾燥機において、乾燥することにより、平均粒径100
μmの粒子を1!P1次いで、この粒子500gを第1
表に示す温度において、10wt%rfl酸水溶液15
00m文中に撹拌下に混合し、引き続き同湿度で3時間
、撹拌することにより酸処理を行なった。
酸処・連接の混合物を濾過し、微細粒子を回収した後、
これを水洗し、更に、180℃の温度で2時間、電気乾
燥機で乾燥することにより、平均粒径100μmの微細
球状多孔質シリカを得た。
この多孔質シリカにつき、比表面積及び細孔容積を測定
したところ、第1表に示す通りの結果であった。
第  1  表 実施例2〜7 実施例1の方法において、第2表に示すケイ正塩を用い
、噴霧乾燥により得た球状粒子1309を第2表に示ず
10wt%硫酸の使用最及び撹拌時間で酸処理し、その
他は同様に処理した場合の結果を第2表に示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)アルカリ金属ケイ酸塩水溶液を噴霧乾燥すること
    により微細球状粒子を得、次いで、この粒子を酸処理し
    た後、水洗、乾燥して球状多孔質シリカを製造する方法
    において、酸処理を30℃以上の温度で実施することを
    特徴とする微細球状多孔質シリカの製造法。
  2. (2)酸処理を40〜100℃の温度で実施することを
    特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の方法。
JP27029685A 1985-11-29 1985-11-29 微細球状多孔質シリカの製造法 Granted JPS62128917A (ja)

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Cited By (4)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006199566A (ja) * 2004-12-24 2006-08-03 Fuji Kagaku Kk 可溶成分含有シリカ、可溶成分含有ケイ酸塩、及び多孔性シリカの製造方法
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JP2013095797A (ja) * 2011-10-28 2013-05-20 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd 色素内包シリカ系粒子の製造方法および色素内包シリカ系粒子ならびに該粒子の用途

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5031119A (ja) * 1973-07-23 1975-03-27

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