JPS62156227A - 皮膜特性及び磁気特性の優れた方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤 - Google Patents

皮膜特性及び磁気特性の優れた方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤

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JPS62156227A
JPS62156227A JP29329785A JP29329785A JPS62156227A JP S62156227 A JPS62156227 A JP S62156227A JP 29329785 A JP29329785 A JP 29329785A JP 29329785 A JP29329785 A JP 29329785A JP S62156227 A JPS62156227 A JP S62156227A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は方向性電磁鋼板の製造に際して鋼板表面の全面
にわたって優れた絶縁性、密着性および外観を有するグ
ラス皮膜を均一に形成すると共K。
磁気特性の優れた方向性電磁鋼板を製造するための焼鈍
分離剤に関する。
〔従来の技術〕
通常、方向性電磁鋼板は、Si 4%以下を含有する素
材を熱延し、焼鈍と1回または中間焼鈍をはさんで2回
以上の冷延により最終板厚とされる。
次いで湿潤雰囲気中で脱炭焼鈍後、焼鈍分離剤としてマ
グネシャMgOをスラリー状としてコーティングロール
で塗布し、乾燥したのち最終仕上焼鈍し製造される。
方向性電磁鋼板では、この際のグラス皮膜の形成状況、
すなわち皮膜の均一性、厚み、鋼板地鉄との密着性、絶
縁性等が優れると共に、張力効果の優れたグラス皮膜を
形成することは、成品特性及び商品価値を決定する上で
重要である。
方向性電磁銅板の一連の製造工程の中で、焼鈍分離剤と
なるMgOは脱炭焼鈍で形成される5IO2主体の酸化
膜と反応して、ブ′ラス皮膜であるフォルステライト皮
UA (Mg25104 )を形成する。ところが、最
終仕上焼鈍中のコイル内においては、MgOのもつ性状
によりこのグラス皮膜形成反応が大きな影響を受ける。
通常、グラス皮膜の形成反応に影響する因子としては、
MgOの純度、粒度、活性炭封着性等があシ、焼鈍分離
剤として使用される際には、スラリーにした場合の水和
の進行度合:MgO粒子の凝集程度及び塗布量と共に各
種添加物も大きな影響力をもつ。このため、良質のグラ
ス皮膜と優れた磁気特性を得るためのMgOの製造条件
としては、原料となるMgrOH12の生成反応条件と
共にMgOを得る際の焼成条件を最適化するための努力
がなされている。
MgOを鋼板に塗布し使用する際には、水に懸濁させて
スラリー状として塗布するため、一部MgO→Mg(O
H)2 への水和反応が生じる。このため、コイル内へ
の水分の持込みとなって板間の雰囲気を高露点かつ不均
一にし、過酸化によるピンホール状のシモフリ、ガスマ
ーク、スケール、変色等の皮膜欠陥をひきおこす。この
対策として、MgO製造条件によるMgO性状コントロ
ールや、使用時のスラリーの冷却強化等による板間への
持込水分を減らす努力がなされている。あるいは従来は
、MgOの焼成温度を上げて水和反応性を抑制したMg
Oを用いる方法例えば特開昭55−73823号公報が
ある。このようにして水利反応を抑制したMgOId酸
化膜の5i02層との反応性の低下によりスパングル、
ガスマーク、密着性不良、皮膜張力低下等をひきおこす
ことがある。
〔発明が解決しようとする問題点〕
特に大型コイルにまる程MgOの反応性及び水和性に起
因する水分持込量の影響が大きいため、板間ぺの持込水
分量をできるだけ抑え、かつ均一なグラス皮膜を形成す
るための焼鈍分離剤の開発は同業各社にとって重要なU
P、題となっている。
そこで、本発明者らは、従来の焼鈍分離剤の欠点をなく
すべく、鋭意研究を行った結果主成分である八/1gO
の物性を変えることにより、前記種々の問題点を解決す
るんIgOを開発することに成功した。即ち、従来のM
gOで生ずる前記過酸化の問題はMgOの高活性による
過剰な持込水分によるものであり、高温焼鈍で生ずる皮
膜形成不良は極端な水分の不足と反応性低下によるもの
である。
この両者の解決策として、水酸化マグネシウム、炭酸マ
グネシウム等のMg化合物を比較的高温で焼成して得た
低活性MgOのごく最表面層のみを強制的に一定量の水
利処理をして、活性化することにより反応性に優れ、皮
膜が均一で優れ、磁気特性の優れた方向性電磁鋼板が得
られることを見出した。
〔問題点を解決するための手段〕
以下、本発明の詳細な説明する口 本発明者達は脱炭焼鈍で鋼板表面に形成される5102
主体の酸化層と焼鈍分離剤として用いられるMgOとの
反応で生成されるグラス皮膜と磁気特性に対するMgO
製造過程での処理条件の影響を調査した。
この実数においては、最終板厚0.295mに冷延され
た方向性電磁鋼板をN2  ”L の1偶雰囲気中で脱
炭焼鈍を行った鋼板を出発材とした。この鋼板に水酸化
マグネシラムラ11・00℃で焼成して得たMgO′!
I−I Q μm以下の微粒子が85襲以上含まれるよ
う粉砕したのち、一定温度、湿度の空気中で処理時間を
変えて、MgOの原粉当り0.5%となるように粒子最
表面層をMg(OH)!化する水和層形成処理を行い、
活性化した。このMgOと活性化処理をしなかった焼成
したままのMgOを前記脱炭板に鋼板1m’当り16g
の割合で塗布し、乾燥後、1200℃X 20 hrの
2終仕上焼鈍を行った。塗布、乾燥後の段階でMgOの
水利水分を確認したところ、活性化処理なしでは0.2
%であったのに対し、活性化処理を行ったものは0.6
%であった。このときのグラス皮膜形成の形成状態と皮
@特性を牌査したところ、皮膜外観は活性fヒ処理なし
ではグラス皮膜が非常にうずく、不均一でガラスマーク
状のむらがあったのに対し、活性化処理を行ったものは
非常に厚く均一に形成され光沢のある優れたグラス皮膜
が形成された。グラス皮膜の表面を電子顕微鏡で観察し
たところ、@1図に示すように活性化処理なしのMg0
Q3)では、フォルステライト粒が非常にまばらである
のに対し、活性化処理をし九Mgωj では、緻密に細
かい粉が形成されているのが歓察された。
絶縁コーティング盪布焼付後の皮膜密着性を20wφ曲
げでテストしたところ、活性化処理なしでは大部分のグ
ラス皮膜が脱落したのに対し、活性化処理したものは全
く剥離が生じなかった。
このように活性化処理をしたMgOt−使用し九場合に
は、低水和のMgOであるにもかかわらず、皮膜特性全
般にわたって著しい改善効果が見られた0 次にMgOの活性化処理についてのべる。
活性化の丸めの粒子最表面層のみの水和層生成6理の方
法としては、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム等
の原料を焼成してMgOを得を後の粉砕、分級、粒度調
整等の何れかの工程中或いは製造工程中での搬送中か実
際にコイルに′1jL布される直前に所定温度、所定湿
度中で行われる〇水和層生成量を安定化させるために、
当然のことながら、温度、湿度を厳密にコント關−ルす
る事は重要であ石。
水和層生成処理量としては、0.3%〜2.0%が適当
である。2、Oq&超では必然的にコイル間への持込水
分が増加して過激化現象による皮膜欠陥が生じたり、磁
性が劣化する傾向が見られる。
逆K O,3%未満と少ない場合には、極端な水不足と
なって、仕上焼鈍昇温過程で、脱炭時に形成した鋼板表
面の酸化膜の還元反応による変質が生じ、 MgOとの
反応によるグラス皮膜の形成が不充分となる。
この場合もAIN、 M7+S等のインヒビターの不安
定化によシ磁性が劣化する。
本発明者達#:tMgO粒の景表面層のみの水和層形成
と皮膜、磁性の関係t−鋭意研究した結果、この最適処
理条件を見出すに至ったのである。水和層形成による活
性化処理前のMgOK必要な要件をのべる。最表面層の
みの水和層形成による活性化の本来の目的は、MgO粒
子の鋼板酸化層との反応性を高めると共に、板間雰囲気
t−Dry側に寄せて安定化することにある。このため
にはMgOを水に懸濁させてスラリーにした場合、それ
以上水利反応が進行し難い性質であることが必要である
。このために、MgOの焼成条件としては、900℃以
上の温度で焼成してM gO自体を本質的に不活性にし
ておくのがよい。このような高温焼成のMgOは通常の
クイックコーティング方式の場合には、はとんど水利反
応の進行がなく、安定性が一層増加する。
焼成温度が1200℃超になると焼結現象を生じ、ま念
粉砕しても粗粒となシ反応性が低下し好ましくないので
1200℃を上限とする0Mg0 の粒度については特
に規定するものではないが、電磁鋼板用の焼鈍分離剤と
して一般に使用されているのと同様に主体は3μ以下の
微粒子であることが望ましく、BET比表面積で3゜n
?/2以下好ましくは8〜25d/fがよい。これは、
租すぎる場合、下地酸化膜とのグラス皮膜形成屓応が極
端pc低下することと細かすぎる場合水利反応の抑制が
礪しくなるためである。
MgOの適用にあ光っては、使用する1!磁鋼板の成分
、板厚によっては、皮膜形成及びインヒビターを安定化
し、磁性改善のための補助効果の目的で必要に応じてT
%化合物、S化合物、S化合物等を添加して使用される
。   ′ Ti 化合物としては、例えばTiO+Tie2等が用
いられるが、その添加量はTI として、前記粒子最表
面層に水和層形成処理を施したMg0 100重量部に
対して、0.5〜15重量部である。
添加量が0.5重量部未満ではグラス皮膜形成促進作用
が弱い。このため仕上焼鈍昇温過程での焼鈍雰囲気に対
して皮膜のシール性が弱くな9、N吸収、脱S等により
インヒビター分解、変質が生じることがある。一方、添
加量が多くなると、昇温過程で鋼板表面の酸化膜の追加
酸化を生じ、過酸化になりやすく、また酸化膜がポーラ
スとなシ、グラス皮膜が不均一となったり、磁性不良と
なるので15重量部以下とする。
S化合物としては、SrS、 sbs、 5b2(80
4)。
等が用いられるが、その添加量は、SとしてMg010
0重量部に対して0.03〜1.0重量部である。
0.03重量部未満では前記Ti化合物の下限の理由と
同様な問題が生じる。また、添加量が1.0重量部超に
なると過酸化になりやすく、形成される酸化膜がポーラ
スとなり好ましくない。
S化合物としては、B、0.mH,BO,NaBO,。
Na2B4O7等が用いられる。その添加1fdBとし
て、Mg0100重盆部に対して0.03〜0.15重
量部である。0.03重量部未満では、前記Ti化合物
の下限の理由と同様な問題が生じ、また、0.15重量
部超では前記Ti 化合物の上限の郡山と同様な問題が
生じるとともに正常な二次再結晶粒の発達が生じなくな
って磁性不良をひきおこす場合があるためである。
これら、Ti化合物、S化合物、S化合物は1種または
2種以上添加されるものである。
〔実施例〕
次に実施例についてのべる。
実施例1゜ 重量%でC: 0.065.S i : 3.3Q、〜
Ln:U、060゜At:0.029. S : 0.
 O25カラfx ル珪31014ス5 フを公知の方
法で熱延−焼鈍−冷延し、最終板厚0、225■とし、
850℃でN、 十H2の湿潤雰囲気中で脱炭焼鈍を行
った。この鋼板にMg(OH)2とMgCO5の混合物
を第1表に示すような温度で焼成して得られたMgOの
表面に同表で示す量の水和層を形成し、該MgO100
重量部に対し、Ti0,3重量部配合した焼鈍分離剤を
スラリー状にして塗布、乾燥後、1200℃で20hr
の最終仕上焼鈍を行った0その結果を第2表に示す。
最表面水和層形成の活性化処理を施さなかったMgOを
使用したものは、何れも、tiとんどグラス皮膜を形成
せず、磁気特性も不良であったのに対し、活性化処理を
したMgOk使用したものは、グラス皮膜が均一で優れ
、磁気特性も良好であった0 実施例2゜ *ms テc:0.(i45. St : 3.151
 Mn:0072. S:0、023からなる珪素鋼ス
ラブを公知の方法で熱延後、焼鈍をはさむ2回の圧延に
より、最終板厚0、30 mとした。次いで実施例1と
同様にして脱炭焼鈍後、Mg(01()、を1100℃
で焼成して得られた微粒MgOを原粉当り0.4%、1
.3%になるように表面に水和層形成の活性化処理を行
ったMgOをスラリー状にして塗布し1200℃、20
hrの最終仕上焼鈍を行った。結果を第3表に示すO 以下余白 実施例1と同4.・kに表面水和層形成の活性化処理を
行ったMgOを使用した場合は、グラス皮膜、磁性とも
非常にすぐれた結果が得られた。
実施例3゜ 重′kkチでC: 0.07 G 、 St: 3.2
0 、 Mn:0.068゜ht :o、oz7.S:
0.028からなる珪素鋼スラブを公知の方法で熱延−
焼鈍−冷延し、最終板厚0.295mとした0次いで実
施例1と同様に脱炭焼鈍した後、Mg(OH)z  ”
e1080℃で焼成して得られた微粉MgOの表面に水
和層を1.0%になるように形成して活性化し、該Mg
O100重量部に対してB、0.をBとして0.1重量
部単独とH,BO3をBとして0.05″ifX量部と
5b2(SO+1zをSとしてo、os、i置部を配合
した焼鈍分離剤をスラリー状にして塗布乾燥後、120
0℃、20hrの最終仕上焼鈍を行った。その結果を第
4表に示す。
以下余白 〔発明の効果〕 これらの実施例から明らかなように、本発明によると、
密着性、皮膜張力、外観ともすぐれたグラス皮膜が形成
され、また鉄損、磁束密度がすぐれた方向性電磁鋼板が
得られる。
【図面の簡単な説明】
写真であり、囚は活性化処理をしたMgOを塗布した成
品板のグラス皮膜をし、Q3)は活性化処理をしない焼
成ままのMgOを塗布した成品板のグラス皮11aを示
す写真である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、塩基性炭
    酸マグネシウム、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム
    、硝酸マグネシウム等のMg化合物の1種又は2種以上
    を原料として、900〜1200℃で焼成した低活性マ
    グネシヤの粒子最表面層に焼成後のマグネシヤの重量当
    り、0.3〜2.0%の範囲で水和層形成処理を施して
    活性化した方向性電磁鋼板用焼鈍分離剤。 2、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、塩基性炭
    酸マグネウム、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム、
    硝酸マグネシウム等のMg化合物の1種又は2種以上を
    原料として900〜1200℃で焼成した低活性マグネ
    シヤの粒子最表面層に、焼成後のマグネシヤの重量当り
    、0.3〜2.0%の範囲で水和層形成処理を施し、活
    性化した焼鈍分離剤100重量部に対して、B_2O_
    3、H_3BO_3、NaBO_2、Na_2B_4O
    _7等のB化合物をBとして、0.03〜0.15重量
    部、SrS、SbS、Sb_2(SO_4)_3等のS
    化合物をSとして0.03〜1.0重量部、TiO、T
    iO_2等のTi化合物をTiとして0.5〜15重量
    部の1種又は2種以上添加したことを特徴とする方向性
    電磁鋼板用焼鈍分離剤。
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