JPS62156290A - スポツトメツキ用マスク装置 - Google Patents

スポツトメツキ用マスク装置

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Publication number
JPS62156290A
JPS62156290A JP29822485A JP29822485A JPS62156290A JP S62156290 A JPS62156290 A JP S62156290A JP 29822485 A JP29822485 A JP 29822485A JP 29822485 A JP29822485 A JP 29822485A JP S62156290 A JPS62156290 A JP S62156290A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
metallic sheet
plated
jig
plating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP29822485A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuto Tani
谷 克人
Akira Okamoto
岡本 曉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP29822485A priority Critical patent/JPS62156290A/ja
Publication of JPS62156290A publication Critical patent/JPS62156290A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はリードフレームなどのスポットメッキ方法に
用いるマスク装置に関するものである。
〔従来の技術〕
リードフレームなどのスポットメッキ方法は、複数のメ
ッキ孔を存するメッキ面マスクゴムの上に帯状のリード
フレームを、その裏面を上にして載せ、上方にはエアシ
リンダなどにより昇降せしめられる上マスク治具を設置
し、この上マスク治具の下面に裏面マスク用ゴムを張り
、上マスク冶具を下降させてメッキ面マスクゴムと上マ
スク冶具の裏面マスク用ゴムでリードフレームなどを挟
んでスポットメッキを行う。
こうしてメッキが終ると上マスク冶具を上昇させ、リー
ドフレームなどを移動させてメッキ前の部分をメッキ面
マスクゴム上として停止させたのち、上記同様にスポッ
トメッキを行なう。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記のようなメッキ方法において、リードフレームなど
の帯状の被メッキ金属板が移動するさいに、金属板のた
るみによりそのメッキ面がメッキ面マスクゴムに接触し
て摺動するため、メッキ面に疵がつき、活性化されたス
トライクメッキ面が消失し、本メッキとの密着性が失わ
れる場合や、ストライク面そのものがなくなり、下地が
露出してストライク効果がなくなるなどの問題が生じる
。
〔問題点を解決するための手段〕
上記の問題点を解決するために、この発明は上マスク冶
具に、その上昇時に被メッキ金属板を持ち上げて、その
被メッキ金属板をメッキ面マスクゴムから離す持ち上げ
手段を設けたものである。
〔作用〕
この発明は上記の構成であるから、被メッキ金属板が停
止した条件で、上マスク冶具が下降し、その下面の裏面
マスクゴムで金属板をメッキ面マスクゴム上に押し付け
る。
こうしてメッキが終了して上マスク治具を上昇させると
、これとともに上昇した持ち上げ手段が被メッキ金属板
を持ち上げてメッキ面マスクゴムから離し、被メッキ金
属板が移動するさいに、被メッキ金属板がメッキ面マス
クゴムに接触しないようにする。
〔実施例〕
第1図、第2図に示す実施例において、1はフレーム、
2はこのフレーム1上に張ったメッキ面マスクゴムで適
当な間隔でメッキ孔3が設けである。また、このマスク
ゴム2は実施例ではll7のシリコンゴムを用いている
が、これに限定するものではない。
4は帯状の被メッキ金属板でメッキ面を下にしており、
実施例の場合はリードフレームである。
この場合、図示省略しであるリールから繰出されて巻取
リールに巻取られることにより一定のピッチで間欠的に
移動するものである。
5は上マスク治具で、図示省略しであるエアシリンダな
どで昇降するものであり、この治具5の下面に裏面マス
クゴム6を張る。この裏面マスクゴムはスポンジゴムの
みの場合、シリコンゴムのみの場合、厚いスポンジゴム
の層の下に薄いスポンジコムの層を張り、その下に薄い
シリコンゴムの層を仮止めしたものなどがある。
上記の上マスク治具5の両側に持ち上げ手段7を設ける
。この持ち上げ手段は図示例では細い金属丸棒をL形に
屈曲し、その下辺に細いローラ8を軽く回転するように
取付けたものであり、この持ち上げ手段7のローラは、
上マスク治具5の下降時にはフレーム1の両端外側に下
降する。
上記の装置において、被メッキ金属板4がメッキ面マス
クゴム2上において停止した条件で、上マスク治具5を
下降させてシリコンゴムの層8を適宜の圧力で被メッキ
金属板4上に圧着させた状態で公知の方法によりスポッ
トメッキを行なう。
このとき、持ち上げ手段のローラ8はフレーム1の両端
外側下部寄りに下っている。
こうしてスポットメッキを行なったのち、上マスク治具
5を上昇させると、治具5とともに上昇した持ち上げ手
段7のローラ8が被メッキ金属板4を持ち上げる。
従って金属板4がゆるんでいてもメッキ面マスクゴム2
からは十分に離れる。
この状態で被メッキ金属板4を移動させ、同金属板のメ
ッキ前の部分を下部マスクゴム2上に移動させて停止さ
せたのち、前記同様の作業を繰り返す。
〔効果〕
この発明は上記のように、上マスク治具に、その上昇時
に被メッキ金属板を持ち上げる持ち上げ手段を設けたも
ので、上マスク治具が上昇したとき被メッキ金属板が持
ち上げられて下部のメッキ面マスクゴムから十分に離さ
れるので従来のメッキ装置のように被メッキ金属板の移
動のさいに、金属板がメッキ面マスクゴムと接触するこ
とによって生ずる種々の障害がなくなるという特有の効
果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明を実施したスポットメッキ装置の要部
を示す斜視図、第2図は同上の縦断正面図である。 2・・・・・・メッキ面マスクゴム、3・・・・・・メ
ッキ孔、4・・・・・・被メッキ金属板、5・・・・・
・上マスク治具、6・・・・・・裏面マスクゴム、7・
・・・・・持ち上げ手段、8・・・・・・ローラ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 複数のメッキ孔を有するメッキ面マスクゴムの上にリー
    ドフレームなどの被メッキ金属板を裏面を上にして載せ
    、この被メッキ金属板上に設置した上マスク治具の下面
    に、下降時に前記被メッキ金属板の裏面をカバーする裏
    面マスクゴムを張ったスポットメッキ装置において、前
    記上マスク治具に、その上昇時に被メッキ金属板を持ち
    上げて、その被メッキ金属板をメッキ面マスクゴムから
    離す持ち上げ手段を設けたことを特徴とするスポットメ
    ッキ用マスク装置。
JP29822485A 1985-12-27 1985-12-27 スポツトメツキ用マスク装置 Pending JPS62156290A (ja)

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JP29822485A JPS62156290A (ja) 1985-12-27 1985-12-27 スポツトメツキ用マスク装置

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JP29822485A JPS62156290A (ja) 1985-12-27 1985-12-27 スポツトメツキ用マスク装置

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JPS62156290A true JPS62156290A (ja) 1987-07-11

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JP (1) JPS62156290A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6656275B2 (en) * 2000-04-27 2003-12-02 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Partial plating system
CN107354491A (zh) * 2017-07-03 2017-11-17 富加宜连接器(东莞)有限公司 一种均匀镀膜方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6656275B2 (en) * 2000-04-27 2003-12-02 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Partial plating system
CN107354491A (zh) * 2017-07-03 2017-11-17 富加宜连接器(东莞)有限公司 一种均匀镀膜方法
CN107354491B (zh) * 2017-07-03 2019-03-22 富加宜连接器(东莞)有限公司 一种均匀镀膜方法

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