JPS6219593A - 新規セフエム化合物 - Google Patents

新規セフエム化合物

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JPS6219593A
JPS6219593A JP60157005A JP15700585A JPS6219593A JP S6219593 A JPS6219593 A JP S6219593A JP 60157005 A JP60157005 A JP 60157005A JP 15700585 A JP15700585 A JP 15700585A JP S6219593 A JPS6219593 A JP S6219593A
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JP
Japan
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isomer
methoxyimino
cephem
aminothiazol
group
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Application number
JP60157005A
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English (en)
Inventor
Kunio Atsumi
渥美 国夫
Kenji Sakagami
坂上 健司
Yuichi Yamamoto
雄一 山本
Takashi Yoshida
隆 吉田
Takeshi Nishihata
西端 健
Shinichi Kondo
信一 近藤
Shunzo Fukatsu
深津 俊三
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Meiji Seika Kaisha Ltd
Original Assignee
Meiji Seika Kaisha Ltd
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Publication date
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Priority to EP85401741A priority patent/EP0175610B1/en
Priority to KR1019850006526A priority patent/KR890001196B1/ko
Priority to ES546749A priority patent/ES8704955A1/es
Priority to DE8585401741T priority patent/DE3579399D1/de
Priority to AT85401741T priority patent/ATE56017T1/de
Publication of JPS6219593A publication Critical patent/JPS6219593A/ja
Priority to US07/036,124 priority patent/US4839350A/en
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    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野〕 本発明は新規なβ−ラクタム系抗菌性化合物。
ならびにその医薬として許容さnる塩及びエステル類に
関する。さらに詳細には1本発明は、抗菌活性を有する
新規なセファ′6スポリン系化合物。
ならびにその医薬として許容される塩及びエステル1び
にその抗菌剤組成物に関する。
(従来の技術及び発明が解決しようとする問題点)本発
明の新規セフェム化せ物の近縁のβ−ラクタム系化合物
としては、たとえば、特開昭!j−/211790β−
報、特開昭Jt−/22JrJ号公報及び特開昭!ター
フ4Or3号公報に記載されるごとき化合物が知らnて
いる。これらの既知の近緑化合物と同様に、本発明化付
物はセフェム環の3位にβ−置換ビニル側鎖を有するが
1本発明化合物は、とnら既知の近緑化付物と3位ビニ
ル側鎖上のβ−置換基の稽類が相違して3位にβ−(置
換又は非置換チアゾリルノビニル基を有する新規セファ
ロスポリンである。
セファロスポリン系抗生物質はダラム陽性菌。
ダラム陰性菌に対し広い抗菌活性1示し、すでに種々の
半合成セファロスポリン系化合物が市販さ1、各種感染
性疾病の治療剤として臨床的に用いられている。しかし
ながら、これらの既知の化曾物の中で緑膿菌や変形菌に
・、荊して抗菌活性、誉示して治療上実用できる化合物
は数少ない。またこnらの既知の化合物は、耐性菌によ
り産生さnるβ−ラクタマーゼに対して不安定であり、
現在臨床上問題とされている耐性菌に対する抗菌活性が
低い等の欠点がある( W、 ’Er、 Wick 、
 ” 0ephalospori −ns and P
en1c目fins 、 Chemistry and
 Biology”。
L H,Flynn編、 Academic Pres
s、 New York、 NeY11り72.第1 
/*)。
(問題点を解決するための手段1作用及び効果)本発明
者らは、後記一般式(I)で示さnる新規セフェム系化
合物を曾成することに成功し、そnがきわめて広範囲の
抗菌スペクトルを有し、ダラム陽性菌のみならず、ダラ
ム陰°性菌及びさらに耐性菌に対しても強い抗菌活性を
示すこと、しかも低毒性で経口投与ま7′Cハ非経口投
与で工く吸収さnること且つ体内で抗菌活性を失うまで
分解することが少なく1抗菌効果音体内で長く発揮でき
ることを見いだして本発明を完成した。
すなわち1本発明は次式(1) 〔式中、Rflアミノ基又は保護さfしたアミノ基であ
り;R2は低級アルキル基であり:R3は水素原子。
塩生成カチオン又はカルゼキシル基保護基であV:R4
は水素原子、低級アルキル基又はハロゲン原子であり:
Rは水素原子であるか又はRはRと同−又は異なっても
1い低級アルキル基、又はハロゲン原子を表わす〕で示
される新規セフェム化合物(シン異性体)、又はその薬
学的に許容できる塩又はエステル會提供するものである
。
本発明化合物(1)において、セフェム環の3位ビニル
基のβ位に結合しているチアゾリル基は、そのチアゾー
ル環上に全く置換基をもたないチアゾール−ノーイル基
、チアゾールーグーイル基又はチアゾール−!−イル基
であるか、若しくは一一征級アルキルチアゾールー!−
イル基、 4cmハロチアゾール−!−イル基あ′るい
はコツグー、・ジノ10チアゾール−!−イル基である
のが好ましい。
本発明化合物には、3位の置換ビニル基上の置換基が該
ビニル基の2型詰合を中心として配位する立体位置の相
違に依存してシス異性体及びトランス異性体があり、本
発明化合物はシス異性体。
トランス異性体又はそnらの混会物を包含する。
上記及び下記の説明において種々の定義に含まnる適当
な例について詳細に説明すると次のとうりである。
低級アルキル基の「低級」なる語は特にことわらない限
り炭素原子i−を個を意味するものとする。Rについて
、保護さflatアミノ基におけるアミノ基の保護基と
は、第3級ブトキシカルゼニル基のごトキアルコキシカ
ルゼニル基、又はホルミル、クロロアセチルのごときア
シル基、もしくはトリチル基など、酸加水分解等にエリ
容易に脱離できる通常のアミン保護基である。TL3が
塩生成カチオンである場合、アルカリ金属塩、アルカリ
土類金属塩、アンモニウム塩等のカチオンが挙げらnる
。またRがカル?纜、シル保護基である場合。
か\る保護基としてはアリール基、低級アルキル基、低
級アルコキシメチル基、低級アルキルチオメチル基、低
級アルカノイルオキシメチル基等。
通常セファロスポリンに用いられる保護基が挙げられる
。さらに生体内で加水分解し、除去し得る代謝上不安定
な保護基も含まn、このような保護基の例としては低級
アルコキシカルゼニルオキシアルキル基、低級アルキル
カルゼニルオキシアルキル基及び置換基を有してもよい
(2−オキソ−゛/、J−ジオキソレンー仏−イルノメ
チル基などが挙げらnる。R又は/及びRがハロゲン原
子である場合、か\るハロゲン原子としてはフッ素原子
、壇素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられるが塩素
原子が好ましい。
本発明の化合物の具体例として[,7−[ノーメトキシ
イミノ−2−(コートクチルアミノチアゾール−μmイ
ルノーアセトアミド)−3−(X−(チアゾールーノー
イルλビニル〕−3−セフェム−μmカルゼン酸シフェ
ニルメチルエステル(シン異性体ノ、7=智−メトキレ
イミノ−2−(ノーアミノチアゾールー弘−イルフーア
セトアミド)−j−[−2−(チアゾール−ノーイルノ
ビニル〕−3−セフェム−μmカルゼン酸(シン異性体
)、7−〔ノーメトキシイミノ−,2−(、?−トリチ
ルアミノチアゾールーl−イルノーアセトアミド]−j
−[”ノー(チアゾール−μmイルノ♂ニル〕−3−セ
フェム−弘−カルゼン酸p−メトキシベンジルエステル
(シン異性体)(シス異性体>、7−(ノーメトキシイ
ミノ−2−(ノーアミノチアゾールーダーイルフーアセ
トアミド〕−3−〔ノー(チアゾール−弘−イル)ビニ
ル〕−3−セフェムー≠−カルゼン酸ナトリウム塩(シ
ン異性体)(シス異性体J、7−(ノーメトキシイミノ
−2−(ノーアミノチアゾールーμ−イル]−アセトア
ミド]−J−(J−(チアゾールーグーイルノヒニル〕
−3−セ7エムーグーカルゼン酸ピパロイルオキシメチ
ルエステル(シン異性体)(シス異性体)、7−〔ノー
メトキシイミノーノー(ノートリチルアミノチアゾール
−μ−イルノーアセトアミド3−J−Cノー(ノーメチ
ルチアゾールー!−イルノビニル〕−3−セフェム−≠
−カルゼン酸ジフェニルメチルエステル(シン異性体)
(シス異性体、トランス異性体。
又はシス体−トランス体混合物J、7−(J−メトキシ
イミノ−ノー(ノーアミノチアゾール−l゛ −イル2
−アセトアミド〕−J−C2−<ノーメチルチアゾール
−よ一イルλビニル〕−3−セフェムーl−カルゼン酸
ナトリウム塩(シン異性体)(シス異性体、トランス異
性体、又はシス体−ト、ランス体混曾物)、7−〔ノー
メトキシイミノ−2〜(ノーアミノチアゾールーμmイ
ルンー7セトアミド)−3−Cノー(ノーメチルチアゾ
ール−よ一イルノヒニル〕−3−セフェムー弘−カルゼ
ン酸(,1−メチルーノーオキソー/、3−ジオキソレ
ン−t−イルツメチルエステル(シン異性体)(シス異
性体、トランス異性体、又はシス体−トランス体混合物
7.7−(λ−メトキシイミノー2−(ノーアミノチア
ゾール−μmイルノーアセトアミド)−J−C−2−(
≠−メチルチアゾールー!−イルノビニル〕−3−セフ
ェ、A−≠−カルゼン酸(!−メチルーノーオキンー/
、J−ジオキンレンー弘−イルツメチルエステル(シン
異性体〕(シス異性体、トランス異性体、又はシス体−
トランス体混合物)、7−(J−メトキシイミノ−2−
(ノートリチルアミノチアゾール−l−イルノーアセト
アミド)−J−(ノー(チアゾール−よ−イルJビニル
〕−3−セフェム−≠−カルゼン酸ジフェニルメチルエ
ステル(シン異性体)(シス異性体)、7−1’a−メ
トキシイミノーコ−(ノーアミノチアゾール−μmイル
ノーアセトアミド)−J−Cノー(チアゾール−!−イ
ルフヒニル〕−3−セフェム−μmカルゼン酸ナナトリ
ウム塩シン異性体)(シス異性体)、7−〔ノーメトキ
シイミノーコ−(ノーアミノチアゾールー≠−イルノー
アセトアミド)−J−(ノー(チアゾール−!−イルノ
ビニル〕−3−セフェム−≠−カルボン酸ヒバロイルオ
キシメチルエステル(シン異性体)(シス異性体)、7
−(、,2−メトキシイミノ−ノー(ノートリチルアミ
ノチアソール−l−イルノーアセトアミド〕−3−〔λ
−・<a−クロルチアゾール−!−イルノヒニル〕−3
−セフェム−μmカルゼン酸p−メトキシベンジルエス
テル(シン異性体)(シス異性体)。
7−〔λ−メトキシイミノー2−(ノーアミノチアゾー
ルーl−イルノーアセドアεド)−J−(,2−(4A
−クロルチアゾール−!−イル)ビニル)’−J−セフ
ェムーμ−カルゼン酸ナトナトリウム塩ン異性体)(シ
ス異性体)、y−〔x−メトキシイミノーコ−(λ−ア
ミノチアゾールーμ−イル]−アセトアミド)−J−(
ノー(4!−クロルチアゾール−!−イル〕ヒニル〕−
3−セフエムーダーカルゼン酸ピパロイルオキシメチル
エステル(シン異性体)(シス異性体)、7−〔ノーメ
トキシイミノーコ−(−一トリチルアミノチアゾールー
ダーイル]−アセトアミド)−J−(J−(J、4(−
ジクロルチアゾール−!−イルノビニル〕−3−セフェ
ム−←カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(シン
異性体)(シス異性体)。
7−(,2−メトキシイミノーコ−(λ−アミンチアソ
ールー弘−イルλ−アセトアミド]−’J−〔ノー(コ
9μmジクロルチアゾールー!−イル]ビニル〕−3−
セフェム−μmカルゼン酸ナナトリウム塩シン異性体)
(シス異性体)、及び7−〔ノーメトキシイミノ−2−
(ノーアミノチアゾールー弘−イルノーアセトアミド)
−J−(ノー(2+μmジクロルチアゾール−!−イル
λビニル〕−3−セフェム−弘−カルゼン酸ピパロイル
オキシメチルエステル(シン異性体)(シス異性体ン等
が挙げられる。
本発明の化合物はつぎの方法によって製造し得る。
すなわち、式(I)の化付物は次式〇 〔式中 R3、R4及びR5は前記と同意義である〕で
示さnる化合物、もしくはそのアミノ基における反応性
誘導体又はそれらの塩K。
次式[相] 〔式中 al及びR2は前記と同意義である〕で示され
る化合物もしくはそのカル−キシル基における反応性誘
導体又は七nらの塩を反応せしめることから成る方法!
/c1つて製造できる。化合物■のアミノ基における反
応性誘導体の適当な例としては。
化合物■とアルデヒド、ケトンなどのようなカルゼニル
化会物との反応によって生成したシッフ塩基型のイミノ
又はその互変異性であるエナミン型異性体;あるいは化
合物■とビス(トリメチルシリルノアセトアミドなどの
工うなシリル誘導体;あるいは化合物(IDと三塩化リ
ン又はホスゲンとの反応によって生成した誘導体などが
挙げらする。
化合物■および曇の適当な塩としては、有機酸との塩(
たとえば酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、ベンゼンス
ルホンIi塩m )ルエンスルホン酸塩などノ又は無機
酸との塩(たとえば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リ
ン酸塩など)のような酸。
付加塩:アルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩(7
2:とえばナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、
マグネシウム塩など)のような金属塩;アンモニウム塩
;有機アミン塩(次とえばトリエチルアミン塩、ジシク
ロヘキシルアミン塩など)などが挙げらnる。
化合物[相]のカルゼキシル基における反応性誘導体の
適当な例としては、酸ハロゲン化物、酸アジド、酸無水
物、活性アミド、活性エステルなどがあげら九、さらに
詳細には、酸塩化物、酸臭化物:置換リン酸(たとえば
ジアルキルリン酸、ジベンジルリン酸、ハロゲン化リン
酸など)、ジアルキル亜すン酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫
酸、炭酸アルキル(′fcとえば炭酸メチル、炭酸エチ
ルなど)、脂肪族カルゼン酸(たとえばピパリン酸、吉
草酸。
イソ吉草酸、ノーエチル酢酸。トリクロロ酢酸など)又
は芳香族カルゼン酸(たとえば安息香酸など)のような
酸との混合酸無水物;イミダゾール。
ジメチルピラゾール、トリアゾール又はテトラゾールと
の活性アミド:又は活性エステル(′fe、!−、tば
シアノメチルエステル、メトキシメチルエステル、ジメ
チルイミノメチル((OH3)2N=OH−)エステル
、ヒニルエステル、ソロノソキルエステル、p−ニトロ
フェニルエステル、22μmジニトロフェニルエステル
、トリクロロフェニルエステル。
ペンタクロロフェニルエステル、メシルフェニルエステ
ル、フェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエス
テル、p−ニトロフェニルチオエステル、p−クレジル
チオエステル、カルゼキシメチルチオエステル、ヒラニ
ルエステル、ヒリジルエステル、ピペリジルエステル、
r−キノリルチオエステルなど)、もしくiN−とドロ
キシ化合物(たとえば、N、N−ジメチルヒドロキシア
ミン、l−ヒドロキシ−ノー(/)lノーピリドン。
N−ヒドロキシスクシンイミド、N−ヒドロキシ7タル
イミド、l−ヒドロキシ−6−クロロ−/H−ベンゾト
リアゾールなどノとのエステルなどが挙げられる。こn
らの反応性誘導体は使用すべき反応剤化合物(IllD
σ種類によって適宜選、択される。
この化合物(IDと[相]との反応は1通常、水、アセ
トン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホルム、塩
化メチレン、テトラヒドロ7ラン、酢酸エチル、N、N
−ジメチルホルムアミド、ピリジンのような慣用溶媒又
はこの反応に悪影響上寿えない他の有機溶媒中で台なわ
nる。これらの溶媒は水と混会して使用しても工い。
この反応に於いて、化合物a[Dを遊離酸の形又は塩の
形で使用する場合、縮会剤としてハ、りとえばN 、 
N’−ジシクロへキシルカルデジイミド:N−シクロヘ
キシル−N′−モルホリノエチルカルセジイミド:N−
シクロヘキシル−N’−<a−)エチルアミノシクロヘ
キシルノカルゼジイミド;N。
N′−ジメチルホルムアミド: N 、 N’−ジイソ
プロピルカルゼジイミド:N−エチル−N’ −(J 
−ジメチルアミノプロピル]カルゼジイミド;N。
N−カルブニルビス(ノーメチルイミダゾールン;ペン
タメチレンケテン−N−シクロヘキシルイミン;ジフェ
ニルケテン−N−シクロヘキシルイミン:エトキシアセ
チレン;l−アルコキシ−l−クロロエチレン:亜リン
酸トリアルキル;ポリリン酸エチル;ポリリン酸イソプ
ロピル;オキシ塩化リン;酸塩化りン;塩化チオニル;
塩化オキザ1) /l/ : ) IJフェニルホスフ
ィン;ノーエチルー7−ヒドロキシペンズインキサゾリ
ウム塩:ノーエチルー!−(m−スルホフェニルノーイ
ンキサゾリウムヒドロキシド分子内塩’e ’ −(p
−クロロベンゼンスルホニルオキシノ−6−クロロ−1
H−ヘンシトリアゾール:ジメチルホルムアミドと塩化
チオニル、ホスゲン、オキシ塩化リンなどとの反応によ
って得られるいわゆるグイルスマイヤー試薬などが挙げ
られる。
この反応は、また無機塩基又は有機塩基の存在下に行な
ってもよく、この工つな塩基の例としては、炭酸水素ア
ルカリ金属(たとえば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウムなど]、炭酸アルカリ土類金属(たとえば炭酸カ
ルシウムなど)、トリ(低級ノアルキルアミン(たとえ
ばトリエチルアミン、トリメチ、ルアミンなどン、ピリ
ジン、N−(低級ノアルキルモルホ゛リン、N、N、J
−−7(低級ノーアルキルベンジルアミンなどが挙げら
nる。
反応温度は特に限定さ九ず1反応は通常、冷却下ないし
加温下に行なわれる。
なお、以上の反応で得られた本発明の化合物(1)にお
いて、必要であnば、常法に従い、カルゼキシル保護基
及び/又にアミン保護基の除去を行っても工〈、また必
要に応じてカルゼキシル基の代謝上不安定な無毒性エス
テル基への変換を行なっても工い。カル−キシル保護基
及び/又はアミノ保護基の除去の方法は脱離さする保護
基の種類にニジ適宜選択さnる。アミノ保護基の脱離反
応には加水分解、還元及び保護基がアシル基である化合
物に対してはイミノハロゲン化剤1次いでイミノエーテ
ル化剤を作用させた後、必要に応じて加水分解する方法
等の慣用される任意の方法全適用できる。酸を用いた加
水分解の方法は一般的な方法の一つであり、7cとえば
アルコキシ力ルゼニル基、ホルミル基、トリチル基等の
基の脱離に適用さnる。また使用さnる酸としては、ギ
酸、トリフルオは酢酸、塩酸等がアミン保護基の種類に
応じて適宜選択され為。反応は無溶媒下でも又は水、親
水性有機溶媒もしくはそれらの混曾洛媒の存在下でも行
なうことができる。またトリフルオロ酢酸を用いる場合
はアニソールの存在下に反応ケ行なってもよい。カルゼ
キシル保護基の脱離反応には加水分解、還元等の慣用さ
nる任意の方法を適用できる。酸を用い次加水分解は一
般的方法の一ツテ4 g 、ycとえばシリル基、ジフ
ェニルメチル基等の基の脱離に適用さnる。又代謝上不
安定なエステル化の方法はそれ自体公知の慣用さnる方
法、たとえばカルゼン酸の金属塩とピパロイルオキシメ
チルハライド等の相蟲するアルキルハライド等を溶媒中
で反応させる方法である。
目的化合物(1)の医薬として許容さ九る塩の適当な例
は通常の薬学的に許容できる非毒性の塩であり、そのよ
うな塩としてはアルカリ金属塩(たとえばナトリウム塩
、カリウム塩など)及びアルカリ土類金属(feとえば
カルシウム壇、マグネシウム壇など]のような金属塩、
アンモニウム塩、有機塩基との塩(4とえはトリエチル
アミノ塩、トリメチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン
塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N、N’−ジベンジル
エチレンジアミン塩、有機酸との塩(7tとえば酢酸塩
、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタ
ンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩。
ギ酸塩、トルエンスルホン酸塩など〕、無機酸との塩(
たとえば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩。
リン酸塩などン、またアミノ酸との塩(たとえばアルギ
ニン塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩〕などが含
まれる。
次に本発明化合物のうち若干の化合物について薬理作用
をしめす。
/ノ抗菌作用 第1表に寒天希釈法にニジ測定した最小発育阻止濃度を
示した。
、2)尿中回収率 供試化合物をマウス(IOR″41雄性、4を退会)1
匹当たり−0,3qの投与量で経口投与し、尿中回収率
を求め穴。その結果を第2表に示す。
なお、供試化合物はいずれも吸収後に生体内で2位カル
ゼン酸基上のエステル基が容易に脱離し。
対応する遊離のカルゼン酸となるので、尿中に排泄され
た遊離のカルゼン酸の形の本発明化合物を定量し、尿中
回収率とした。尿中回収率が高いことは、供試化合物が
体内で抗菌活性を失うまでに分解する量が低いことを示
す。
投与方法:供試化合物fO02*OMO水溶液に懸濁し
た後、経口投与した。
定量方法:ぺ−1R−ディスク法(検定菌:E。
coliK−/コ tコ34)により尿中の供試化合物
の量を測定した。
第  λ  表 O−μ時間 3例平均 本発明の目的化付物(り又はその医薬として許容される
塩又はエステルは、これを治療の目的で投与するにあた
っては、上記化合物全有効成分として含有し、経口投与
、非経口投与又は外用に適した有機又は無機、固体又は
液体の賦形剤などの医薬として許容される担体と混合さ
九て殺菌剤組成物の形に製剤化さfl、慣用の製剤の形
で投与できる。この1うな製剤としては、カプセル、錠
剤。
軟膏、座薬、溶液゛1懸濁液、乳剤などが挙げられる。
さらに必要によV前記製剤に補助剤、安定剤、湿潤剤又
は乳化剤、緩衝液その他の通常使用される添加剤を含゛
有させることができる。
実施例 つぎに本発明化合物(I)の製造を実施例にニジ説明す
る。また原料化合物(ID又は[相]の製造を参考例と
して示す。
参考例/ μmクロロ−!−チアゾールカルぎキシアルデヒドの製
造 ジメチルホルムアミP・(7J、/ f )に水冷下オ
キシ塩化リン(/2λ、7 f ) k滴下する。滴下
後30分攪はん後、チアゾリンーコ、4A−ジオン(2
3,弘2)を加え3時間100℃にて加熱する。
反応液を室温まで冷却抜水(200f)に注ぐ。
酢酸ナトリウムを加え中和した後、塩化メチレン(コO
O−≠回りにて抽出する。塩化メチレン溶液を小量の飽
和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄後。
無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下濃縮しシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:ベンゼン:酢
酸エチル=io:i)にて分離精製する。標題の化合物
(/、I O? )が淡黄色結晶として得らnた。
NMRδ値(CD(M3J  :  L? J  (/
 H、d  。
J=/Hz)、10.03(/H,d、J=/Hz)M
 S  m/e  / IL I (M  +/ )参
考例コ コ、<L−ジクロロ−よ−チアゾール力ルゼキシアルデ
ヒドの製造 ジメチルホルムアミド(7J、/ t )のジクロルエ
タン<−2oo、1)溶液に水冷下オ牛シ塩化リン(/
J2コ、7f)を滴下する。滴下後30分攪はんした後
、チアゾリン−一、クージオン(23,4LP)を加え
7時間加熱還流する。反応液を室温まで冷却後に氷(コ
00f)に注ぐ。酢酸ナトリウムを加え中和した後、塩
化メチレン(200ml、3回2にて抽出する。塩化メ
チレン溶液を小量の飽和炭酸水素す) +7ウム溶液で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下濃縮
しシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:ベン
ゼン:酢酸エチに= / 0 : / )にて分離精製
する。弘−クロロー!−チアゾールカルセ中ジアルデヒ
ド(0,3uf)及び標題の化合物(コ、o t y 
)が淡黄色結晶として得ら九た。
NMR,δ値(CDC23): タ、タ 0(/H,、
)M S  、(m/e) : ltコ (M+十/)
参考例3 p−メトキシベンジル 7−フェニルアセトアミド−3
−〔ノー(4C−クロロチアゾール−!−イルノビニル
〕−3−セフェム−μ−力ルゼキシレート(シス異性体
]の輿造 p−メトキシベンジル 7−フェニルアセトアミド−3
−クロロメチル−3−セ7エム−一一カルダキシレート
(j、2 Aj f 、 4.7 /ミリモルフとトリ
フェニに*スフイア (/J j P F 、 7.0
 !ミリモルノのジメチルホルムアミド(コO−]溶液
に室温にてヨウ化ナトリウム(1,Oj4?。
7.0 jミリモル)k加え2時間攪はんする。反応液
を減圧下に濃縮乾固し次に塩化メチレン(i。
−ノヲ加える。この溶液に参考例1で得たμmクロロ−
!−チアゾールカルゼキシアルデヒド(/、/ 00 
f ) f加え、次いで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
(/ 0rd)を加える。室温でt時間攪はん後に分液
し、水層は塩化メチレン(/ Odlにて抽出する。抽
出液を有機層と併せ無水硫酸マグネシウムで乾燥後に減
圧下濃縮し、和光グル0−300(tOf)t−用いた
フラッシュカラムクロマトグラフィー(溶出液二4ンぜ
ン:酢酸エチル=j 二/ Jにより単離精製する。標
題化付物(s、r P i t 、 7 a % )が
得らする。
NMRδ値(0DO1す:3./J’(/H,、、、d
 。
J ” / I Hz)  、 J、gコ(/ H、d
=/ rHz)。
Jj/  (2H,s  )   、J、7g(JH,
s  )   、!、00(/H,d、J=jHz  
)  、! 、04(2H,s  )  。
!J4A(/H,dd 、J=jl(j、9Hz)、t
、/4L(/H、d  、J=PHz) 、  J、、
27 (/ H、d  、 J=l コHg) 、A、
14  (/H、d  、J=−/2Hz)μ、7−4
.7  !  (2H、m  )  、   7.0!
  −7,4A  (7H、m  )sl、! 0  
(/ H、3) 参考例弘 p−メトキシベンジル 7−アミノ−3−〔λ−(≠−
クロロチアゾールー!−イル)ヒニル〕−3−セフェム
ーμ−カルゼキシレート(シス異2 性体]の製造 参考例3で得たp−メトキシベンジル 7−フェニル7
−にトアミl’−3−〔λ−(4L−クロロチアゾール
−よ−イルλビニル〕−3−セフェムーグーカル?キシ
レート(シスR性体) (−2,4’ jコf4t、コ
/ミリモルノの塩化メチレン溶液(10td)f−30
℃にて、五塩化り7 (J、A J Orlコ、t3ミ
リモルノとピリジン(J、4’+d、μλミリモルフの
塩化メチレン溶液(4’osg)に加える。
反応液を水冷下で3時間攪はん後、−3o℃に冷却した
メタノール(蓼Od J中に加え、室温にて1時間攪け
んする0次いで水冷下、飽和食塩水(700yd)及び
塩化メチレン(100−)中に加え/時間攪はんする。
分液後、水層t−壇化メチレン(j O、z )で抽出
し抽出液を有機層に会わせる。この有機層全飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液にて洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。
減圧下濃縮後に和光ゲル0−JOO(+109)f用い
たフラッシュカラムクロマトグラフィー(廖出液:ベン
ゼン:酢酸エチル=3:i)にLv単離精製する。標題
化付物(/、j4tJP  7タチノが得られる。
NMRa 値 (ooaz3〕 :  /、7  j 
 (2F(、broadS、〕 、j、J  0 (/
H,d  、  J=/rHz)  、  J、4t 
4t(/H,d、J==/J’Hz) 、  J 、7
 J (j Hg  8 )  +!、77(/H,d
  、J=J’Hz) 、4t、タ 7(/H。
d   、”  J=、rHx)   、   !、O
r  (,2H、s   )  、   13  /(
/H,d、J=/コH杉J、乙、夕!’(/H”wd+
J = / JHz〕 、4.7−AJ!(2H,m)
、7./−7,Jj(JH,mJ’、   !、!0(
/H,s  )参考例! p−メトキシベンジル 7−フェニルアセトアミF’−
J−[λ−(コ、弘−ジクロロチアゾールーz−イルン
ヒニル〕−3−セフェム−≠−カルゼキシレート(シス
異性体)の製造 p−メトキシベンジル 7−フェニルアセトアミド−3
−クロロメチル−3−セフェムーグーカルゼキシレート
及び参考例コで傅72:コ、4t−ジクロロー!−チア
ゾールカルぎキシアルデヒド1り、参考例Jと同様にし
て標題化付物(7rts)k得た。
NMRδ 値 (oDai3)  :   3−/  
 タ  (/)I、d、J=/l1lz)   、  
3,410(/H,d  、  J”:/KHz  )
  。
!、0/   (/H、d   、   J=jHz 
 )  、   S、Oタ  (2H。
s ) 、 しrl (/H,dd 、 J=jHz、
りkh)。
A、/  0 (/H,d、J=りH尤) 、t、コ2
  (/H。
d 、 J=/2Hz) 、 4.4c6 (/H,d
 、 J=/コHz)、7.7−7Jj(2H,m)、
7./−7,u! )。
(7H、m) 参考例t p−メトキシベンジル 7−アミノ−J−(J−(コ2
μmジクロロチアゾールー!−イルノビニル)’−J−
セフェムーμmカルゼキシレート(シス異性体)の製造 p−メトキシベンジル 7−フェニルアセトアミド−3
−〔ノー(コ、4L−ジ゛クロロチアゾール−!−イル
λビニル〕−3−セフェムー仏−カルゼキシレート(シ
ス異性体ン工り参考例μと同様にして標題化合物(73
憾)を得た。
NMRδ 値 (aoot3) :  iJ  O(2
H、broadS)、3.20(/H,d、J=/rH
1)、3.弘コ(/H,d 、J=/rHz)、!、7
j(JH,S)。
グ、7 タ (/H,d  、J=jHz)  、4A
、タ t  (i  H。
d 、J=!Hz)、!、10(2H,s )、A、コ
t(/H,d 、 J=L2Hz) 、 4,4<4<
(/H,d 。
J=/2Hz)、7.7−7、r!(AH,m)、7.
/−7,≠(7H、m) 実施例1 p−メトキシベンジル 7−〔ノーメトキシイミノーコ
−(コートリチルアミノチアゾールーμmイルノアセト
アミド]−3−(J−(弘−クロロチアゾールー!−イ
ルノヒニル〕−3−セフェム−μ−力ルゼキシレート(
シン異性体、シス異性体)の製造 p−メトキシベンジル 7−アミノ−3−〔ノー(4t
−クロロチアゾール−!−イルノビニル〕−3−セフェ
ム−μ−カルボキシレート(シス異性体)(/、コOJ
f、コ、t Oミリモル」と2−(ノートリチルアミノ
チアゾールノーλ−メトキシイミノ酢酸(シン異性体)
 (/、/ r J t 、 2.t Oミリモルノの
塩化メチレン溶液(JOml)に、−20”C:、にて
ピリジy (0,14’mj 、 / 0.IA ミ1
3%ルJ及びオキシ塩化リン(θ、Jjml、J、6≠
ミ1モルJt−順次加える。反応液t−θ℃にてコO分
間攪はん後、氷水(100dl)及び酢酸エチル(/ 
00yd)中に加え、攪はん後に有機層を分離する。有
機層管飽和炭酸水素す) IJウム水溶液にて洗浄し、
無水硫酸マ′グネシウムで乾燥する。減圧下濃縮後に和
光ゲル0−300(109)t−用い−fc7ラツシ二
カラムクロマトグラフイー(lW出液:ベンゼン:酢酸
エチル=j : / Jにより単離精製する。標題化合
物(/、l、t!f、72%)が得られる。
NMRδ 値 (0DO13) :  J、2 0  
(/  F(、d  、  J=/KHz) 、 3.
414A (/H、d 、 J==/ IHz) 。
7.74(JH,s)   、41.03  (JH,
s  )  、  37.07(−2H,s  )  
、! 、01r(/H,d、J=jHz)。
!、タ a  (t  H*  da  +  J =
’ Hz +  2Hz)、iJ  J(/H、d 、
 J=−/ 2H1) 、 A、jり(/H,d。
J=/JHz  )  、   17 − 7.44 
 (J  2  H、m  )  、  r、t。
(/ H、s) 実施例コ アー〔ノーメトキシイミノーλ−(ノーアミノチアゾー
ルーグーイルノアセトアミド〕−3−〔ノー(弘−クロ
ロチアゾール−よ一イルフヒニル〕−3−セフェムーμ
−カルデン酸ナトリウム(シン異性体、シス異性体)の
製造 p−メトキシペン゛・シル 7− (’:x−メトキシ
イミノーコー(ノートリチルアミノチアゾール−≠−イ
ルノアセトアミド)−J−(ノー(≠−クロロチアゾー
ルー!−イルノヒニル〕−3−セフェム−弘−カル−キ
シレート(シン異性体、シス異性体)(o、r J−a
 t 、 o、りt2ミリモルノのアニソールC−2m
1)溶液に水冷下トリフルオロ酢酸(rtd)’11−
滴下する。水冷にて7時間攪はん後。
インプロピルエーテル(!0td)f加える。生じた沈
殿愛ろ取しイノプロピルエーテルで洗浄し。
減圧下乾燥する。標題化合物(カルゼン酸)がトリフル
オロ酢酸塩として得られる( O6j r & ? )
。
こnに水(3−)と炭醗水素す) IJウム(O,1j
fat?加え溶かしダイヤイオンHP −J Oレジン
(三菱化成〕のカラムにニジクロマトグラフィーで単離
精製する(溶出液:水、次いで30%アセトン水)。目
的物を含む分画を減圧下濃縮後に凍結乾燥する。標題化
合物(Oo、μJJf、?λ%)が得られる。
NMRδ値(D20) : J、グJ(/H,d、J=
/KHz ノ  、!、70(tH,d、J=/rHz
)。
41.OJ  (JH,S)、1.172  (tH,
d、J=jHz) 、  j、FO(/  H、d  
、  J=!Hz)  、  A’、<41(tH,d
、J=/2Hz)、A、7/(tH,rl。
J =/ J Hz )  +  7− □ A  (
’ H、s  )  *  ’ −1’ 7 (’H−
) 実施例3 ピパロイルオキシメチル 7−[2−メトキシイミノ−
2−(ノーアミノチアゾールー弘−イルじアセトアミド
)−J−(λ−(μmクロロチアソール−よ−イルフビ
ニル〕−3−セフェムーμ−カルゼキシレート(シン異
性体、シス異性体)の製造 7−〔ノーメトキシイミノ−2−(2−アミノチアゾー
ル−≠−イルノアセトアミド]−J−(2−(弘−クロ
ロチアゾール−よ−イルノビニル:−3−セフエムー弘
−カルゼン酸ナトリウム(シン異性体、シス異性体](
o、i oμf 、 0./♂rミリモルモルジメチル
ホルムアミド(JdJjIi液に、水冷下ピパリン酸ヨ
ードメチル〔ピノマりン酸クロロメチル(0,/ 41
 / t 、 0.2μミリモルノとヨウ化ナトリウム
(Oo−♂コF 、 i、r rミリモルノをアセトン
中で反応させ得たもの〕のジメチルホルムアミF′(/
 m/ )溶液を加え/θ分間攪はんする。反応液に氷
水(20−)と酢酸エチル(−20−)1加え良く攪は
んした後分液する。有機層を水(10ad、2回)及び
飽和食塩水(/ Omt)で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。減圧下濃縮後に和光ゲルa−3oo 
(iot )2用いたフラッシュカラムクロマトグラフ
ィー(W!I出液:酢酸エチルJにより単離精製する。
標題化合物(o、りμOf、71チノが得られる。
NMR,δ値C0DO13) ; /、/ J (りH
t ’ ) w3.30 (tH,d 、 J=/KH
z) 、 J、j/ (tH。
・  d   、   J=/  rHz  )  、
   、t、/7(tH,d、J::jHz ハl  
j、弘j(2H,broads)、!、7j(/H+d
*J=6 H2)   、  J、lr  O(/  
H、d  、  J=jHz  )  。
4.04(tH,a  d 、J−=tHz、  2H
z)、A、4AO(tH,d、J=/コHz)、t、A
A(tH,d。
J=/2Hz)、&、7r(tH,s)、7.6!(t
H,d、J=2Hz)、lr、ju(tH,s)実施例
弘−タ 下記化合物を実施例1と同様の方法に工って製造した。
実施例弘 ジフェニルメチル 7−〔ノーメトキシイミノーコ−(
2−トリチルアミノチアゾール−μmイルノアセトアミ
ド’3−j−Cコー(チアゾール−λ−イルノヒニル〕
−3−セ7エム−グー力ルゼキシレート(シン異性体、
トランス異性体)の製造 収率  72係 NMRa 値 (ODCt3) ; 3.弘 j  (
tH,d 、J=/J’HzJ 、J、A7(tH,d
 、J=/KHz)。
!、O&(JH,s)、!、/J(tH,d、J:=j
Hz)、j、タ 7  (tH、d  d  、J=j
Hz、  2Hz)。
t、シ”(’H*   a  )   +  IIG−
7J  (tH,s  )   、  AJ!(tH,
s   )  、   t、F  −7,シr  (2
P  H、m  )   、   7,7u(tH,c
f、J=jHz) 実施例! ジフェニルメチル・−、、7−(ノーメトキシイミノ−
2−(2−トリチル゛アミノチアゾールー≠−イル)ア
セトアミド)−3−(x−(x−メチルチアゾール−よ
−イルノヒニル〕−3−セフェム−μ−力ルゼキシレー
ト(シン異性体、トランス異性体]の製造 収率  61r係 NMI’L    δ 値 (cDct3) ;  x
、 乙 3  (J  H、s  ) 。
3J/s(λH,broad 、 s ) 、 101
7(JH,s)。
j、06 (tH,d 、 J=!Hz) 、 j、I
re (tH。
dd、J=jHz、  9Hz)、6.73  (tH
,s )。
A、lr2  (/  H、d、J=/AHz)、t、
タ r  (tH。
3  )  、   7.0 − 7.t  (H,2
タ  、  m  )実施例6 ジフェニルメチル 7−(J−メトキシイミノ−2−(
2−)リチルアミノチアゾールー弘−イルノアセトアミ
ド)−J−(u−(2−メチルチアゾール−s−イル〕
ヒニル〕−3−セフェム−φ−カル日?ギシレート(シ
ン異性体、シス異性体)の製造 収率  7乙係 N  M  Rδ イ直 C0DOL、ノ :jj  
O(JH,sJ。
J、J7(jH,d  、J−=/rHz)  、J、
ui  (jH。
d、J=/J’Hz) 、μ、O#  (jH,aJ、
j、/d(/ H、d  、J=!Hz)、!、り7(
jH,dd。
J  =  j Hz’  、  2Hz) 、t、/
3(jH,d、J=/  コHz)、i@/(jH,d
、J−=/−2Hz) 、  A、7 /(jH,s)
、4JJ(jH,s)、A、タ − 7.3(21rH
,m) 実施例7 p−メトキシベンジル 7−(J−メトキシイミノ−2
−(2−トリチルアミノチアゾール−弘−イルノアセト
アミド)−j−[”ノー(チアゾールーグーイルノヒニ
ル〕−3−セフェム−仏−カル?キシレート(シン異性
体、シス異性体)f)製造 収率  yzqb NMRδ値C0DOL、) : J、4tO(/ H、
d 。
J=/fHz  ) 、JjJ(jH,d、J=/rH
x) 。
、J、77(JH#l!  )  、  u 、Ou 
 (JH、s  )   、   j、10(jH,d
  、J=1Hz)、j、/  /  (コH、、s 
 )  。
jJり(/ H、d d 、 J=jHz、 9’Hz
) 、 6.13(JH,3)   、  t、7−7
、!(2JH,m)   、  rjj(jH,d、J
=2H1) 実施例r ジフェニルメチル 7−[”J−メトキシイミノーー−
(コートリチルアミノチアゾールーグーイルファセトア
ミド)−3−(ノー(チアゾール−z −イル) ヒニ
ル〕−3−セフェムーμ−力ルゼキシレート(シンJ1
体、シス異性体)の製造収率  6り憾 NMRδ値LODOt、) : J、コア(/)(、d
。
J=/rHX)  、  J、弘 4  (jH,d 
 、  J=/rH1)。
u、04A  (/  H、d  、J==jHz )
  、j、タ 4(jH。
’  d  d  、  J =jHz、  2Hz)
 、フ、コ J(jH,d、J==/ 2Hz)、&J
O(jH、d  、J=/ 2Hz) 。
4.7/(jH,a)t4.ざ 3 (’H+s)+’
−ター 7− !  (j  7  He  m ) 
  e   7− t  /   (/  H+   
s  )  。
IJ 7 (/ H、s ) 実施例り p−メトキシベンジル 7−〔ノーメトキシイミノーノ
ー(ノートリチルアミノチアゾールー≠−イルノアセト
アミド)−J−(−2−(コ、4L−シクロロチアゾー
ル−J−/fルノヒニル)−j−セフェム−グーカル−
キシレート(シン異性体。
シス異性体)の製造 収率  11% NMRδ値(OD(M3J : J、コ/(jH,d。
J=/ KHz) 、 !、4Cコ(jH,d 、 J
=/KHz)。
J、74(JFf、sJ、!、θ e  (J  H、
s  〕  。
1.0  タ (/ H、d  、J=!Hz) 、j
、//(コH、s)。
!、タ j(jH,d d 、J=−tH,、2Hz)
  、t、J  !(jH,d  、J=/2Hz) 
 、i4L 7(jH,d  。
J=/コHz)、6.7−7.44(JJH,m)実施
例10−/! 下記化置物(す) IJウム塩又はトIノフルオロ酢酸
塩)全実施例コと同様の方法に工って製造した。
実施例10 7−〔ノーメトキシイミノーー−(ノーアミノチアゾー
ルーl−イルノアセトアミド〕−3−〔ノー(チアゾー
ルーノーイルノビニル°)−3−セフェム−弘−カルジ
ン酸ナトリウム(シン異性体、トランス異性体)の製造 収率  rxts NMRa値(D20.): J、♂コ(2H、broa
d *s ) 、 4C1(7J (J H、@ ) 
、 j 、J j (’ H+ d rJ=!H1) 
、 !、lr j (/ H,d 、 J=jHz) 
。
6、タ タ (jH,d、J=/4Hz) 、  7.
OJ  (/  H。
s ) 、 7.4AA (jH,d 、 J=/AH
z)、 7.IIり(/ H、d  、J=JHz) 
、  7.74  (/ H、d  、  J= J 
Hz ) 実施例1/ 7−〔ノーメトキシイミノ−2−(ノーアミノチアゾー
ルー弘−イルノアセトアミド〕−3−(コ−(2−メチ
ルチアゾール−!−イルノビニル〕−3−セフェム−グ
ーカルボン酸トリフルオロ酢酸塩(シン異性体、トラン
ス異性体)の製造収率  rr係 NMRa値(OD3SOOD3);コ、6コ(3H,s
)。
j、7  j  (2H、broad   、   s
   )  、、i 、r、i<  3 H,s)。
j、/ r  (/ H、d  、了=!Hz) 、 
 j、7 t (/ H。
d  d  、J=jHz、  2Hz) 、A、7j
(jH,s ) 。
7、/j(2H,s  )   、   7j  O(
jH,s  )  、  タ3r(jH,d、J= 2
Hz) 実施例/、2 7−[,2−メトキシイミノ−2−(ノーアミノチアゾ
ールー≠−イルファセトアミド〕−3−(,2−(J−
メチルチアゾール−j−イルλビニル〕−3−セフェム
−μ−カルPン酸トリフルオロ酢酸塩(シン異性体、シ
ス異性体)の製造収率  71俤 NMRδ値(CD、5OOD3) ;コ、jり(jH。
s ) 、j、4(/ (jH,d 、J=/1rHz
) 、 JJJ(jH,d  、J=irHz)、J、
I4A  (JH,s  ) 。
!、2♂(jH,d、J=rHz)、!、12(jH。
d  d  、J=jHz、J=りHz)、JJJ(j
H。
d、J=/2Hz) 、4.jj(jH,d、J=/J
H1) 、 4.73 (/F(、S ) 、 7.j
7(jH,8)。
9.60(jH,d、J=りHz) 実施例13 7−(X−メトキシイミノ−2−(27アミノチアゾ一
ルーμmイルノアセトアミド〕−3−〔ノー(チアゾー
ル−μmイルノビニル)−3−セフェム−μmカルゲン
酸ナトリウム(シン異性体、シス異性体)の製造 収率  ハI NMRδ 値 (D20) ; 3.弘 j(jH,d
、J=/rHz) 、 Ljr (jH,d 、 J=
/rHz) 。
4A 、03(JH,s)、!、J!   (jH,d
、J=jHz)  、  !、r  II  (/  
H、d  、  J=jHz ) 、J、tJ(jH,
d  、J=/uHz) 、  A、y  t  (i
  H、d。
J=/2Hz)   、   7.06  (jH,s
  )   、   7.jj(/ H、d  、J=
=JHz) 、r、タ タ(jH,d。
J=2Hz) 実施例1μ 7−〔ノーメトキシイミノーノー(2−アミノチアゾー
ル−≠−イルノアセトアミド〕−3−〔2−(チアゾー
ル−よ−イルノビニルツー3−セフェム−μmカルボン
酸ナトリウム(シン異性体、シス異性体、)の製造 収率  7r係 NMI’L     δ 値 (D20) ; 3.μ
 F(jH,d、J=/rHz) 、3.70  (j
H,d  、J=/rHz) 。
グ、Oj (jH,s)、j、jj(/)(、d、  
コJ=jHz) 、!、タ 0  (jH、d  、J
=jHz)、6.J  タ(jH,d  、J=/2H
z)、if/  (jH,d  。
J=/JHz  )  、  7.01  (jH、s
  )  、  7.r  4  (jH,s  ) 
 、  r、タ 0  (/  H、s  )実施例/
j 7−(j−メトキシイミノーコ−(2−アミノチアゾー
ル−弘−イルノアセトアミド]−J−〔ノー(2,4A
−ジクロロチアゾール−よ−イルノビニルツー3−セフ
エムーダーカルデン酸ナトリウム(シン異性体!シス異
性体)の製造収率  71q6 NMRδ値(D20);3.≠J(jH,d、J=/K
Hz)  、jj7(jH,d  、J=/  jHz
) 。
4A、O$(jH,s   )  、j、4j(jH,
d、J=JHz  )   、   j、 タ /  
 (/  H、d   、   J==jHz  ) 
 、   +、g  t(jH、d 、J=/ 2Hz
)、144L(jH,d。
J= / 2Hz) 、 7,0.t(’ / H、s
 )下記化分物を実施例3と同様の方法に;つで製造し
た。
実施例1t (j−メチルーノーオヤソーl、3−ジオキンレンーμ
mイルツメチル 7−[:j−メトキシイミノーコ−(
2−アミノチアゾールーグーイルノアセトアミド〕−3
−Cλ−(ノーメチルチアゾール−!−イルノヒニル〕
−3−セフエムーグーカルゼキシレート(シン異性体、
トランス異性体)の製造 収率  tコ係 NMRδ 値 C0DCL5)  :  =2..2 
/  (j  H、s  )  。
j、7り(JH,s)、J、を夕(jH,d、J=/♂
H2) 、 !、7! (jH、d 、 J=/ KH
z) 。
@ 、04(jH,s   )  、  4ζ、タ J
   (/  H、d、J=/AHz  )  、  
 j 、/  2  (/  H、°J=jHz  )
  、!、/II(jH,d   、J=/AHz) 
  、j、4c(JH,broad) 。
!、タ タ (/ H、d  d  、J”jHz、J
=りHz)。
4.1r /   (/  H、s   )  、  
乙、ター2(jH,d、J=/  tHz)   、 
  7,244  (/T(、d   、   J=/
  AHz  〕  。
7.1 ! (/ H、s ) 、 7.6≠(jH,
d’、J=りHz) 実施例/7 (j−メチル−一−オギソー/、J−ジオキソレン−グ
ーイルツメチル 7−〔λ−メトキシイミノーノー(2
−アミノチアゾール−μmイルノアセトアミド)−J−
(J−(2−メチルチアゾール−!−イル]ビニル〕−
3−セフェム−μ−カルN−zシレート(シン異性体、
シス異性体)の製造 収率  22チ NMRδ 値 (ODO15)  :  コ、01  
(JH,s)。
2ju(3H,s)、J、uj(jH,d、J=/  
IrHz) 、J、を弘 (jH,d、J=〆 tHz
)。
Il、0u(JH,s)、IIJO(jH,d、J=/
JH2) 、≠、タ タ (jH、d  、J=/  
AHz) 。
!、22  (/  H、d   、  J=jHz 
 )  、  jJ  (u  H。
broad  )  、6./  0  (d  d 
 、J=jHt、  2Hz) 。
A、/7(jH,d’、’J=/2Hz)、AjqJ/
H。
d、J=/−2Hz  ノ  、17J’(jH,s 
  )  、  7.4乙 l;(/  H、s  )
  、7.7 2 (jH,d、J=  2’flz)
実施例it ピパロイルオキシメチル 7−(X−メトキシイミノー
ーー(ノーアミノチアゾールー弘−イk)アセトアミド
)−j−(−2−(チアゾール−μmイルノビニニル−
3−セフェム−弘−カルゼキシレート(シン異性体、シ
ス異性体Jの製造収率  7λ係 NMRδ値(ODOt3) : /、/ 4 (りH,
s)。
J、ul(jH,d、J=/1rHz)、3.61(j
H。
’   r   J  =  /  J’ Hz  )
  、  4t、011(jH,s  )  、  j
、/  t(jH,d  、J=!Hz)、!、7! 
(jH,d  。
J=tHz)   、  j、r  l、  (jH,
d  、  J=6Hz)   。
!、タ 44(jH,dd、J=jH2,2Hz) 、
61/(jH,d 、J=/2Hz) 、 t、11 
(jH,d 。
J=/2Hz) 、AJI  (jH,s  )、7.
/P(jH,d、J=JHz)、J’jA(jH,d、
J=2Hz) 実施例/P ピノマロイルオキシメチル 7−〔2−メトキシイミノ
−2−(2−アミノチアゾール−μmイルノアセトアミ
ド)−j−(−2−(チアゾール−よ−イル」ビニルツ
ー3−セフェム−4−力ルゼギシレート(シン異性体、
シス異性体)の製造収率  7乙係 NMRδ 値 (0DOt3) :/、/j(PH,s
  ) 。
!、32 (/ H,d 、J=7KHz)、3jO(
jH。
d 、J=/ KHz) 、 4’、04A(JH,s
 ) 、 !、/り(/ H、d  、  J=!Hz
) 、!、74t (jH,d、J= tHz ) 、
 j、♂/ (/ H,d 、 J=tHz) 、 6
.02(/  H、d  d  、J=jHz、  タ
Hz) 、  t、J  j  (/  I(。
d、J=/jHz〕 、 6.t ♂ (jH,d  
、  J=/−2Hz)   、t 、Ir I  (
jH,s  )  、   7.4t /   (/ 
 l(、d   。
J=りHz)  、 7.7! (jH,s )  、
 r、AA  (jH。
S) 実施例λO ピバロイルオキシメチル 7− 〔j−メトキシイミノ
−2−(2−アミノチアゾール−μmイルノアセトアミ
ド)−j−C1−(コ、グージク:ロロチアゾール−よ
一イルノビニル〕−3−七フ′エム−μmmカルキシレ
ート(シン異性体、シス異性体)の製造 収率  7/係 NMRδ値(oDot3); /、/ 1 (りH、s
 ) 。
3.30(jH,d、J=/♂Hz ) 、 3.J 
2 (/ H。
d、J=/KHz  )  、  4t、o  シr 
 (jH,s   )  、  L/  t(/  H
、d  、J=AHz) 、!、7F(jH,d、J=
AHz)、jJ / (/ H,d  、J=6Hz)
、A、Or(jH,dd  、J=!Hz、  2Hz
) 、t、jJ’(jH。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、次式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1はアミノ基又は保護されたアミノ基であ
    り;R^2は低級アルキル基であり;R^3は水素原子
    、塩生成カチオン又はカルボキシル基保護基であり;R
    ^4は水素原子、低級アルキル基、又はハロゲン原子で
    あり;R^5は水素原子であるか又はR^5はR^4と
    同一又は異なつてもよい低級アルキル基、又はハロゲン
    原子を表わす〕で示されるセフエム化合物(シン異性体
    )、又はその塩又はそのエステル。 2、R^1がアミノ基であり、R^2がメチル基であり
    、R^3がナトリウム、ピバロイルオキシメチル基又は
    (5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4
    −イル)メチル基であり、R^4が水素原子、メチル基
    又は塩素原子であり、R^5が水素原子、メチル基又は
    塩素原子である特許請求の範囲第1項記載の化合物のシ
    ン異性体。 3、7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチア
    ゾール−4−イル)−アセトアミド〕−3−〔2−(チ
    アゾール−2−イル)ビニル〕−3−セフエム−4−カ
    ルボン酸(シン異性体)である特許請求の範囲第2項記
    載の化合物。 4、7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチア
    ゾール−4−イル)−アセトアミド〕−3−〔2−(チ
    アゾール−4−イル)ビニル〕−3−セフエム−4−カ
    ルボン酸ナトリウム塩(シン異性体)(シス異性体)で
    ある特許請求の範囲第2項記載の化合物。 5、7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチア
    ゾール−4−イル)−アセトアミド〕−3−〔2−チア
    ゾール−4−イル)ビニル〕−3−セフエム−4−カル
    ボン酸ピバロイルオキシメチルエステル(シン異性体)
    (シス異性体)である特許請求の範囲第2項記載の化合
    物。 6、7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチア
    ゾール−4−イル)−アセトアミド〕−3−〔2−(2
    −メチルチアゾール−5−イル)ビニル〕−3−セフエ
    ム−4−カルボン酸ナトリウム塩(シン異性体)(シス
    異性体、トランス異性体、又はシス体とトランス体の混
    合物)である特許請求の範囲第2項記載の化合物。 7、7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチア
    ゾール−4−イル)−アセトアミド〕−3−〔2−(2
    −メチルチアゾール−5−イル)ビニル〕−3−セフエ
    ム−4−カルボン酸(5−メチル−2−オキソ−1,3
    −ジオキソレン−4−イル)メチルエステル(シン異性
    体)(シス異性体、トランス異性体、又はシス体とトラ
    ンス体との混合物)である特許請求の範囲第2項記載の
    化合物。 8、7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチア
    ゾール−4−イル)−アセトアミド〕−3−〔2−(チ
    アゾール−5−イル)ビニル〕−3−セフエム−4−カ
    ルボン酸ナトリウム塩(シン異性体)(シス異性体)で
    ある特許請求の範囲第2項記載の化合物。 9、7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチア
    ゾール−4−イル)−アセトアミド〕−3−〔2−(チ
    アゾール−5−イル)ビニル〕−3−セフエム−4−カ
    ルボン酸ピバロイルオキシメチルエステル(シン異性体
    )(シス異性体)である特許請求の範囲第2項記載の化
    合物。 10、7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチ
    アゾール−4−イル)−アセトアミド〕−3−〔2−(
    4−クロルチアゾール−5−イルビニル〕−3−セフエ
    ム−4−カルボン酸ナトリウム塩(シン異性体)(シス
    異性体)である特許請求の範囲第2項記載の化合物。 11、7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチ
    アゾール−4−イルノ−アセトアミド〕−3−〔2−(
    4−クロルチアゾール−5−イル)ビニル〕−3−セフ
    エム−4−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステル
    (シン異性体)(シス異性体)である特許請求の範囲第
    2項記載の化合物。 12、7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチ
    アゾール−4−イルノ−アセトアミド〕−3−〔2−(
    2,4−ジクロルチアゾール−5−イル)ビニル〕−3
    −セフエム−4−カルボン酸ナトリウム塩(シン異性体
    )(シス異性体)である特許請求の範囲第2項記載の化
    合物。 13、7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチ
    アゾール−4−イル)−アセトアミド〕−3−〔2−(
    2,4−ジクロルチアゾール−5−イル)ビニル〕−3
    −セフエム−4−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエ
    ステル(シン異性体)(シス異性体)である特許請求の
    範囲第2項記載の化合物。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62205088A (ja) * 1986-03-03 1987-09-09 Meiji Seika Kaisha Ltd 新規セフエム化合物
WO1998058932A1 (en) * 1997-06-24 1998-12-30 Meiji Seika Kaisha, Ltd. Process for the selective preparation of z-isomers of 3-(2-substituted vinyl)cephalosporins
WO2005118596A1 (ja) * 2004-06-04 2005-12-15 Otsuka Chemical Co., Ltd. 3−アルケニルセフェム化合物及び製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101245081B (zh) * 2007-02-14 2010-10-13 山东轩竹医药科技有限公司 头孢菌素衍生物
JPWO2011093294A1 (ja) * 2010-01-27 2013-06-06 日本化学工業株式会社 セファロスポリン誘導体の製造方法
CN102382125B (zh) * 2011-07-29 2014-04-09 成都市考恩斯科技有限责任公司 头孢妥仑的水溶性复合物及其制备方法和相应药物制剂

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0364503A (ja) * 1989-07-28 1991-03-19 Teijin Ltd 無塵衣

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0364503A (ja) * 1989-07-28 1991-03-19 Teijin Ltd 無塵衣

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62205088A (ja) * 1986-03-03 1987-09-09 Meiji Seika Kaisha Ltd 新規セフエム化合物
WO1998058932A1 (en) * 1997-06-24 1998-12-30 Meiji Seika Kaisha, Ltd. Process for the selective preparation of z-isomers of 3-(2-substituted vinyl)cephalosporins
US6288223B1 (en) 1997-06-24 2001-09-11 Meiji Seika Kaisha, Ltd. Process for the selective preparation of Z-isomers of 3-2(substituted vinyl)cephalosporins
WO2005118596A1 (ja) * 2004-06-04 2005-12-15 Otsuka Chemical Co., Ltd. 3−アルケニルセフェム化合物及び製造方法

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