JPS62204514A - 固体電解コンデンサ - Google Patents
固体電解コンデンサInfo
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- JPS62204514A JPS62204514A JP4797986A JP4797986A JPS62204514A JP S62204514 A JPS62204514 A JP S62204514A JP 4797986 A JP4797986 A JP 4797986A JP 4797986 A JP4797986 A JP 4797986A JP S62204514 A JPS62204514 A JP S62204514A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は7.7,8.8−テトラシアノキノジメタンの
錯塩(TCNQ錯塩)を用いた有は半導体を固体電W?
質とする固体電解コンデンナに関する。
錯塩(TCNQ錯塩)を用いた有は半導体を固体電W?
質とする固体電解コンデンナに関する。
(従来の技術)
一般に、電解コンデンリーはアルミニウム(A[>、タ
ンタル(Ta )のような弁金属を陽極とし、その表面
に形成した陽(ル酸化皮膜(以下酸化皮膜という)を誘
電体として用い、更にその酸化皮膜上に電解質層を介在
して陰極を対向前行した構造とされている。このような
電解コンデサンは、電解質として液体電解質(以下電解
液という)を用いたものと固体電解質を用いたbのとに
大別され、何れも大容量化が可能であることから種々の
電子回路に使用されている。
ンタル(Ta )のような弁金属を陽極とし、その表面
に形成した陽(ル酸化皮膜(以下酸化皮膜という)を誘
電体として用い、更にその酸化皮膜上に電解質層を介在
して陰極を対向前行した構造とされている。このような
電解コンデサンは、電解質として液体電解質(以下電解
液という)を用いたものと固体電解質を用いたbのとに
大別され、何れも大容量化が可能であることから種々の
電子回路に使用されている。
電解コンデンサを評価する上での重要な特性は、静電容
0、tanδ及び漏れ電流である。静電容量C,tan
δは一般的に次式で表わされる。
0、tanδ及び漏れ電流である。静電容量C,tan
δは一般的に次式で表わされる。
C=Kx (S/d ) =K −x (S/V)−(
1)tanδ=ωCR=ωC(Rt+R2) −(2
)但し、K、に−は定数1、Sは電極面積、dは酸化皮
膜厚さ、■は酸化皮膜耐電圧、ωは角周波数、Rは等価
直列抵抗、R1は酸化皮膜に起因する抵抗、R2は電解
質及び電極等に起因する抵抗である。
1)tanδ=ωCR=ωC(Rt+R2) −(2
)但し、K、に−は定数1、Sは電極面積、dは酸化皮
膜厚さ、■は酸化皮膜耐電圧、ωは角周波数、Rは等価
直列抵抗、R1は酸化皮膜に起因する抵抗、R2は電解
質及び電極等に起因する抵抗である。
上記の(1)式で明らかなように、小型で大容量の電解
コンデンサを実現するには、電極面積Sを大ぎくし、酸
化皮膜耐電圧■をできる限りコンデンサの定格電圧に近
づけることが必要である。
コンデンサを実現するには、電極面積Sを大ぎくし、酸
化皮膜耐電圧■をできる限りコンデンサの定格電圧に近
づけることが必要である。
電極面積Sについては、これを大ぎくするために陽極体
の表面は微細な凹凸を右する構造に設計されるのが一般
的である。また、コンデンサの損失分であるtanδに
ついては、これを低下させるために、上記(2)式に示
71等価直列抵抗Rを小さくすることが必要である。等
価直列抵抗Rの内、酸化皮膜に起因する抵抗R1は酸化
皮膜自体の性質及び形成条件に依存するものであり、こ
れを低Fさせることは簡単ではない。ざらに、高周波領
域における等価直列抵抗Rは電解質等に起因する抵抗R
2によって支配されるため、この抵抗R2を小さくする
ことができれば広い周波数領域にわたるtanδの低下
が可能となる。抵抗R2は電解質の電導度に依存してい
る。
の表面は微細な凹凸を右する構造に設計されるのが一般
的である。また、コンデンサの損失分であるtanδに
ついては、これを低下させるために、上記(2)式に示
71等価直列抵抗Rを小さくすることが必要である。等
価直列抵抗Rの内、酸化皮膜に起因する抵抗R1は酸化
皮膜自体の性質及び形成条件に依存するものであり、こ
れを低Fさせることは簡単ではない。ざらに、高周波領
域における等価直列抵抗Rは電解質等に起因する抵抗R
2によって支配されるため、この抵抗R2を小さくする
ことができれば広い周波数領域にわたるtanδの低下
が可能となる。抵抗R2は電解質の電導度に依存してい
る。
ところで、高周波領域においてもコンデンサ特性の優れ
たコンデンサとしてプラスチックフィルムコンデンサ、
マイカコンデンサ、積層セラミックコンデンυ等が知ら
れている。しかし、これらのコンデンサでも容ω値を大
きくしようとするなら、コンデンサの外形寸法は非常に
大きくなり、コスト的にも不利となる。
たコンデンサとしてプラスチックフィルムコンデンサ、
マイカコンデンサ、積層セラミックコンデンυ等が知ら
れている。しかし、これらのコンデンサでも容ω値を大
きくしようとするなら、コンデンサの外形寸法は非常に
大きくなり、コスト的にも不利となる。
一方、大音量を1!′7られるコンデンサとして弁作用
を有する金属、例えば△1.Ta等の金属酸化皮膜上に
、二酸化マンガン(Mn 02 )などの無機半導体を
固体電解質としたものがある。
を有する金属、例えば△1.Ta等の金属酸化皮膜上に
、二酸化マンガン(Mn 02 )などの無機半導体を
固体電解質としたものがある。
ところが、Mn Q2などの金属酸化物からなる無機半
導体を形成する場合、硝酸マンガンを熱分解しているた
めその熱分解反応時に発生ずる酸化性の強い酸化物(N
Ox )などのガ、スや熱分解時の高温によって皮膜形
成性金属の陽極酸化皮膜が4Q傷を受けることと、Mn
02の比抵抗が高いことなどから高周波領域の損失が
大きくなる。また、Mn 02による陽極酸化皮膜の修
復性が乏しいことなどによって、漏れ電流が増大し、耐
電圧が低下げる等の欠点があった。
導体を形成する場合、硝酸マンガンを熱分解しているた
めその熱分解反応時に発生ずる酸化性の強い酸化物(N
Ox )などのガ、スや熱分解時の高温によって皮膜形
成性金属の陽極酸化皮膜が4Q傷を受けることと、Mn
02の比抵抗が高いことなどから高周波領域の損失が
大きくなる。また、Mn 02による陽極酸化皮膜の修
復性が乏しいことなどによって、漏れ電流が増大し、耐
電圧が低下げる等の欠点があった。
そこで、近年、Mn 02などのような無機半導体に代
わってTCNQと称される7、7.8.8−テ1〜ラシ
アノキノジメタンの錯塩等を用いた有機半導体を固体電
解質とする固体電解コンデンサーが種々提案されている
。このような有義半導体は10〜100cmの低抵抗を
示し、さらに酸化皮膜に対する陽極酸化性をも有してい
るが、通常、微粉末状の微細結晶であるため、これを如
何にして固体電解質層として形成するかが問題であった
。
わってTCNQと称される7、7.8.8−テ1〜ラシ
アノキノジメタンの錯塩等を用いた有機半導体を固体電
解質とする固体電解コンデンサーが種々提案されている
。このような有義半導体は10〜100cmの低抵抗を
示し、さらに酸化皮膜に対する陽極酸化性をも有してい
るが、通常、微粉末状の微細結晶であるため、これを如
何にして固体電解質層として形成するかが問題であった
。
この問題点を解決する手段として、特開昭57−173
932号、特開昭58−175819@、特開昭59−
63604号公報等にTCNQ錯塩の溶融成形法が提案
されている。この方法は、TCNQ錯塩を加熱融解させ
、これが熱分解するまでの間に冷却固化させることによ
り任意形状のTCNQ錯塩からなる固体電解質を得よう
とするもので、多孔質の金属酸化皮膜」−へのイ」着力
も強く、かつ含浸率も高いというものである。
932号、特開昭58−175819@、特開昭59−
63604号公報等にTCNQ錯塩の溶融成形法が提案
されている。この方法は、TCNQ錯塩を加熱融解させ
、これが熱分解するまでの間に冷却固化させることによ
り任意形状のTCNQ錯塩からなる固体電解質を得よう
とするもので、多孔質の金属酸化皮膜」−へのイ」着力
も強く、かつ含浸率も高いというものである。
しかしながら、従来使用されているT CN Q 錯塩
即ちN−イソプロピルイソキノリンやN−n−プロピル
キノリンのTCNQ錯塩は200℃以上の高温における
熱安定性に乏しいため多孔質のAJ、Taなどへの含浸
が十分に行なわれない。したがって、十分な静電容量を
得られないばかりか高周波領域に対しても1Ω失の小さ
い固体電解コンデンサを得ることが難かしいという不具
合点があった。
即ちN−イソプロピルイソキノリンやN−n−プロピル
キノリンのTCNQ錯塩は200℃以上の高温における
熱安定性に乏しいため多孔質のAJ、Taなどへの含浸
が十分に行なわれない。したがって、十分な静電容量を
得られないばかりか高周波領域に対しても1Ω失の小さ
い固体電解コンデンサを得ることが難かしいという不具
合点があった。
(発明が解決しようとする問題点)
上記の如く、従来のTCNQ錯塩の固体電解質を用いた
固体電解コンデンサでは、高温においで熱安定性に乏し
いため静電容量や高周波旧失について十分な特性を示す
コンデンサを得ることができなかった。
固体電解コンデンサでは、高温においで熱安定性に乏し
いため静電容量や高周波旧失について十分な特性を示す
コンデンサを得ることができなかった。
そこで、本発明は上記の問題を除去するために成された
もので、十分大きい静電容ヱ値が1′7られると共に高
周波領域に対して損失の低い固体電解コンデンサを提供
することを目的とする。
もので、十分大きい静電容ヱ値が1′7られると共に高
周波領域に対して損失の低い固体電解コンデンサを提供
することを目的とする。
(問題点を解決するための手段と作用)本発明の固体電
解コンデンサは、N位をイソブチル基で置換したN−イ
ソブチルイソキノリンをカチオンとし、7.7.8.8
−テトラシアノキノジメタンアニオンラジカルと7.7
.8.8−テトラシアノキノジメタンとからなる錯塩を
固体電解質としたものであり、この固体型@質は十分な
熱安定性を右すると其に高周波領域に対する損失も小ざ
い。
解コンデンサは、N位をイソブチル基で置換したN−イ
ソブチルイソキノリンをカチオンとし、7.7.8.8
−テトラシアノキノジメタンアニオンラジカルと7.7
.8.8−テトラシアノキノジメタンとからなる錯塩を
固体電解質としたものであり、この固体型@質は十分な
熱安定性を右すると其に高周波領域に対する損失も小ざ
い。
(実施例)
以下、実施例に基づいて本発明の詳細な説明する。
図は本発明に係る固体電解コンデン勺の構造を示す断面
図で、コンデンサ素子の一部を破断して示しである。こ
の図に43いて、コンデンサ素子1は、エツチング処理
したアルミニウム的の表面に酸化皮膜を形成した陽極箔
2とエツチング処理された陰極箔3との間に、セパレー
タ4を重ねて巻回した構造となっており、陽極箔2及び
陰極箔3には内部リード部5.6が接続され、これら内
部リード部5.6には夫々引出しり一部7.8が接続さ
れている。このようなコンデンサ素子1では、電極芯の
端部や内部リード部には酸化皮膜が形成されていないた
め、コンデンサ素子1を公知の電解液を用いて素子の状
態で陽極酸化処理を行ない、酸化皮膜を形成後乾燥させ
る。そして、このコンデンサ素子1をTCNQ錯塩を溶
融状態に収納した外装クース(例えばアルミニウムケー
ス)9内に浸漬し、その後冷却固化させて固体電解質層
10を形成する。この状態でエージングを行なった後、
ケース開口部を樹脂等の封口体11で宗封して固体電解
コンデンサとする。
図で、コンデンサ素子の一部を破断して示しである。こ
の図に43いて、コンデンサ素子1は、エツチング処理
したアルミニウム的の表面に酸化皮膜を形成した陽極箔
2とエツチング処理された陰極箔3との間に、セパレー
タ4を重ねて巻回した構造となっており、陽極箔2及び
陰極箔3には内部リード部5.6が接続され、これら内
部リード部5.6には夫々引出しり一部7.8が接続さ
れている。このようなコンデンサ素子1では、電極芯の
端部や内部リード部には酸化皮膜が形成されていないた
め、コンデンサ素子1を公知の電解液を用いて素子の状
態で陽極酸化処理を行ない、酸化皮膜を形成後乾燥させ
る。そして、このコンデンサ素子1をTCNQ錯塩を溶
融状態に収納した外装クース(例えばアルミニウムケー
ス)9内に浸漬し、その後冷却固化させて固体電解質層
10を形成する。この状態でエージングを行なった後、
ケース開口部を樹脂等の封口体11で宗封して固体電解
コンデンサとする。
上記の工程において、固体電解質層を構成するT CN
Q 錯塩は次のようにして合成される。
Q 錯塩は次のようにして合成される。
1モルのヨウ化イソブチルと1モルのイソキノリンを無
溶媒又は適当な右橢溶媒中で混合し、溶媒の沸点〜12
0℃の温度で15分〜10時間反応させた後に、冷却し
、反応液の処理後に適当な溶媒で再結晶して1モルのヨ
ウ化N−イソプチルイソギノリンを得た。さらに、アセ
トニトリルにTCNQ約1.3モルを加温溶解し、これ
に上記のヨウ化N−イソブチルイソキノリン1モルを溶
解したアセトニトリル溶液を滴下し、1時間還流を行な
った。冷却後、析出した結晶を濾取し、アセトニトリル
より再結晶してN−イソブチルイソキノリンのTCNQ
錯塩を得た。
溶媒又は適当な右橢溶媒中で混合し、溶媒の沸点〜12
0℃の温度で15分〜10時間反応させた後に、冷却し
、反応液の処理後に適当な溶媒で再結晶して1モルのヨ
ウ化N−イソプチルイソギノリンを得た。さらに、アセ
トニトリルにTCNQ約1.3モルを加温溶解し、これ
に上記のヨウ化N−イソブチルイソキノリン1モルを溶
解したアセトニトリル溶液を滴下し、1時間還流を行な
った。冷却後、析出した結晶を濾取し、アセトニトリル
より再結晶してN−イソブチルイソキノリンのTCNQ
錯塩を得た。
次に、上記のN−イソブチルイソキノリンのTCNQ錯
塩を固体電解質として用いてアルミニウム電解コンデン
サを製造する場合の実施例を説明する。
塩を固体電解質として用いてアルミニウム電解コンデン
サを製造する場合の実施例を説明する。
まず、第1の実施例について説明する。
即ち、直径4mのアルミニウムケースに、N−イソブチ
ルイソキノリンのTCNQI塩(微粉末のT CN Q
錯塩若しくはベレット状のTCNQ錯塩)25#19
を適度の加圧下で収納し、約260℃で加熱溶融させ、
直らにこの溶融しているTCNQ1!塩中に予め加熱し
であるコンデンサ素子を浸漬させ、浸漬後約10秒で冷
却固化させて陽陰極箔間に固体電解質層を形成した。続
いて、固体電解質層が形成されたコンデンサ素子に公知
の方法によりエージングを行なう。このエージングによ
って、陽極酸化皮膜の往復及び漏れ電流の低減と安定化
が図られる。最後に、アルミニウムケースの間口部をエ
ポキシ樹脂等で封口し、定格電圧16V、定格静電容量
1μFの固体電解コンデンサを作製した。この固体電解
コンデンサについて、静電容ffi (CAP) 、
tanδ、 漏tL?u流(LC)。
ルイソキノリンのTCNQI塩(微粉末のT CN Q
錯塩若しくはベレット状のTCNQ錯塩)25#19
を適度の加圧下で収納し、約260℃で加熱溶融させ、
直らにこの溶融しているTCNQ1!塩中に予め加熱し
であるコンデンサ素子を浸漬させ、浸漬後約10秒で冷
却固化させて陽陰極箔間に固体電解質層を形成した。続
いて、固体電解質層が形成されたコンデンサ素子に公知
の方法によりエージングを行なう。このエージングによ
って、陽極酸化皮膜の往復及び漏れ電流の低減と安定化
が図られる。最後に、アルミニウムケースの間口部をエ
ポキシ樹脂等で封口し、定格電圧16V、定格静電容量
1μFの固体電解コンデンサを作製した。この固体電解
コンデンサについて、静電容ffi (CAP) 、
tanδ、 漏tL?u流(LC)。
等価直列抵抗(E S R)を120Hzと10KH2
について測定した結果は第1表のようになる。
について測定した結果は第1表のようになる。
また、従来例と比較するため、同様の条件で、N−イソ
プロピルインキノリンやN−n−プロピルキノリンのT
CNQ錯塩を固体電解質層とした固体電解コンデンサを
作製し、その特性を第1表に示した。
プロピルインキノリンやN−n−プロピルキノリンのT
CNQ錯塩を固体電解質層とした固体電解コンデンサを
作製し、その特性を第1表に示した。
以下余白
なお、上表のコンデンサ特性は温度20℃における初期
特性を示しており、LC(μA)は16V印加1分後の
漏れ電流である。
特性を示しており、LC(μA)は16V印加1分後の
漏れ電流である。
次に、第2の実施例について説明する。
即ち、直径6.3mmのアルミニウムケースに、N−イ
ソブチルイソキノリンのTCNQ錯塩100 myを用
いて上記第1の実施例と同様の方法でコンデンサ素子に
含浸させ、定格電圧6.3V、定格静電容ff147μ
Fの固体電解コンデンサを作製した。この固体電解コン
デンナの特性を第2表に示す。また、従来例として、N
−イソプロピルイソキノリンやN−n−プロピルキノリ
ンのTCNQ錯塩を用いて同様の条件で固体電解質層を
形成させた場合の特性を第2表に示した。
ソブチルイソキノリンのTCNQ錯塩100 myを用
いて上記第1の実施例と同様の方法でコンデンサ素子に
含浸させ、定格電圧6.3V、定格静電容ff147μ
Fの固体電解コンデンサを作製した。この固体電解コン
デンナの特性を第2表に示す。また、従来例として、N
−イソプロピルイソキノリンやN−n−プロピルキノリ
ンのTCNQ錯塩を用いて同様の条件で固体電解質層を
形成させた場合の特性を第2表に示した。
以下余白
なお、上表のコンデンサ特性も温度20℃における初期
特性を示しており、LC(μA)は6゜3■印加1分後
の漏れ電流である。
特性を示しており、LC(μA)は6゜3■印加1分後
の漏れ電流である。
尚、上記実施例では、コンデンサ素子として電極箔を用
いた巻回構造のものを使用した場合について説明してい
るが、焼結体を用いた構造のものであってもよく、また
陽極体としてはアルミニウムに限らず、タンクルやチタ
ン等の弁金属を使用づることも可能であり、陰極体とし
ては上記弁金属以外の他の金属を使用J゛ることも可能
である。
いた巻回構造のものを使用した場合について説明してい
るが、焼結体を用いた構造のものであってもよく、また
陽極体としてはアルミニウムに限らず、タンクルやチタ
ン等の弁金属を使用づることも可能であり、陰極体とし
ては上記弁金属以外の他の金属を使用J゛ることも可能
である。
また、陽陰極体聞に固体電解質層を形成する方法は電解
質溶融成形法によりコンデンサ素子に電解質を引する方
法以外に、その形成方法は陽極体に電解質溶液を塗布す
ることにより行なってもよい。
質溶融成形法によりコンデンサ素子に電解質を引する方
法以外に、その形成方法は陽極体に電解質溶液を塗布す
ることにより行なってもよい。
(発明の効果)
以上j1べたように本発明の構成にJ、れば、N−イソ
ブチルイソキノリンのTCNQ錯塩を使用づることによ
り、静電容量値が高くかつ高周波領域に63ける1(1
失の少ない固体電解コンデンサ°を提供することができ
る。
ブチルイソキノリンのTCNQ錯塩を使用づることによ
り、静電容量値が高くかつ高周波領域に63ける1(1
失の少ない固体電解コンデンサ°を提供することができ
る。
図は本発明に係る固体電解コンデンサの内部構造をコン
デンサ素子の一部を破断した状態で示す断面図である。 1・・・コンデンサ素子、2・・・陽極箔、3・・・陰
極箔、 4・・・セパレータ、10・・・固体
電解質層。
デンサ素子の一部を破断した状態で示す断面図である。 1・・・コンデンサ素子、2・・・陽極箔、3・・・陰
極箔、 4・・・セパレータ、10・・・固体
電解質層。
Claims (1)
- N位をイソブチル基で置換したイソキノリンをカチオ
ンとし7,7,8,8−テトラシアノキノジメタンアニ
オンラジカルと7,7,8,8−テトラシアノキノジメ
タンからなる錯塩を用いたことを特徴とする固体電解コ
ンデンサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4797986A JPS62204514A (ja) | 1986-03-04 | 1986-03-04 | 固体電解コンデンサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4797986A JPS62204514A (ja) | 1986-03-04 | 1986-03-04 | 固体電解コンデンサ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62204514A true JPS62204514A (ja) | 1987-09-09 |
Family
ID=12790429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4797986A Pending JPS62204514A (ja) | 1986-03-04 | 1986-03-04 | 固体電解コンデンサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62204514A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4916855A (ja) * | 1972-06-13 | 1974-02-14 | ||
| JPS5963604A (ja) * | 1982-10-01 | 1984-04-11 | 三洋電機株式会社 | 有機半導体物質の処理方法 |
| JPS62152118A (ja) * | 1985-12-25 | 1987-07-07 | 松下電器産業株式会社 | 固体電解コンデンサ |
-
1986
- 1986-03-04 JP JP4797986A patent/JPS62204514A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4916855A (ja) * | 1972-06-13 | 1974-02-14 | ||
| JPS5963604A (ja) * | 1982-10-01 | 1984-04-11 | 三洋電機株式会社 | 有機半導体物質の処理方法 |
| JPS62152118A (ja) * | 1985-12-25 | 1987-07-07 | 松下電器産業株式会社 | 固体電解コンデンサ |
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