JPS6220973B2 - - Google Patents
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Description
本発明は次式()
で示されるサフラナールの製造に関するものであ
る。 サフラナールはサフラン(アヤメ科)中に0.4
〜1.3%含有する精油の一成分であり、サフラン
に特有の芳香を有するテルペン類の一種である。 サフラナールを製造する従来の方法は、上記精
油中から抽出するか、あるいはサフラン中に存在
する苦味質ピクロクロシンを加水分解して得られ
るβ―シクロシトラールを酸化して得る方法が知
られている。しかしいずれの方法でも収率は低
く、特にβ―ピクロクロシンからの場合はわずか
1〜3%である。 本発明は天然に遊離またはエステル体として存
在するゲラニオール誘導体()を原料とし、サ
フラナールを高収率で得る事を特徴とする製造法
に関する。 本発明の製造方法を化学式にて図式化し、各工
程を詳しく説明する。 (式中、R1はアシル基、R2はアリール基を表
わし、〜の数字は各工程を表わす) 工程は一般式()で示されるゲラニオール
誘導体を酢酸金属塩および溶媒存在下で一般式
() R2SeX () (式中、R2はアリール基を表わす)で示され
る有機セレニルハライドを反応させ、一般式
()で示される化合物へ導く工程である。 用いられる酢酸金属塩はナトリウム塩、カリウ
ム塩などが挙げられるが、ナトリウム塩が好まし
い。溶媒としては酢酸、プロピオン酸等の低級脂
肪酸が選択されるが、酢酸が好ましい。有機セレ
ニルハライドとしてはフエニルセレニルクロリ
ド、フエニルセレニルクプロミド等が挙げられ
る。反応温度、反応時間については、0〜100
℃、3時間以内でよく、好ましくは室温にて1時
間程度で十分である。 工程は工程で得られた化合物()を酸の
存在下で閉環し、化合物()を得る工程であ
る。溶媒は反応に関与しないものであれば何でも
よいが、好ましくはメチレンクロライド、クロロ
ホルム、トリクロロエタン等のハロゲン系炭化水
素などが選択される。用いられる酸としては鉱
酸、有機酸のいずれでもよいが、とりわけトリフ
ロロ酢酸のような有機強酸性化合物が好ましい。
反応温度は冷却〜室温、反応時間は3時間以内で
十分である。 工程は工程で得られた閉環体()を過酸
化水素によりセレンオキシド(′)とする工程
である。溶媒は用いても用いなくてもよいが、採
用する場合はメタノールなどが好ましい。反応温
度は冷却〜室温程度、好ましくは氷冷下で反応さ
せるとよい。反応時間は3時間以内で十分であ
る。 工程は以上の様にして得られたセレンオキシ
ド体(′)を適当な溶媒中加熱して脱セレン
し、()で示されるオレフイン体へ導く工程で
ある。適当な溶媒とは反応に関与しないものであ
れば何でもよいが、好ましくは四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類である。加熱温度は0〜100
℃、好ましくは溶媒の沸点附近であり、反応時間
は1〜30時間程度、好ましくは10〜20時間であ
る。 工程はかくして得られたオレフイン体()
を塩基性触媒下で脱水を行ないジオレフイン体
()とする工程である。 例えば、ピリジン等、有機3級アミンの存在下
でハロゲン化チオニルを用いる方法が採用され
る。かかるハロゲン化チオニルとしては塩化チオ
ニル、臭化チオニルが好ましい。溶媒は本反応に
直接関与しないもの、例えばメチレンクロライ
ド、クロロホルム、トリクロロエタン等が選択さ
れる。反応温度は冷却〜室温、反応時間は3時間
以内で十分であり、好ましくは氷冷下、1時間以
内がよい。 工程は工程で得られたジオレフイン体
()を加水分解してアルコール体()へ導く
工程である。加水分解の方法としては通常実施さ
れる公知の方法が採用される。例えば、メタノー
ル、エタノールの様なアルコール溶媒中、アルカ
リ剤を用いて加水分解を行なうが、アルカリ剤と
しては水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等が挙
げられる。反応温度、反応時間は一概に限定し得
ないが、0〜50℃にて1〜24時間、好ましくは室
温下にて1〜10時間で行なうのがよい。 工程は以上のようにして得られたアルコール
体()を塩基の存在下で酸化反応を行ないアル
デヒド体()へ導く工程である。 酸化剤としてはアルコールをアルデヒドに酸化
する公知の酸化剤であればいかなるものでもよい
が、好ましくは酸化クロムがよい。本工程で用い
られる塩基は、ピリジン、トリエチルアミンなど
の有機3級アミンが選択されるが、とりわけピリ
ジンが好ましい。溶媒としては本反応に直接関係
しないものが選択されるが、上記の有機3級アミ
ンを溶媒として用いることもできる。反応温度は
0〜100℃、反応時間は24時間以内で十分であ
り、好ましくは室温にて0.5〜3時間がよい。 工程は工程から工程を経て導かれたアル
デヒド体()を塩基存在下で加熱処理すること
により一般式()で示されるサフラナールを導
く工程である。かかる塩基物質としてはピリジ
ン、置換ピリジン、あるいはトリエチルアミンの
ようなアルキルアミン等の有機3級アミンがよ
く、とりわけピリジンが好ましい。この工程にお
いて、塩基性物質単独中で加熱してもよいが、溶
媒の共存を妨げず、かかる溶媒としてはベンゼ
ン、トルエン、キシレンなど反応に直接関与しな
いものが選択される。 反応温度は0〜100℃、好ましくは溶媒の沸点
附近がよく、反応時間は1〜24時間以内、好まし
くは1〜5時間で十分である。 なお、精製方法としては自体公知の処理方法、
例えば、抽出、カラムクロマトグラフイー、蒸
留、再結晶などが挙げられる。 また、各工程で得られる製造中間生成物および
サフラナールの構造は赤外線吸収スペクトル(以
下、IRスペクトルと記載)、核磁気共鳴スペクト
ル(以下、NMRスペクトルと記載)、質量分析ス
ペクトル(以下、Massスペクトルと記載)、元素
分析などで確認を行なつた。 以下に実施例をもつて本発明をさらに詳細に説
明するが、これらによつて本発明が何ら限定され
るものではない。 実施例 1 トランス―7―アセトキシ―1,1,5―トリ
メチル―2―フエニルセレニル―オクタ―5―
エン―1―オール〔式:R1=COCH3、R2=
C6H5〕の製造 ゲラニルアセテート(1.02m mol)200mgおよ
び酢酸ナトリウム(1.04m mol)85mgを酢酸20ml
に溶解させ、窒素気流下、氷冷撹拌下で酢酸20ml
に溶解させたフエニルセレニルクロリド(1.04m
mol)200mgを滴下する。室温にて15分間撹拌
した後、水50mlを加えベンゼンで抽出する。ベン
ゼン層を炭酸水素ナトリウム飽和溶液で洗浄後、
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
する。溶媒を留去して得られる残留物をアルミナ
カラムクロマトグラフイーに付し、ベンゼン溶出
部より無色油状物94mgを得る。 IRスペクトル:(CHCl3)cm-13610(OH),
1720(C=O) NMRスペクトル:δ(CDCl3)1.26,1.33,
1.67,2.00(各3H,s,CH 3)3.70(1H,
dd,
る。 サフラナールはサフラン(アヤメ科)中に0.4
〜1.3%含有する精油の一成分であり、サフラン
に特有の芳香を有するテルペン類の一種である。 サフラナールを製造する従来の方法は、上記精
油中から抽出するか、あるいはサフラン中に存在
する苦味質ピクロクロシンを加水分解して得られ
るβ―シクロシトラールを酸化して得る方法が知
られている。しかしいずれの方法でも収率は低
く、特にβ―ピクロクロシンからの場合はわずか
1〜3%である。 本発明は天然に遊離またはエステル体として存
在するゲラニオール誘導体()を原料とし、サ
フラナールを高収率で得る事を特徴とする製造法
に関する。 本発明の製造方法を化学式にて図式化し、各工
程を詳しく説明する。 (式中、R1はアシル基、R2はアリール基を表
わし、〜の数字は各工程を表わす) 工程は一般式()で示されるゲラニオール
誘導体を酢酸金属塩および溶媒存在下で一般式
() R2SeX () (式中、R2はアリール基を表わす)で示され
る有機セレニルハライドを反応させ、一般式
()で示される化合物へ導く工程である。 用いられる酢酸金属塩はナトリウム塩、カリウ
ム塩などが挙げられるが、ナトリウム塩が好まし
い。溶媒としては酢酸、プロピオン酸等の低級脂
肪酸が選択されるが、酢酸が好ましい。有機セレ
ニルハライドとしてはフエニルセレニルクロリ
ド、フエニルセレニルクプロミド等が挙げられ
る。反応温度、反応時間については、0〜100
℃、3時間以内でよく、好ましくは室温にて1時
間程度で十分である。 工程は工程で得られた化合物()を酸の
存在下で閉環し、化合物()を得る工程であ
る。溶媒は反応に関与しないものであれば何でも
よいが、好ましくはメチレンクロライド、クロロ
ホルム、トリクロロエタン等のハロゲン系炭化水
素などが選択される。用いられる酸としては鉱
酸、有機酸のいずれでもよいが、とりわけトリフ
ロロ酢酸のような有機強酸性化合物が好ましい。
反応温度は冷却〜室温、反応時間は3時間以内で
十分である。 工程は工程で得られた閉環体()を過酸
化水素によりセレンオキシド(′)とする工程
である。溶媒は用いても用いなくてもよいが、採
用する場合はメタノールなどが好ましい。反応温
度は冷却〜室温程度、好ましくは氷冷下で反応さ
せるとよい。反応時間は3時間以内で十分であ
る。 工程は以上の様にして得られたセレンオキシ
ド体(′)を適当な溶媒中加熱して脱セレン
し、()で示されるオレフイン体へ導く工程で
ある。適当な溶媒とは反応に関与しないものであ
れば何でもよいが、好ましくは四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類である。加熱温度は0〜100
℃、好ましくは溶媒の沸点附近であり、反応時間
は1〜30時間程度、好ましくは10〜20時間であ
る。 工程はかくして得られたオレフイン体()
を塩基性触媒下で脱水を行ないジオレフイン体
()とする工程である。 例えば、ピリジン等、有機3級アミンの存在下
でハロゲン化チオニルを用いる方法が採用され
る。かかるハロゲン化チオニルとしては塩化チオ
ニル、臭化チオニルが好ましい。溶媒は本反応に
直接関与しないもの、例えばメチレンクロライ
ド、クロロホルム、トリクロロエタン等が選択さ
れる。反応温度は冷却〜室温、反応時間は3時間
以内で十分であり、好ましくは氷冷下、1時間以
内がよい。 工程は工程で得られたジオレフイン体
()を加水分解してアルコール体()へ導く
工程である。加水分解の方法としては通常実施さ
れる公知の方法が採用される。例えば、メタノー
ル、エタノールの様なアルコール溶媒中、アルカ
リ剤を用いて加水分解を行なうが、アルカリ剤と
しては水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等が挙
げられる。反応温度、反応時間は一概に限定し得
ないが、0〜50℃にて1〜24時間、好ましくは室
温下にて1〜10時間で行なうのがよい。 工程は以上のようにして得られたアルコール
体()を塩基の存在下で酸化反応を行ないアル
デヒド体()へ導く工程である。 酸化剤としてはアルコールをアルデヒドに酸化
する公知の酸化剤であればいかなるものでもよい
が、好ましくは酸化クロムがよい。本工程で用い
られる塩基は、ピリジン、トリエチルアミンなど
の有機3級アミンが選択されるが、とりわけピリ
ジンが好ましい。溶媒としては本反応に直接関係
しないものが選択されるが、上記の有機3級アミ
ンを溶媒として用いることもできる。反応温度は
0〜100℃、反応時間は24時間以内で十分であ
り、好ましくは室温にて0.5〜3時間がよい。 工程は工程から工程を経て導かれたアル
デヒド体()を塩基存在下で加熱処理すること
により一般式()で示されるサフラナールを導
く工程である。かかる塩基物質としてはピリジ
ン、置換ピリジン、あるいはトリエチルアミンの
ようなアルキルアミン等の有機3級アミンがよ
く、とりわけピリジンが好ましい。この工程にお
いて、塩基性物質単独中で加熱してもよいが、溶
媒の共存を妨げず、かかる溶媒としてはベンゼ
ン、トルエン、キシレンなど反応に直接関与しな
いものが選択される。 反応温度は0〜100℃、好ましくは溶媒の沸点
附近がよく、反応時間は1〜24時間以内、好まし
くは1〜5時間で十分である。 なお、精製方法としては自体公知の処理方法、
例えば、抽出、カラムクロマトグラフイー、蒸
留、再結晶などが挙げられる。 また、各工程で得られる製造中間生成物および
サフラナールの構造は赤外線吸収スペクトル(以
下、IRスペクトルと記載)、核磁気共鳴スペクト
ル(以下、NMRスペクトルと記載)、質量分析ス
ペクトル(以下、Massスペクトルと記載)、元素
分析などで確認を行なつた。 以下に実施例をもつて本発明をさらに詳細に説
明するが、これらによつて本発明が何ら限定され
るものではない。 実施例 1 トランス―7―アセトキシ―1,1,5―トリ
メチル―2―フエニルセレニル―オクタ―5―
エン―1―オール〔式:R1=COCH3、R2=
C6H5〕の製造 ゲラニルアセテート(1.02m mol)200mgおよ
び酢酸ナトリウム(1.04m mol)85mgを酢酸20ml
に溶解させ、窒素気流下、氷冷撹拌下で酢酸20ml
に溶解させたフエニルセレニルクロリド(1.04m
mol)200mgを滴下する。室温にて15分間撹拌
した後、水50mlを加えベンゼンで抽出する。ベン
ゼン層を炭酸水素ナトリウム飽和溶液で洗浄後、
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
する。溶媒を留去して得られる残留物をアルミナ
カラムクロマトグラフイーに付し、ベンゼン溶出
部より無色油状物94mgを得る。 IRスペクトル:(CHCl3)cm-13610(OH),
1720(C=O) NMRスペクトル:δ(CDCl3)1.26,1.33,
1.67,2.00(各3H,s,CH 3)3.70(1H,
dd,
【式】)7.18〜7.70(5H,m,ph
Se)
Massスペクトル:m/e
369(M+)
実施例 2
2―アセトキシメチル―3―ヒドロキシ―1,
1,3―トリメチル―6―フエニルセレニルシ
クロヘキサン〔式:R1=COCH3、R2=
C6H5〕の製造 実施例1で得たアセテート(0.51m mol)100
mgを乾燥メチレンクロライド5mlに溶解させ、窒
素気流中、水冷撹拌下にてトリフロロ酢酸2.5ml
を加え15分間撹拌を続ける。反応終了後水20mlを
加えメチレンクロライド層を飽和炭酸水素ナトリ
ウム水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥する。溶媒を留去して得られる残留物を
アルミナカラムクロマトグラフイーに付しメチレ
ンクロライド溶出部より無色油状物65mgを得る。 IRスペクトル:(CHCl3)cm-13610(OH),
1720(C=O) NMRスペクトル:δ(CDCl3)0.90,1.18,
1.30,2.03(各3H,s,CH 3)3.01(1H,
dd,〓CHSeph)4.7(2H,m,―CH 2OAc)
7.2〜7.7(5H,m,ArSe) Massスペクトル:m/e 369(M+) 元素分析:C18H26O3Se・0.2C6H6 計算値:C,59.83;H,7.12 実験値:C,59.79;H,7.35 実施例 3 2―アセトキシメチル―3―ヒドロキシ―1,
1,3―トリメチル―6―フエニルセレノキシ
シクロヘキサン〔式′:R1=COCH3、R2=
C6H6〕の製造 実施例2で得たアセテート(2.36m mol)872
mgをメタノール2mlに溶解させ、氷冷撹拌下にて
30%過酸化水素水溶液5滴を加え、10分間撹拌を
続ける。反応終了後水10mlを加えベンゼンで抽出
する。ベンゼン層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥する。溶媒留去して得られる
結晶をエタノールより再結晶することよりm.
p.139〜140.5゜の無色針状晶420mgを得る。 IRスペクトル:(CHCl3)cm-13610(OH),
1720(C=O) NMRスペクトル:δ(CDCl3)4.60(5H,
broad s,
1,3―トリメチル―6―フエニルセレニルシ
クロヘキサン〔式:R1=COCH3、R2=
C6H5〕の製造 実施例1で得たアセテート(0.51m mol)100
mgを乾燥メチレンクロライド5mlに溶解させ、窒
素気流中、水冷撹拌下にてトリフロロ酢酸2.5ml
を加え15分間撹拌を続ける。反応終了後水20mlを
加えメチレンクロライド層を飽和炭酸水素ナトリ
ウム水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥する。溶媒を留去して得られる残留物を
アルミナカラムクロマトグラフイーに付しメチレ
ンクロライド溶出部より無色油状物65mgを得る。 IRスペクトル:(CHCl3)cm-13610(OH),
1720(C=O) NMRスペクトル:δ(CDCl3)0.90,1.18,
1.30,2.03(各3H,s,CH 3)3.01(1H,
dd,〓CHSeph)4.7(2H,m,―CH 2OAc)
7.2〜7.7(5H,m,ArSe) Massスペクトル:m/e 369(M+) 元素分析:C18H26O3Se・0.2C6H6 計算値:C,59.83;H,7.12 実験値:C,59.79;H,7.35 実施例 3 2―アセトキシメチル―3―ヒドロキシ―1,
1,3―トリメチル―6―フエニルセレノキシ
シクロヘキサン〔式′:R1=COCH3、R2=
C6H6〕の製造 実施例2で得たアセテート(2.36m mol)872
mgをメタノール2mlに溶解させ、氷冷撹拌下にて
30%過酸化水素水溶液5滴を加え、10分間撹拌を
続ける。反応終了後水10mlを加えベンゼンで抽出
する。ベンゼン層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥する。溶媒留去して得られる
結晶をエタノールより再結晶することよりm.
p.139〜140.5゜の無色針状晶420mgを得る。 IRスペクトル:(CHCl3)cm-13610(OH),
1720(C=O) NMRスペクトル:δ(CDCl3)4.60(5H,
broad s,
【式】)
Massスペクトル:m/e
312(M+―73)
元素分析:C18H26O4Se
計算値:C,56.10;H,6.80
実験値:C,56.08;H,6.89
実施例 4
2―アセトキシメチル―3―ヒドロキシ―1,
1,3―トリメチル―5―シクロヘキセン〔式
:R1=COCH3〕の製造 実施例3で得たセレンオキシド体(1.06m
mol)410mgを四塩化炭素50mlに溶解させ、16時
間加熱還流する。溶媒留去し得られる残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイーに付し、ベン
ゼン溶出部より無色油状物210mgを得る。 IRスペクトル:(CHCl3)cm-13610(OH),
1720(C=O) NMRスペクトル:δ(CDCl3) 5.18〜5.75(2H,m,オレフインプロトン) Massスペクトル:m/e 212(M+) 元素分析:C12H20O3 計算値:C,67.89;H,9.50 実験値:C,67.69;H,9.22 実施例 5 2―アセトキシメチル―1,1,3―トリメチ
ル―3,5―シクロヘキサジエン〔式:R1
=COCH3〕の製造 実施例4で得たアセテート(0.94m mol)200
mgをメチレンクロライド20mlに溶解させ、氷冷撹
拌下窒素気流中、塩化チオニル(0.97m mol)
115mgおよびピリジン(1.2m mol)90mgを加え
5分間撹拌を続ける。反応終了後水50mlを加え飽
和硫酸水素カリウム水、飽和炭酸水素ナトリウム
水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥する。溶媒留去して得られる残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーに付し、ベンゼン
溶出部より無色油状物162mgを得る。 IRスペクトル:(CHCl3)cm-11720(C=O) NMRスペクトル:δ(CDCl3) 5.15〜5.88(3H,m,オレフインプロトン) Massスペクトル:m/e 151(M+―43) 元素分析:C12H18O2・0.5CH2Cl2 計算値:C,62.58;H,8.09 実験値:C,62.94;H,8.05 実施例 6 2―ヒドロキシメチル―1,1,3―トリメチ
ル―3,5―シクロヘキサジエン〔式〕の製
造 実施例5で得たアセテート(0.77m mol)150
mgをメタノール10mlに溶解させ、1規定水酸化カ
リウム―メタノール液3mlを加え、室温にて4時
間撹拌する。反応終了後水50mlを加えベンゼンで
抽出する。ベンゼン層を飽和食塩水で洗浄後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥。溶媒留去して得られる
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに
付し、メチレンクロライド溶出部より無色油状物
106mgを得る。 IRスペクトル:(CHCl3)cm-13600(OH) NMRスペクトル:δ(CDCl3)3.58〜3.95
(2H,m,―CH 2OH) Massスペクトル:m/e 121(M+―31) 元素分析:C10H16O・0.2CHCl3 計算値:C,69.56;H,9.27 実験値:C,69.14;H,8.79 実施例 7 2,2,6―トリメチルシクロヘキサ―3,5
―ジエン―カルボキシアルデヒド〔式〕の製
造 ピリジン3.3gに酸化クロム(3.3m mol)330
mgを加え1時間撹拌後、実施例6で得たアルコー
ル体(0.56m mol)85mgのピリジン溶液2mlを加
え窒素気流中室温にて1時間撹拌する。反応終了
後水50mlを加えベンゼン抽出。ベンゼン層を飽和
硫酸水素カリウム水、飽和炭酸水素ナトリウム水
および飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥。溶媒留去して得られる残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイーに付し、ベンゼン―
ヘキサン(1:1)溶出部より無色油状物23mgを
得る。 IRスペクトル:(CHCl3)cm-11710(C=O) NMRスペクトル:δ(CDCl3)2.38(1H,d,
〓CH―CHO)5.4〜6.1(3H,m,オレフイン
プロトン)9.42(1H,d,CHO) Massスペクトル:m/e 121(M+―29) 実施例 8 サフラナール〔式〕の製造 実施例7で得たアルデヒド体(0.15m mol)23
mgをピリジン2mlに溶解させ、窒素気流中2.5時
間加熱還流を行なう。反応終了後水10mlを加えベ
ンゼンで抽出する。ベンゼン層を飽和硫酸水素カ
リウム水、飽和炭酸水素ナトリウム水および飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥。溶
媒留去することにより得られる残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイーに付し、ベンゼン―
ヘキサン(1:1)溶出部より無色油状物のサフ
ラナール9mgを得る。 IRスペクトル:(CHCl3)cm-11665(C=O) NMRスペクトル:δ(CDCl3)1.21(6H,
s,CH3×2)2.17(3H,s,CH3)2.83(2H,
s,
1,3―トリメチル―5―シクロヘキセン〔式
:R1=COCH3〕の製造 実施例3で得たセレンオキシド体(1.06m
mol)410mgを四塩化炭素50mlに溶解させ、16時
間加熱還流する。溶媒留去し得られる残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイーに付し、ベン
ゼン溶出部より無色油状物210mgを得る。 IRスペクトル:(CHCl3)cm-13610(OH),
1720(C=O) NMRスペクトル:δ(CDCl3) 5.18〜5.75(2H,m,オレフインプロトン) Massスペクトル:m/e 212(M+) 元素分析:C12H20O3 計算値:C,67.89;H,9.50 実験値:C,67.69;H,9.22 実施例 5 2―アセトキシメチル―1,1,3―トリメチ
ル―3,5―シクロヘキサジエン〔式:R1
=COCH3〕の製造 実施例4で得たアセテート(0.94m mol)200
mgをメチレンクロライド20mlに溶解させ、氷冷撹
拌下窒素気流中、塩化チオニル(0.97m mol)
115mgおよびピリジン(1.2m mol)90mgを加え
5分間撹拌を続ける。反応終了後水50mlを加え飽
和硫酸水素カリウム水、飽和炭酸水素ナトリウム
水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥する。溶媒留去して得られる残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーに付し、ベンゼン
溶出部より無色油状物162mgを得る。 IRスペクトル:(CHCl3)cm-11720(C=O) NMRスペクトル:δ(CDCl3) 5.15〜5.88(3H,m,オレフインプロトン) Massスペクトル:m/e 151(M+―43) 元素分析:C12H18O2・0.5CH2Cl2 計算値:C,62.58;H,8.09 実験値:C,62.94;H,8.05 実施例 6 2―ヒドロキシメチル―1,1,3―トリメチ
ル―3,5―シクロヘキサジエン〔式〕の製
造 実施例5で得たアセテート(0.77m mol)150
mgをメタノール10mlに溶解させ、1規定水酸化カ
リウム―メタノール液3mlを加え、室温にて4時
間撹拌する。反応終了後水50mlを加えベンゼンで
抽出する。ベンゼン層を飽和食塩水で洗浄後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥。溶媒留去して得られる
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに
付し、メチレンクロライド溶出部より無色油状物
106mgを得る。 IRスペクトル:(CHCl3)cm-13600(OH) NMRスペクトル:δ(CDCl3)3.58〜3.95
(2H,m,―CH 2OH) Massスペクトル:m/e 121(M+―31) 元素分析:C10H16O・0.2CHCl3 計算値:C,69.56;H,9.27 実験値:C,69.14;H,8.79 実施例 7 2,2,6―トリメチルシクロヘキサ―3,5
―ジエン―カルボキシアルデヒド〔式〕の製
造 ピリジン3.3gに酸化クロム(3.3m mol)330
mgを加え1時間撹拌後、実施例6で得たアルコー
ル体(0.56m mol)85mgのピリジン溶液2mlを加
え窒素気流中室温にて1時間撹拌する。反応終了
後水50mlを加えベンゼン抽出。ベンゼン層を飽和
硫酸水素カリウム水、飽和炭酸水素ナトリウム水
および飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥。溶媒留去して得られる残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイーに付し、ベンゼン―
ヘキサン(1:1)溶出部より無色油状物23mgを
得る。 IRスペクトル:(CHCl3)cm-11710(C=O) NMRスペクトル:δ(CDCl3)2.38(1H,d,
〓CH―CHO)5.4〜6.1(3H,m,オレフイン
プロトン)9.42(1H,d,CHO) Massスペクトル:m/e 121(M+―29) 実施例 8 サフラナール〔式〕の製造 実施例7で得たアルデヒド体(0.15m mol)23
mgをピリジン2mlに溶解させ、窒素気流中2.5時
間加熱還流を行なう。反応終了後水10mlを加えベ
ンゼンで抽出する。ベンゼン層を飽和硫酸水素カ
リウム水、飽和炭酸水素ナトリウム水および飽和
食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥。溶
媒留去することにより得られる残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイーに付し、ベンゼン―
ヘキサン(1:1)溶出部より無色油状物のサフ
ラナール9mgを得る。 IRスペクトル:(CHCl3)cm-11665(C=O) NMRスペクトル:δ(CDCl3)1.21(6H,
s,CH3×2)2.17(3H,s,CH3)2.83(2H,
s,
【式】)5.37〜5.70(2H,m,オレフ
インプロトン)10.20(1H,s,CHO)
Massスペクトル:m/e
121(M+―29)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次式() で示されるサフラナールを製造するに際し、 一般式() (式中、R1はアシル基を表わす)で示され
るゲラニオール誘導体に一般式() R2SeX () (式中、R2はアリール基を、Xはハロゲン
原子を表わす)で示される有機セレニルハライ
ドを反応させ、一般式() (式中、R1およびR2は前記定義と同一)で
示される化合物を得、 次いで酸の存在下に閉環させ一般式() (式中、R1およびR2は前記定義と同一)で
示される閉環体となしたのち、過酸化水素によ
りセレンオキシドとし、次いで脱セレン化を施
こし、一般式() (式中、R1は前記定義と同一)で示される
化合物を得、 次いで塩基性触媒下で脱水を行ない、一般式
() (式中、R1は前記定義と同一)で示される
ジオレフイン体となしたのち加水分解して式
() で示されるアルコール体を得、 次いで塩基の存在下で酸化反応を行ない、式
() で示されるアルデヒド体に導いたのち、塩基性存
在下で加熱処理することを特徴とする上記一般式
()で示されるサフラナールの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15299879A JPS5677236A (en) | 1979-11-28 | 1979-11-28 | Preparation of safranal |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15299879A JPS5677236A (en) | 1979-11-28 | 1979-11-28 | Preparation of safranal |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5677236A JPS5677236A (en) | 1981-06-25 |
| JPS6220973B2 true JPS6220973B2 (ja) | 1987-05-11 |
Family
ID=15552711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15299879A Granted JPS5677236A (en) | 1979-11-28 | 1979-11-28 | Preparation of safranal |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5677236A (ja) |
-
1979
- 1979-11-28 JP JP15299879A patent/JPS5677236A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5677236A (en) | 1981-06-25 |
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