JPS62222433A - 磁気デイスク基板の製造方法 - Google Patents
磁気デイスク基板の製造方法Info
- Publication number
- JPS62222433A JPS62222433A JP61066153A JP6615386A JPS62222433A JP S62222433 A JPS62222433 A JP S62222433A JP 61066153 A JP61066153 A JP 61066153A JP 6615386 A JP6615386 A JP 6615386A JP S62222433 A JPS62222433 A JP S62222433A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alloy substrate
- surface roughness
- magnetic disk
- aluminum alloy
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気ディスク基板の生産性向上に関するもの
である。
である。
従来の磁気ディスク基板は、社団法人金属表面技術協会
から１９８６年１月（ζ発行された実務表面技術第８３
巻第１号「磁気ディスク用アルミニウム合金の開発の動
向と背景（福井利安著）」１ζ記されたように、板材等
から円板状に打ち抜いたディスク素材（以下アルミブラ
ンク）を旋削、研削等の粗加工、矯正軟化の後、超精密
旋削（ダイヤモンドターニング）、精密研削（グライン
ディング）、精密研磨（ポリッシング）など、あるいは
これらの組み合わせにより、表面粗さ０．０１〜０．０
２μｍＲａの範囲を有する超精密鏡面仕上材（以下アル
ミ合金基板）とされる。このアルミ合金基板上に記録媒
体の池類に対応して非磁性Ｎ１−Ｐメッキあるいは陽極
酸化膜を形成し、これをポリッシングなどの加工手段を
用いて所要平面度および所要表面粗さ１ζ再度鏡面仕上
げしたものを用いており、最終的な磁気ディスク基板の
表面粗さは０．００５〜０．０１０μｍＲａの範囲を維
持するようにしている。
から１９８６年１月（ζ発行された実務表面技術第８３
巻第１号「磁気ディスク用アルミニウム合金の開発の動
向と背景（福井利安著）」１ζ記されたように、板材等
から円板状に打ち抜いたディスク素材（以下アルミブラ
ンク）を旋削、研削等の粗加工、矯正軟化の後、超精密
旋削（ダイヤモンドターニング）、精密研削（グライン
ディング）、精密研磨（ポリッシング）など、あるいは
これらの組み合わせにより、表面粗さ０．０１〜０．０
２μｍＲａの範囲を有する超精密鏡面仕上材（以下アル
ミ合金基板）とされる。このアルミ合金基板上に記録媒
体の池類に対応して非磁性Ｎ１−Ｐメッキあるいは陽極
酸化膜を形成し、これをポリッシングなどの加工手段を
用いて所要平面度および所要表面粗さ１ζ再度鏡面仕上
げしたものを用いており、最終的な磁気ディスク基板の
表面粗さは０．００５〜０．０１０μｍＲａの範囲を維
持するようにしている。
従来の磁気ディスク基板の製造方法は以上のように行わ
れるので、アルミ合金基板の高精度表可加工ｆζ時間が
かかり、又、非磁性表面被覆のアルミ合金基板への密着
性が悪いという問題があった。
れるので、アルミ合金基板の高精度表可加工ｆζ時間が
かかり、又、非磁性表面被覆のアルミ合金基板への密着
性が悪いという問題があった。
この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、磁気ディスク基板の歩留り向上ならび（ζ生
産性向上を図るよう（こした磁気ディスク基板の製造方
法を得ることを目的とする。
たもので、磁気ディスク基板の歩留り向上ならび（ζ生
産性向上を図るよう（こした磁気ディスク基板の製造方
法を得ることを目的とする。
本発明ｆζ係る磁気ディスク基板の製造方法は、所定の
表面粗さく０．１０〜０．５０μｍＲａ）ｔζ加工した
アルミ合金基板上Ｅζ非磁性表面被覆を施し、これをポ
リッシング加工して所要の表面粗さくｏ、ｏ Ｏ５〜０
．０１０μｍＲａ）を有する磁気ディスク基板としたも
のである。
表面粗さく０．１０〜０．５０μｍＲａ）ｔζ加工した
アルミ合金基板上Ｅζ非磁性表面被覆を施し、これをポ
リッシング加工して所要の表面粗さくｏ、ｏ Ｏ５〜０
．０１０μｍＲａ）を有する磁気ディスク基板としたも
のである。
この発明ｆζおけるアルミ合金基板の表面粗さを０．１
０〜０．６０μｍＲａとすること１ζより、アルミブラ
ンクのアルミ合金基板への加工工程を短縮でき、また非
磁性表面被覆のアルミ合金基板への密着性が向上する。
０〜０．６０μｍＲａとすること１ζより、アルミブラ
ンクのアルミ合金基板への加工工程を短縮でき、また非
磁性表面被覆のアルミ合金基板への密着性が向上する。
以下、本発明の一実施例を説明する。板厚２．１６鱈の
アルミブランク（ＪＩＳ Ｈ４０００記載のＡ５０８６
合金）を精密旋削して板厚を１．８８±０．０２５ｇ１
でするとともＥζ表面粗さを０，１０〜０．５０μｍＲ
ａの範囲に成形したものをアルミ合金基板とした。この
アルミ合金基板ｆζ１５〜２０μｍの非磁性Ｎ１−Ｐメ
ッキ処理したところ表面粗さは０．２０〜０．５０μｍ
Ｒａとなった。Ｎ１−Ｐメッキ処理に先立つアルミ合金
基板の前処理は、脱脂−酸化膜除去一置換亜鉛処理（２
回）とした。
アルミブランク（ＪＩＳ Ｈ４０００記載のＡ５０８６
合金）を精密旋削して板厚を１．８８±０．０２５ｇ１
でするとともＥζ表面粗さを０，１０〜０．５０μｍＲ
ａの範囲に成形したものをアルミ合金基板とした。この
アルミ合金基板ｆζ１５〜２０μｍの非磁性Ｎ１−Ｐメ
ッキ処理したところ表面粗さは０．２０〜０．５０μｍ
Ｒａとなった。Ｎ１−Ｐメッキ処理に先立つアルミ合金
基板の前処理は、脱脂−酸化膜除去一置換亜鉛処理（２
回）とした。
上記非磁性Ｎ１−Ｐメッキ面を両面同時ポリッシング加
工して所要表面粗さ０．００５〜０．０１０μｍＲａ
の範囲１ζ鏡面仕上げした。第、１表ｆζ本実施例Ｅ
ζおけるポリッシング条件を示す。
工して所要表面粗さ０．００５〜０．０１０μｍＲａ
の範囲１ζ鏡面仕上げした。第、１表ｆζ本実施例Ｅ
ζおけるポリッシング条件を示す。
第１表
第２表は本実施例鉦ζよる基板表面粗さの推移を従来の
製造方法１ζよった場合と比較した結果を示すものであ
る。表から明らかな如く、アルミ合金基板の表面粗さは
従来法が本実施例の一一一と小さいが、非磁性Ｎ１−Ｐ
メッキを施すと従来例の表面粗さが大きく増加するのに
対して本実施例によった場合は殆んど変化せず結果的に
非磁性Ｎ１−Ｐメッキ以降の両者の表面粗さが同等１ζ
なることがわかる。
製造方法１ζよった場合と比較した結果を示すものであ
る。表から明らかな如く、アルミ合金基板の表面粗さは
従来法が本実施例の一一一と小さいが、非磁性Ｎ１−Ｐ
メッキを施すと従来例の表面粗さが大きく増加するのに
対して本実施例によった場合は殆んど変化せず結果的に
非磁性Ｎ１−Ｐメッキ以降の両者の表面粗さが同等１ζ
なることがわかる。
さら１ζ第８表１ζ非磁性Ｎ１−Ｐメッキのアルミ合金
基板への密着性を試験した結果を示す。
基板への密着性を試験した結果を示す。
第８表
（ト） 試料数は１０枚
上記実施例では、所定の表面粗さを有するアルミ合金基
板を得る方法として精密旋削を用いたが、研削を用いて
もよく、また、アルミ合金基板上の非磁性表面被覆Ｅζ
ついてはＮ１−Ｐメッキに限らず陽極酸化膜などの場合
であってもよく、上記の実施例と同様の効果を奏する。
板を得る方法として精密旋削を用いたが、研削を用いて
もよく、また、アルミ合金基板上の非磁性表面被覆Ｅζ
ついてはＮ１−Ｐメッキに限らず陽極酸化膜などの場合
であってもよく、上記の実施例と同様の効果を奏する。
以上のようにこの発明Ｅζよれば、アルミ合金基板の表
面粗さを０．１０〜０．５０μｍＲａとしたので、非磁
性Ｎ１−Ｐメッキのアルミ合金基板への密着性向上、ア
ルミ合金基板の製造工程の短縮および歩留りの向上など
、磁気ディスク基板のトータル的な生産性向上に貢献で
きる等の効果がある。
面粗さを０．１０〜０．５０μｍＲａとしたので、非磁
性Ｎ１−Ｐメッキのアルミ合金基板への密着性向上、ア
ルミ合金基板の製造工程の短縮および歩留りの向上など
、磁気ディスク基板のトータル的な生産性向上に貢献で
きる等の効果がある。
Claims (1)
- アルミ合金基板上に非磁性表面被覆を施し、この非磁性
被膜を所定の面粗さに加工する磁気ディスク基板の製造
において、アルミ合金基板の表面を粗さ０．１０〜０．
５０μｍＲａの範囲に加工した後非磁性膜を所定の面粗
さに加工することを特徴とする磁気ディスク基板の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61066153A JPS62222433A (ja) | 1986-03-24 | 1986-03-24 | 磁気デイスク基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61066153A JPS62222433A (ja) | 1986-03-24 | 1986-03-24 | 磁気デイスク基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62222433A true JPS62222433A (ja) | 1987-09-30 |
Family
ID=13307635
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61066153A Pending JPS62222433A (ja) | 1986-03-24 | 1986-03-24 | 磁気デイスク基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62222433A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5478657A (en) * | 1993-06-16 | 1995-12-26 | Nkk Corporation | Titanium discs useful for magnetic discs |
-
1986
- 1986-03-24 JP JP61066153A patent/JPS62222433A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5478657A (en) * | 1993-06-16 | 1995-12-26 | Nkk Corporation | Titanium discs useful for magnetic discs |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2585128A (en) | Aluminum optical mirror and method of making same | |
| EP0402568B1 (en) | Method of manufacturing a titanium magnetic disk substrate | |
| JPS62222433A (ja) | 磁気デイスク基板の製造方法 | |
| JPS62226424A (ja) | 磁気デイスク基板の製造方法 | |
| JPS62278294A (ja) | 磁気記録媒体用基板の製造方法 | |
| JPS5816324B2 (ja) | ジセイマクノセイゾウホウホウ | |
| SU394142A1 (ru) | Способ изготовления магнитного диска | |
| JPS5922232A (ja) | 磁気デイスク用アルミニウム基板の製造法 | |
| JPH01162778A (ja) | 磁気ディスク基板の製造方法 | |
| JPH0392263A (ja) | チタン合金基板の鏡面仕上げ方法 | |
| JPS6222236A (ja) | 磁気デイスク用アルミニウム合金基板 | |
| JPH0417696A (ja) | アルミニウム製品の製造方法 | |
| JPS62188796A (ja) | 繊維強化軽金属製複合部材の製造法 | |
| JPH01112521A (ja) | 磁気ディスク用基板 | |
| JPS61120362A (ja) | 溝付光デイスク原盤の製造方法 | |
| JPS62234237A (ja) | 磁気デイスクの製造方法 | |
| JP2001006161A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
| MY120150A (en) | Process for fabricating a magnetic disk substrate | |
| JPS61120350A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS63160008A (ja) | 磁気デイスク用基板 | |
| JPH02143919A (ja) | アルミニウム磁気ディスク基板の製造方法 | |
| JPS6187221A (ja) | 磁気記録体の製造方法 | |
| JPH02143916A (ja) | アルミニウム磁気ディスク基板 | |
| JPH01133218A (ja) | 磁気ディスク用アルミニウム基板の製造方法 | |
| JPS5976773A (ja) | 切断加工用砥石の製造方法 |