JPH0587007B2 - - Google Patents
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- JPH0587007B2 JPH0587007B2 JP61020228A JP2022886A JPH0587007B2 JP H0587007 B2 JPH0587007 B2 JP H0587007B2 JP 61020228 A JP61020228 A JP 61020228A JP 2022886 A JP2022886 A JP 2022886A JP H0587007 B2 JPH0587007 B2 JP H0587007B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- unit
- mask
- cpu
- wafer transfer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Safety Devices In Control Systems (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の属する分野］
本発明は半導体製造装置に関し、特に装置の部
分障害発生時に障害部分のみを初期化させ、装置
全体を継続動作させる半導体製造装置に関する。
分障害発生時に障害部分のみを初期化させ、装置
全体を継続動作させる半導体製造装置に関する。
［従来の技術］
半導体製造工程における製造自動化に伴い、半
導体製造装置の高機能化、自動化、高スループツ
ト化が計られてきている。これら高機能化、自動
化等に伴い、装置自体も複雑化、大型化してきて
いる。このような状況の元では、誤動作等の装置
障害が一度でも発生した場合にその復旧への迅速
性、簡便性および確実性が非常に重要なものとな
る。
導体製造装置の高機能化、自動化、高スループツ
ト化が計られてきている。これら高機能化、自動
化等に伴い、装置自体も複雑化、大型化してきて
いる。このような状況の元では、誤動作等の装置
障害が一度でも発生した場合にその復旧への迅速
性、簡便性および確実性が非常に重要なものとな
る。
一般に半導体製造装置の動作の概略は以下のよ
うなものであり、これらの動作がシーケンシヤル
に実行される。
うなものであり、これらの動作がシーケンシヤル
に実行される。
装置の初期化。
装置動作パラメータの設定および取り込み。
使用レチクルの選択搬入および装置との位置
合せ。
合せ。
ウエハの供給搬入。
ウエハとマスクの位置合せおよび露光。
ウエハの回収搬出。
なお、上記〜については、１枚のウエハに
ついて〜の処理をシーケンシヤルに実行し、
これを複数のウエハについて繰返し処理してい
る。
ついて〜の処理をシーケンシヤルに実行し、
これを複数のウエハについて繰返し処理してい
る。
今、例えば、のウエハ供給搬入の動作の際、
ウエハ搬送系に障害が発生し動作シーケンスが先
に進めない状態に陥つたとする。このとき従来の
半導体製造装置においては、装置全体を一遍に初
期化（リセツト）していた。従つて、以前の処理
を継続させるためには、リセツト後再度〜迄
の過程を同じように行わなければならず、その間
装置の運用が止まり生産性（スループツト）の低
下をもたらすという不都合があつた。また、で
既に合わせてあつたマスクは初期化によりずれて
しまう。この場合、ずれたマスクを再度合せ直し
ても以前と全く同じ状態にすることは難しいた
め、製品の均一性を保つことができず、この点で
も大きな欠点を持つていた。
ウエハ搬送系に障害が発生し動作シーケンスが先
に進めない状態に陥つたとする。このとき従来の
半導体製造装置においては、装置全体を一遍に初
期化（リセツト）していた。従つて、以前の処理
を継続させるためには、リセツト後再度〜迄
の過程を同じように行わなければならず、その間
装置の運用が止まり生産性（スループツト）の低
下をもたらすという不都合があつた。また、で
既に合わせてあつたマスクは初期化によりずれて
しまう。この場合、ずれたマスクを再度合せ直し
ても以前と全く同じ状態にすることは難しいた
め、製品の均一性を保つことができず、この点で
も大きな欠点を持つていた。
［発明の目的］
本発明は、上述従来例の問題点に鑑み、部分障
害が発生した際、装置全体を初期化させることな
く障害発生したユニツトだけを初期化せしめる事
により、障害からの復帰を簡便に、迅速に、かつ
確実に行うことのできる半導体製造装置を提供す
ることを目的とする。
害が発生した際、装置全体を初期化させることな
く障害発生したユニツトだけを初期化せしめる事
により、障害からの復帰を簡便に、迅速に、かつ
確実に行うことのできる半導体製造装置を提供す
ることを目的とする。
［実施例の説明］
以下、図面に従つて本発明の実施例を説明す
る。
る。
第１図は、本発明の一実施例に係る投影露光装
置の外観を示す。同図において、１は集積回路パ
ターンを備えたマスク（レチクル）で、他にマス
クアライメントマークやマスク・ウエハ・アライ
メントマークを備えている。２はマスクステージ
で、マスク１を保持してマスク１を平面内（XY
方向）および回転方向（θ方向）に移動させる。
３は縮小投影レンズ、４は感光層を備えるウエハ
で、マスク・ウエハ・アライメントマークとテレ
ビ・ウエハアライメントマークを備えている。５
はウエハステージである。ウエハステージ５はウ
エハ４を保持してそれを平面内および回転方向に
移動させるものであり、またウエハ焼付位置（投
影視野内）とテレビ・ウエハアライメント位置間
を移動する。６はテレビ・ウエハアライメント用
検知装置の対物レンズ、７は撮像管または固体撮
像素子、９は双眼ユニツトで、投影レンズ３を介
してウエハ４の表面を観察するために役立つ。１
０は照明光学系およびマスク・ウエハ・アライメ
ント用の検知装置を収容する上部ユニツトであ
る。１１は投影露光装置本体に指令を与えるコン
ソールのモニタ受像機（コンソールCRT）、１２
は装置に指令を与えたりパラメータを入力するキ
ーボードである。１３はウエハ搬送ユニツトで、
未露光のウエハをウエハステージ５に供給搬送
し、また露光済のウエハを回収搬送する。１４は
マスク・チエンジヤ・ユニツトで、指定したマス
クをマスク・ステージ２上にセツトし、またはマ
スク・ステージ２上のマスク１を回収するユニツ
トである。
置の外観を示す。同図において、１は集積回路パ
ターンを備えたマスク（レチクル）で、他にマス
クアライメントマークやマスク・ウエハ・アライ
メントマークを備えている。２はマスクステージ
で、マスク１を保持してマスク１を平面内（XY
方向）および回転方向（θ方向）に移動させる。
３は縮小投影レンズ、４は感光層を備えるウエハ
で、マスク・ウエハ・アライメントマークとテレ
ビ・ウエハアライメントマークを備えている。５
はウエハステージである。ウエハステージ５はウ
エハ４を保持してそれを平面内および回転方向に
移動させるものであり、またウエハ焼付位置（投
影視野内）とテレビ・ウエハアライメント位置間
を移動する。６はテレビ・ウエハアライメント用
検知装置の対物レンズ、７は撮像管または固体撮
像素子、９は双眼ユニツトで、投影レンズ３を介
してウエハ４の表面を観察するために役立つ。１
０は照明光学系およびマスク・ウエハ・アライメ
ント用の検知装置を収容する上部ユニツトであ
る。１１は投影露光装置本体に指令を与えるコン
ソールのモニタ受像機（コンソールCRT）、１２
は装置に指令を与えたりパラメータを入力するキ
ーボードである。１３はウエハ搬送ユニツトで、
未露光のウエハをウエハステージ５に供給搬送
し、また露光済のウエハを回収搬送する。１４は
マスク・チエンジヤ・ユニツトで、指定したマス
クをマスク・ステージ２上にセツトし、またはマ
スク・ステージ２上のマスク１を回収するユニツ
トである。
第２図は、第１図の投影露光装置の電気回路構
成を示すブロツク図である。同図において、２１
は装置全体の制御を司る本体CPUで、マイクロ
コンピユータまたはミニコンピユータ等の中央演
算処理装置からなる。２２はウエハステージ駆動
装置、２３はアライメント検出系、２４はレチク
ルステージ駆動装置、２５は照明系、２６はシヤ
ツタ駆動装置、２７はフオーカス検出系、２８は
Ｚ駆動装置で、これらは、本体CPU２１により
制御される。
成を示すブロツク図である。同図において、２１
は装置全体の制御を司る本体CPUで、マイクロ
コンピユータまたはミニコンピユータ等の中央演
算処理装置からなる。２２はウエハステージ駆動
装置、２３はアライメント検出系、２４はレチク
ルステージ駆動装置、２５は照明系、２６はシヤ
ツタ駆動装置、２７はフオーカス検出系、２８は
Ｚ駆動装置で、これらは、本体CPU２１により
制御される。
また、２９は本体CPU２１との情報の授受を
しつつウエハ搬送ユニツト１３（第１図のものと
同一）全体の制御を司るウエハ搬送系のCPUで、
マイクロコンピユータ等の中央処理装置から成つ
ている。３０はウエハ搬送制御系で、ウエハ搬送
系CPU２９の指令によりウエハ搬送を制御する。
３１は本体CPU２１との情報の授受をしつつ、
マスク・チエンジヤ・ユニツト１４（第１図のも
のと同一）全体の制御を司るマスク・チエンジヤ
CPUである。３２はマスク・チエンジヤ制御系
で、マスク・チエンジヤCPU３１の指令により
マスクの交換等を制御する。３３はコンソールユ
ニツトで、本体CPU２１にこの露光装置の動作
に関する各種の指令やパラメータを与えるための
ものである。３４はコンソールCPU、３５はパ
ラメータ等を記憶する外部メモリである。なお、
CRT１１およびキーボード１２は第１図のもの
と同一である。
しつつウエハ搬送ユニツト１３（第１図のものと
同一）全体の制御を司るウエハ搬送系のCPUで、
マイクロコンピユータ等の中央処理装置から成つ
ている。３０はウエハ搬送制御系で、ウエハ搬送
系CPU２９の指令によりウエハ搬送を制御する。
３１は本体CPU２１との情報の授受をしつつ、
マスク・チエンジヤ・ユニツト１４（第１図のも
のと同一）全体の制御を司るマスク・チエンジヤ
CPUである。３２はマスク・チエンジヤ制御系
で、マスク・チエンジヤCPU３１の指令により
マスクの交換等を制御する。３３はコンソールユ
ニツトで、本体CPU２１にこの露光装置の動作
に関する各種の指令やパラメータを与えるための
ものである。３４はコンソールCPU、３５はパ
ラメータ等を記憶する外部メモリである。なお、
CRT１１およびキーボード１２は第１図のもの
と同一である。
３８はリセツト制御系で本発明の特徴とする部
分である。このリセツト制御系３８は、コンソー
ル・ユニツト３３、本体CPU２１、ウエハ搬送
ユニツト１３およびマスク・チエンジヤ・ユニツ
ト１４の各ユニツトに対し、各々独立に、または
同時に、初期化（リセツト）させるための信号を
発生するものであり、スイツチと制御回路等で構
成されている。
分である。このリセツト制御系３８は、コンソー
ル・ユニツト３３、本体CPU２１、ウエハ搬送
ユニツト１３およびマスク・チエンジヤ・ユニツ
ト１４の各ユニツトに対し、各々独立に、または
同時に、初期化（リセツト）させるための信号を
発生するものであり、スイツチと制御回路等で構
成されている。
第３図は、本装置の本体動作を中心とした概略
フローチヤートである。
フローチヤートである。
第１図〜第３図を参照して、まず装置がパワー
オンすると、装置本体の各部分２１〜２８、コン
ソールユニツト３３、ウエハ搬送ユニツト１３お
よびマスク・チエンジヤ・ユニツト１４の初期化
がなされる（ステツプS1）。次に、コンソールユ
ニツト３３のキーボード１２から動作パラメータ
を設定入力する（ステツプS2）。設定入力された
パラメータは本体CPU２１に転送される（ステ
ツプS3）。次に、本体CPU２１からの指令により
マスク・チエンジヤ・ユニツト１４は指定マスク
をマスク・ステージ２上に搬送しセツトする（ス
テツプS4）。乗せられたマスク１は、レチクルス
テージ駆動系２４とアライメント検出系２３によ
り、本体上の定位置に位置決めされる（ステツプ
S5）。次に、コンソールユニツト３３からの処理
スタート待ちの状態になる（ステツプS6）。ここ
で、スタートの指令がコンソールキーボード１２
から入力されると、その旨は本体CPU２１に伝
えられる。本体CPU２１はウエハ搬送ユニツト
１３に対しウエハステージ５上にウエハを乗せる
べく指令を出し、これによりウエハがウエハ・ス
テージ５に供給される（ステツプS7）。次に、ウ
エハ４とマスク１の位置合せが行われる（ステツ
プS8）。そして、シヤツタが開かれマスク１上の
パターンはウエハ４上に転写焼付け露光される
（ステツプS9）。次に、本体CPU２１からウエハ
搬送ユニツト１３に指令が行き、露光済のウエハ
が回収される（ステツプS10）。以上で１枚のウ
エハの露光が完了する。次に、１ロツト分のウエ
ハについてすべて露光が完了したかチエツクし
（ステツプS11）、まだ未露光のウエハがあればス
テツプS7〜S11を繰返し処理し１ロツト分のウエ
ハすべての焼付けを行う。ステツプS11で１ロツ
ト分すべて完了したらステツプS6のスタート待
ちの状態に戻る。以上が本装置の通常の概略動作
である。
オンすると、装置本体の各部分２１〜２８、コン
ソールユニツト３３、ウエハ搬送ユニツト１３お
よびマスク・チエンジヤ・ユニツト１４の初期化
がなされる（ステツプS1）。次に、コンソールユ
ニツト３３のキーボード１２から動作パラメータ
を設定入力する（ステツプS2）。設定入力された
パラメータは本体CPU２１に転送される（ステ
ツプS3）。次に、本体CPU２１からの指令により
マスク・チエンジヤ・ユニツト１４は指定マスク
をマスク・ステージ２上に搬送しセツトする（ス
テツプS4）。乗せられたマスク１は、レチクルス
テージ駆動系２４とアライメント検出系２３によ
り、本体上の定位置に位置決めされる（ステツプ
S5）。次に、コンソールユニツト３３からの処理
スタート待ちの状態になる（ステツプS6）。ここ
で、スタートの指令がコンソールキーボード１２
から入力されると、その旨は本体CPU２１に伝
えられる。本体CPU２１はウエハ搬送ユニツト
１３に対しウエハステージ５上にウエハを乗せる
べく指令を出し、これによりウエハがウエハ・ス
テージ５に供給される（ステツプS7）。次に、ウ
エハ４とマスク１の位置合せが行われる（ステツ
プS8）。そして、シヤツタが開かれマスク１上の
パターンはウエハ４上に転写焼付け露光される
（ステツプS9）。次に、本体CPU２１からウエハ
搬送ユニツト１３に指令が行き、露光済のウエハ
が回収される（ステツプS10）。以上で１枚のウ
エハの露光が完了する。次に、１ロツト分のウエ
ハについてすべて露光が完了したかチエツクし
（ステツプS11）、まだ未露光のウエハがあればス
テツプS7〜S11を繰返し処理し１ロツト分のウエ
ハすべての焼付けを行う。ステツプS11で１ロツ
ト分すべて完了したらステツプS6のスタート待
ちの状態に戻る。以上が本装置の通常の概略動作
である。
次に、本実施例の装置の動作説明として、上記
ステツプS7のウエハ搬送（供給）の時、ウエハ
搬送ユニツト１３に偶発的障害が発生し、いくら
待つてもウエハ・ステージ４上にウエハが供給さ
れない状態を例にとり、その障害に対するリカバ
リ動作を第４図および第５図を参照して説明す
る。
ステツプS7のウエハ搬送（供給）の時、ウエハ
搬送ユニツト１３に偶発的障害が発生し、いくら
待つてもウエハ・ステージ４上にウエハが供給さ
れない状態を例にとり、その障害に対するリカバ
リ動作を第４図および第５図を参照して説明す
る。
第４図は、第３図のステツプS7の部分の詳細
フローチヤートである。第５図は、ウエハ搬送系
ユニツト１３を初期化（リセツト）した時の動作
フローチヤートである。
フローチヤートである。第５図は、ウエハ搬送系
ユニツト１３を初期化（リセツト）した時の動作
フローチヤートである。
まず、第４図を参照して正常動作を説明する。
本体CPU２１は、ウエハ搬送ユニツト１３に対
しウエハ供給指令を送信する（ステツプS7−
１）。その後、CPU２１はウエハ搬送ユニツト１
３からの受信待ちになる（ステツプS7−２）。こ
こでCPU２１が何らかの信号を受信するとこの
ループを抜けて次のステツプに入る。そして、受
信情報がウエハ供給完了かをチエツクする（ステ
ツプS7−３）。供給完了であれば、これでステツ
プS7のウエハ供給は正常に完了したことになり、
シーケンスはステツプS8（第１図）に進む。
本体CPU２１は、ウエハ搬送ユニツト１３に対
しウエハ供給指令を送信する（ステツプS7−
１）。その後、CPU２１はウエハ搬送ユニツト１
３からの受信待ちになる（ステツプS7−２）。こ
こでCPU２１が何らかの信号を受信するとこの
ループを抜けて次のステツプに入る。そして、受
信情報がウエハ供給完了かをチエツクする（ステ
ツプS7−３）。供給完了であれば、これでステツ
プS7のウエハ供給は正常に完了したことになり、
シーケンスはステツプS8（第１図）に進む。
ここでウエハ搬送系に偶発的に障害が発生し、
上記ステツプS7−２の受信待ちのループを繰返
し回つたままになつたとする。一般的にはここで
エラー表示等が出される。オペレータはここで、
リセツト制御系３８にあるウエハ搬送ユニツトリ
セツト用スイツチにより当該ウエハ搬送ユニツト
１３を初期化（リセツト）する。すると当該ユニ
ツト１３の動作は、第５図のフローチヤートのよ
うになる。まず、当該ユニツト１３の初期化がな
される（ステツプS20）。次に、当該ユニツト１
３が初期化開始した事を本体CPU２１に通信す
る（ステツプS21）。この通信により本体CPU２
１はステツプS7−２のループを抜け、ステツプ
S7−３を介してステツプS7−４の判定を「YES」
で抜ける。これにより本体CPU２１はウエハ搬
送ユニツト１３にリセツトがかけられた事を検知
する（ステツプS7−４）。
上記ステツプS7−２の受信待ちのループを繰返
し回つたままになつたとする。一般的にはここで
エラー表示等が出される。オペレータはここで、
リセツト制御系３８にあるウエハ搬送ユニツトリ
セツト用スイツチにより当該ウエハ搬送ユニツト
１３を初期化（リセツト）する。すると当該ユニ
ツト１３の動作は、第５図のフローチヤートのよ
うになる。まず、当該ユニツト１３の初期化がな
される（ステツプS20）。次に、当該ユニツト１
３が初期化開始した事を本体CPU２１に通信す
る（ステツプS21）。この通信により本体CPU２
１はステツプS7−２のループを抜け、ステツプ
S7−３を介してステツプS7−４の判定を「YES」
で抜ける。これにより本体CPU２１はウエハ搬
送ユニツト１３にリセツトがかけられた事を検知
する（ステツプS7−４）。
次に、本体CPU２１がどの状態で待つていた
かを対応ウエハ搬送ユニツト状態情報として当該
ユニツト１３に送信する（ステツプS7−５）。す
ると、この通信により当該ユニツト１３は本情報
待ちのループ（ステツプS22）を抜けて、本体
CPU２１が待つていた状態に対応した当該ユニ
ツト１３の状態に動作シーケンスを進める（ステ
ツプS23）。そして次に、当該ユニツト１３は本
体CPU２１の待つていた状態に復帰した事を回
復完了通信として本体CPU２１に通信する（ス
テツプS24）。この通信により本体CPU２１はス
テツプS7−６，S7−７のループから抜けでてス
テツプS7−２のループを再度回りはじめる。こ
こで、ステツプS24の処理を終えた当該ユニツト
１３の動作シーケンスは通常動作に分岐し、ウエ
ハ供給完了した後ウエハ供給完了の通信を本体
CPU２１に送る。この通信により本体CPU２１
はステツプS7−２のループを抜け、ステツプS7
−３の判定を「YES」で抜け、ウエハ供給動作
が正常に終了したことになる。以上のようにして
障害からの復帰を行うものである。
かを対応ウエハ搬送ユニツト状態情報として当該
ユニツト１３に送信する（ステツプS7−５）。す
ると、この通信により当該ユニツト１３は本情報
待ちのループ（ステツプS22）を抜けて、本体
CPU２１が待つていた状態に対応した当該ユニ
ツト１３の状態に動作シーケンスを進める（ステ
ツプS23）。そして次に、当該ユニツト１３は本
体CPU２１の待つていた状態に復帰した事を回
復完了通信として本体CPU２１に通信する（ス
テツプS24）。この通信により本体CPU２１はス
テツプS7−６，S7−７のループから抜けでてス
テツプS7−２のループを再度回りはじめる。こ
こで、ステツプS24の処理を終えた当該ユニツト
１３の動作シーケンスは通常動作に分岐し、ウエ
ハ供給完了した後ウエハ供給完了の通信を本体
CPU２１に送る。この通信により本体CPU２１
はステツプS7−２のループを抜け、ステツプS7
−３の判定を「YES」で抜け、ウエハ供給動作
が正常に終了したことになる。以上のようにして
障害からの復帰を行うものである。
なお、上記実施例においては、本体CPU２１
とウエハ搬送ユニツト１３との障害について述べ
たが、コンソール・ユニツト３３、マスク・チエ
ンジヤ・ユニツト１４についても全く同様に障害
復帰するようにできる。
とウエハ搬送ユニツト１３との障害について述べ
たが、コンソール・ユニツト３３、マスク・チエ
ンジヤ・ユニツト１４についても全く同様に障害
復帰するようにできる。
また、上記実施例中ウエハ搬送系ユニツトの初
期化（リセツト）をリセツト制御系３８中に設け
てあるスイツチで行つているが、コンソール・ユ
ニツト３３のキーボード１２からの指令によつて
行つてもよい。
期化（リセツト）をリセツト制御系３８中に設け
てあるスイツチで行つているが、コンソール・ユ
ニツト３３のキーボード１２からの指令によつて
行つてもよい。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、半導体
装置において部分的に障害が発生したユニツトだ
けを初期化して処理を継続しているので、装置の
障害リカバリを簡便、迅速かつ確実に行うことが
でき生産性の向上（スループツトの向上）に大き
な効果がある。また、製品の均一化を保つという
点でも大きな効果がある。
装置において部分的に障害が発生したユニツトだ
けを初期化して処理を継続しているので、装置の
障害リカバリを簡便、迅速かつ確実に行うことが
でき生産性の向上（スループツトの向上）に大き
な効果がある。また、製品の均一化を保つという
点でも大きな効果がある。
第１図は、本発明の一実施例に係る投影露光装
置の外観図、第２図は、上記実施例の投影露光装
置の制御回路を示すブロツク図、第３図は、上記
実施例の装置の動作および作用を説明するための
フローチヤート、第４図、第５図は、上記実施例
の装置の詳細動作を説明するためのフローチヤー
トである。 １……マスク（レチクル）、４……ウエハ、１
１……モニタ用CRT、１２……キーボード、１
３……ウエハ搬送ユニツト、１４……マスク・チ
エンジヤ・ユニツト、２１……本体CPU、２９
……ウエハ搬送系CPU、３０……ウエハ搬送制
御系、３１……マスク・チエンジヤCPU、３２
……マスク・チエンジヤ制御系、３３……コンソ
ールユニツト、３８……リセツト制御系。
置の外観図、第２図は、上記実施例の投影露光装
置の制御回路を示すブロツク図、第３図は、上記
実施例の装置の動作および作用を説明するための
フローチヤート、第４図、第５図は、上記実施例
の装置の詳細動作を説明するためのフローチヤー
トである。 １……マスク（レチクル）、４……ウエハ、１
１……モニタ用CRT、１２……キーボード、１
３……ウエハ搬送ユニツト、１４……マスク・チ
エンジヤ・ユニツト、２１……本体CPU、２９
……ウエハ搬送系CPU、３０……ウエハ搬送制
御系、３１……マスク・チエンジヤCPU、３２
……マスク・チエンジヤ制御系、３３……コンソ
ールユニツト、３８……リセツト制御系。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 装置を構成する複数の構成ユニツトに偶発的
な部分障害が発生したとき該構成ユニツト毎に個
別に初期化する手段と、 上記初期化の後、装置の処理を継続する制御手
段と を備えること特徴とする半導体製造装置。 ２ 前記制御手段が、障害の発生した前記構成ユ
ニツトを障害発生直前の状態に自動的に回復した
後、装置の処理を継続するものである特許請求の
範囲第１項記載の半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61020228A JPS62179116A (ja) | 1986-02-03 | 1986-02-03 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61020228A JPS62179116A (ja) | 1986-02-03 | 1986-02-03 | 半導体製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62179116A JPS62179116A (ja) | 1987-08-06 |
| JPH0587007B2 true JPH0587007B2 (ja) | 1993-12-15 |
Family
ID=12021311
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61020228A Granted JPS62179116A (ja) | 1986-02-03 | 1986-02-03 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62179116A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4983241A (en) * | 1988-01-28 | 1991-01-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of splicing webs |
| JPH0491423A (ja) * | 1990-08-02 | 1992-03-24 | Canon Inc | 半導体露光装置 |
| KR100698035B1 (ko) * | 2002-03-23 | 2007-03-23 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자용 합착 장치 및 원점 설정 방법 |
| JP5286491B2 (ja) * | 2009-09-25 | 2013-09-11 | 株式会社ソフイア | 遊技機 |
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| JP5572886B2 (ja) * | 2009-11-17 | 2014-08-20 | 株式会社ソフイア | 遊技機 |
| JP5572885B2 (ja) * | 2009-11-17 | 2014-08-20 | 株式会社ソフイア | 遊技機 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52152116A (en) * | 1976-06-14 | 1977-12-17 | Toshiba Corp | Information processing unit |
| JPS55154641A (en) * | 1979-05-22 | 1980-12-02 | Toshiba Corp | Initializing system in multiprocessor system |
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| JPS58112117A (ja) * | 1981-12-25 | 1983-07-04 | Fujitsu Ten Ltd | 処理装置のリセツト回路 |
| JPS5979370A (ja) * | 1982-10-28 | 1984-05-08 | Fuji Electric Co Ltd | マルチプロセツサ制御方式 |
| JPS59165171A (ja) * | 1983-03-11 | 1984-09-18 | Hitachi Ltd | マルチプロセツサシステムにおける個別リセツト方式 |
| JPS6017501A (ja) * | 1983-07-08 | 1985-01-29 | Toshiba Corp | プロセス制御装置のシ−ケンス制御方式 |
| JPS60150105A (ja) * | 1984-01-18 | 1985-08-07 | Hitachi Ltd | 動作シ−ケンスの異常回復方式 |
| US4575714A (en) * | 1984-03-12 | 1986-03-11 | Tegal Corporation | Module presence sensor |
| JPS60209817A (ja) * | 1984-04-02 | 1985-10-22 | Meidensha Electric Mfg Co Ltd | 無人車の車載制御装置 |
| JPS60247760A (ja) * | 1984-05-23 | 1985-12-07 | Hitachi Ltd | デ−タ通信システム |
| JPS60252934A (ja) * | 1984-05-29 | 1985-12-13 | Omron Tateisi Electronics Co | イニシヤルリセツト制御装置 |
-
1986
- 1986-02-03 JP JP61020228A patent/JPS62179116A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62179116A (ja) | 1987-08-06 |
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