JPH0535568B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0535568B2 JPH0535568B2 JP60164803A JP16480385A JPH0535568B2 JP H0535568 B2 JPH0535568 B2 JP H0535568B2 JP 60164803 A JP60164803 A JP 60164803A JP 16480385 A JP16480385 A JP 16480385A JP H0535568 B2 JPH0535568 B2 JP H0535568B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parameters
- main operation
- displayed
- semiconductor manufacturing
- input
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Safety Devices In Control Systems (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の分野］
本発明は、LSI、VLSI等の半導体デバイスを
製造する装置に関し、特に、半導体デバイスの製
造動作を開始する際の装置の操作を簡便、迅速か
つ確実に行なうことができる半導体製造装置に関
する。
製造する装置に関し、特に、半導体デバイスの製
造動作を開始する際の装置の操作を簡便、迅速か
つ確実に行なうことができる半導体製造装置に関
する。
［発明の背景］
半導体集積回路の集積度の向上に伴い、半導体
製造装置の高機能化や高性能化が計られている。
これらの高機能化や高性能化に伴つてこの種の装
置を動作させる際のパラメータも増加してきた。
このようなパラメータは、例えばステツプアンド
リピート式の投影露光装置においては、数十個か
ら時には数百個にも及ぶ場合がある。
製造装置の高機能化や高性能化が計られている。
これらの高機能化や高性能化に伴つてこの種の装
置を動作させる際のパラメータも増加してきた。
このようなパラメータは、例えばステツプアンド
リピート式の投影露光装置においては、数十個か
ら時には数百個にも及ぶ場合がある。
一方、従来の半導体製造装置は、オペレータが
スタートスイツチやキーボード等を操作して動作
開始指令を入力すると、装置が直ちに実動するた
め、例えば動作開始指令入力直後に他のマスク工
程に変更すべきであつたことやパラメータ設定す
べきであつたことに気がついた場合であつても、
既にいくつかのウエハについては作業を開始して
おり、その分については不良となつたり、レジス
トを剥離して再塗布する手間を厭わなければけれ
ばならない等という不都合があつた。
スタートスイツチやキーボード等を操作して動作
開始指令を入力すると、装置が直ちに実動するた
め、例えば動作開始指令入力直後に他のマスク工
程に変更すべきであつたことやパラメータ設定す
べきであつたことに気がついた場合であつても、
既にいくつかのウエハについては作業を開始して
おり、その分については不良となつたり、レジス
トを剥離して再塗布する手間を厭わなければけれ
ばならない等という不都合があつた。
また、マイク工程やロツトを切換えた場合等、
パラメータの設定状態を確認するためには上記の
ように膨大な数のパラメータをチエツクする必要
があり、これは、最早、半導体製造装置について
主に日常の動作開始および停止の操作を行なうた
めに配置されているオペレータにとつては不可能
でさえある。このため、例えばマスク工程ごとに
パラメータの最適値を記憶しておき、マスク工程
が決まれば記憶されているパラメータ値を一括し
て設定するようにした装置も提案されている。し
かし、この場合であつてもピント位置や露光時間
等は雰囲気や経時等により変化し易く、変更しな
ければならない場合がままある。従来の装置にお
いて、この一部のパラメータを変更しようとすれ
ば、上記の数百個にも及ぶパラメータの内から所
望のものを一覧表等により検索し、そのパラメー
タのコード名をキー入力して特定した後そのパラ
メータを変更設定しており、コード名を誤検索し
たり誤入力し勝ちであつた。すなわち、オペレー
タにとつてパラメータ変更の作業は至難の業であ
り、誤操作従つて半導体製品不良の発生するおそ
れが多分にあつた。
パラメータの設定状態を確認するためには上記の
ように膨大な数のパラメータをチエツクする必要
があり、これは、最早、半導体製造装置について
主に日常の動作開始および停止の操作を行なうた
めに配置されているオペレータにとつては不可能
でさえある。このため、例えばマスク工程ごとに
パラメータの最適値を記憶しておき、マスク工程
が決まれば記憶されているパラメータ値を一括し
て設定するようにした装置も提案されている。し
かし、この場合であつてもピント位置や露光時間
等は雰囲気や経時等により変化し易く、変更しな
ければならない場合がままある。従来の装置にお
いて、この一部のパラメータを変更しようとすれ
ば、上記の数百個にも及ぶパラメータの内から所
望のものを一覧表等により検索し、そのパラメー
タのコード名をキー入力して特定した後そのパラ
メータを変更設定しており、コード名を誤検索し
たり誤入力し勝ちであつた。すなわち、オペレー
タにとつてパラメータ変更の作業は至難の業であ
り、誤操作従つて半導体製品不良の発生するおそ
れが多分にあつた。
［発明の目的］
本発明は、上述従来形の問題点に鑑み、主動作
開始時のパラメータの間違いによる誤操作を防止
し、オペレータがパラメータの確認および変更を
簡便、迅速かつ確実に行なうことのできる半導体
製造装置を提供することを目的とする。
開始時のパラメータの間違いによる誤操作を防止
し、オペレータがパラメータの確認および変更を
簡便、迅速かつ確実に行なうことのできる半導体
製造装置を提供することを目的とする。
［実施例の説明］
以下、図面に従つて本発明の実施例を説明す
る。
る。
第１図は、本発明の一実施例に係る投影露光装
置の外観を示す。同図において、１は集積回路パ
ターンを備えたマスクで、他にマスクアライメン
トマークやマスク・ウエハ・アライメントマーク
を備えている。２はマスクステージで、マスク１
を保持してマスク１を平面内（XY方向）及び回
転方向（θ方向）に移動させる。３は縮小投影レ
ンズ、４は感光層を備えるウエハで、マスク・ウ
エハ・アライメントマークとテレビ・ウエハアラ
イメントマークを備えている。５はウエハステー
ジである。ウエハステージ５はウエハ４を保持し
てそれを平面内及び回転方法に移動させるもので
あり、またウエハ焼付位置（投影野内）とテレ
ビ・ウエハアライメント位置間を移動する。６は
テレビ・ウエハアライメント用検知装置の対物レ
ンズ、７は撮像管または固体影像素子、９は双眼
ユニツトで、投影レンズ３を介してウエハ４の表
面を観察するために役立つ。１０は照明光学系お
よびマスク・ウエハ・アライメント用の検知装置
を収容する上部ユニツトである。１１は撮影露光
装置本体に指令を与えるコンソールのモニタ受像
機（コンソールCRT）、１２は装置に指令を与え
たりパラメータを入力するキーボードである。
置の外観を示す。同図において、１は集積回路パ
ターンを備えたマスクで、他にマスクアライメン
トマークやマスク・ウエハ・アライメントマーク
を備えている。２はマスクステージで、マスク１
を保持してマスク１を平面内（XY方向）及び回
転方向（θ方向）に移動させる。３は縮小投影レ
ンズ、４は感光層を備えるウエハで、マスク・ウ
エハ・アライメントマークとテレビ・ウエハアラ
イメントマークを備えている。５はウエハステー
ジである。ウエハステージ５はウエハ４を保持し
てそれを平面内及び回転方法に移動させるもので
あり、またウエハ焼付位置（投影野内）とテレ
ビ・ウエハアライメント位置間を移動する。６は
テレビ・ウエハアライメント用検知装置の対物レ
ンズ、７は撮像管または固体影像素子、９は双眼
ユニツトで、投影レンズ３を介してウエハ４の表
面を観察するために役立つ。１０は照明光学系お
よびマスク・ウエハ・アライメント用の検知装置
を収容する上部ユニツトである。１１は撮影露光
装置本体に指令を与えるコンソールのモニタ受像
機（コンソールCRT）、１２は装置に指令を与え
たりパラメータを入力するキーボードである。
第２図は、第１図の投影露光装置の電気回路構
成を示すブロツク図である。同図において、２１
は装置全体の制御を司る本体CPUで、マイクロ
コンピユータまたはミニコンピユータ等の中央演
算処理装置からなる。２２はウエハステージ駆動
装置、２３はアライメント検出系、２４はレチク
ルステージ駆動装置、２５は照明系、２６はシヤ
ツタ駆動装置、２７はフオーカス検出系、２８は
Ｚ駆動装置で、これらは、本体CPU２１により
制御される。２９は搬送系である。
成を示すブロツク図である。同図において、２１
は装置全体の制御を司る本体CPUで、マイクロ
コンピユータまたはミニコンピユータ等の中央演
算処理装置からなる。２２はウエハステージ駆動
装置、２３はアライメント検出系、２４はレチク
ルステージ駆動装置、２５は照明系、２６はシヤ
ツタ駆動装置、２７はフオーカス検出系、２８は
Ｚ駆動装置で、これらは、本体CPU２１により
制御される。２９は搬送系である。
３０はコンソールユニツトで、本体CPU２１
にこの露光装置の動作に関する各種の指令やパラ
メータを与えるためのものである。３１はコンソ
ールCPU、３２はパラメータ等を記憶する外部
メモリである。なお、CRT１１およびキーボー
ド１２は第１図のものと同一である。
にこの露光装置の動作に関する各種の指令やパラ
メータを与えるためのものである。３１はコンソ
ールCPU、３２はパラメータ等を記憶する外部
メモリである。なお、CRT１１およびキーボー
ド１２は第１図のものと同一である。
次に、第３図のフローチヤートおよび第４図の
表示画面例を参照しながら、第１図および第２図
に示す装置の動作を説明する。
表示画面例を参照しながら、第１図および第２図
に示す装置の動作を説明する。
まず、オペレータ等がこの装置の電源をオンす
ると、コンソールCPU３１および本体CPU２１
は、それぞれ初期化処理を実行し（ステツプ
S1）、コンソールユニツト３０はコマンド入力待
ちの状態となる（ステツプS2）。この状態におい
ては、CRT１１の表示画面は第４の画面D1に示
すようなものとなる。画面D1には、上部にコマ
ンド入力エリアが有り、キーボード１２から入力
した装置本体に対する種々の指令をモニタできる
ようになつている。コンソールCPU３１は、オ
ペレータ等がキーボード１２から入力したコマン
ドについて、スタート（主動作開始）コマンドで
あるかどうかを判別し（ステツプS3）、もし、そ
うでなければそれぞれの入力コマンドに対する処
理を行なつた後（ステツプS4）、再びコマンド入
力待ち（ステツプS2）に戻る。スタートコマン
ドが入力された場合は、外部記憶装置に記憶され
ている多数のパラメータのうち所定のもののみを
CRT１１に表示する（ステツプS5）。この状態の
画面表示には第４図の画面D2に示すようなもの
である。画面D2の上段の「ST」は、コマンド入
力エリアに入力したスタートコマンドである。中
段には所定のパラメータを表示している。
ると、コンソールCPU３１および本体CPU２１
は、それぞれ初期化処理を実行し（ステツプ
S1）、コンソールユニツト３０はコマンド入力待
ちの状態となる（ステツプS2）。この状態におい
ては、CRT１１の表示画面は第４の画面D1に示
すようなものとなる。画面D1には、上部にコマ
ンド入力エリアが有り、キーボード１２から入力
した装置本体に対する種々の指令をモニタできる
ようになつている。コンソールCPU３１は、オ
ペレータ等がキーボード１２から入力したコマン
ドについて、スタート（主動作開始）コマンドで
あるかどうかを判別し（ステツプS3）、もし、そ
うでなければそれぞれの入力コマンドに対する処
理を行なつた後（ステツプS4）、再びコマンド入
力待ち（ステツプS2）に戻る。スタートコマン
ドが入力された場合は、外部記憶装置に記憶され
ている多数のパラメータのうち所定のもののみを
CRT１１に表示する（ステツプS5）。この状態の
画面表示には第４図の画面D2に示すようなもの
である。画面D2の上段の「ST」は、コマンド入
力エリアに入力したスタートコマンドである。中
段には所定のパラメータを表示している。
ここで、画面中段に表示する所定のパラメータ
は、オペレータが主動作を開始する際に変更する
可能性が大きいものである。従つて、装置のスタ
ートコマンド入力後、この画面D2のように所定
のパラメータを自動的に表示することによつて、
オペレータは処理開始時に主要なパラメータを確
実に確認することができ、パラメータが間違つた
まま主動作を開始してしまうという誤操作を防止
できる。また、この表示パラメータは、元来オペ
レータが変更する可能性の多いもののみであり、
参照しなくてもよいようなものは含まれていな
い。従つて、その個数もそれ程多くはないため、
確認は簡便かつ迅速に行なうことができる。ま
た、これらのパラメータとして前回の露光動作に
おいて用いたものを表示するようにすれば、パラ
メータ変更は工程変更等露光条件を変更する必要
がある場合にのみ行なえばよく、作業を簡略にす
ることができる。
は、オペレータが主動作を開始する際に変更する
可能性が大きいものである。従つて、装置のスタ
ートコマンド入力後、この画面D2のように所定
のパラメータを自動的に表示することによつて、
オペレータは処理開始時に主要なパラメータを確
実に確認することができ、パラメータが間違つた
まま主動作を開始してしまうという誤操作を防止
できる。また、この表示パラメータは、元来オペ
レータが変更する可能性の多いもののみであり、
参照しなくてもよいようなものは含まれていな
い。従つて、その個数もそれ程多くはないため、
確認は簡便かつ迅速に行なうことができる。ま
た、これらのパラメータとして前回の露光動作に
おいて用いたものを表示するようにすれば、パラ
メータ変更は工程変更等露光条件を変更する必要
がある場合にのみ行なえばよく、作業を簡略にす
ることができる。
画面D2の下段には、次の入力を促すプロンプ
トメツセージが表示されている。ステツプS6お
よび画面D2の状態から「Ｙ」を入力すると、表
示されているパラメータに従つて主動作すなわち
本実施例の場合は露光実行処理が開始される。
「Ｎ」を入力すると再びコマンド入力待ち（ステ
ツプS2）へ戻る。また、「Ｃ」を入力するとパラ
メータ変更処理（ステツプS7）を行なうことが
できる。
トメツセージが表示されている。ステツプS6お
よび画面D2の状態から「Ｙ」を入力すると、表
示されているパラメータに従つて主動作すなわち
本実施例の場合は露光実行処理が開始される。
「Ｎ」を入力すると再びコマンド入力待ち（ステ
ツプS2）へ戻る。また、「Ｃ」を入力するとパラ
メータ変更処理（ステツプS7）を行なうことが
できる。
パラメータ変更処理においては、まず、変更項
目ナンバを指定する旨のプロンプトメツセージを
表示する。このときの画面表示は第４図の画面
D3に示すようなものである。ナンバ３のパラメ
ータは露光時間（EXPOSURE TIME）を示し
その値は200ｍＳである。画面D3下段の表示
「CHANGE NO. OR END ？」はプロンプト
メツセージである。ここで、変更データのナンバ
として「３」をキー入力すると（ステツプS7）、
表示画面は第４図の画面D4に示すようになる。
D4の下段の「EXPOSURE TIME 200ｍＳ」は、
ナンバ３の動作パラメータの現在値を示してお
り、現在この項目を変更していることを示してい
る。この値は、外部メモリ３２に記憶されていた
ものである。この200ｍＳを変更するためには変
更データを入力する（ステツプS8）。ここでは露
光時間を150ｍＳに変更するように150をキー入力
している。その結果、ナンバ３の露光時間は変更
され表示画面はD5（但し、「Ｅ」はなし）のよう
なものとなる。さらに変更すべき項目がある場合
はステツプS7より上記のパラメータ変更操作を
繰り返せばよい。また、パラメータの変更操作を
終了する場合は画面D5のように終了コードとし
て「Ｅ」を入力すれば、シーケンスはステツプ
S6に戻り、同時に表示画面はD2となる。
目ナンバを指定する旨のプロンプトメツセージを
表示する。このときの画面表示は第４図の画面
D3に示すようなものである。ナンバ３のパラメ
ータは露光時間（EXPOSURE TIME）を示し
その値は200ｍＳである。画面D3下段の表示
「CHANGE NO. OR END ？」はプロンプト
メツセージである。ここで、変更データのナンバ
として「３」をキー入力すると（ステツプS7）、
表示画面は第４図の画面D4に示すようになる。
D4の下段の「EXPOSURE TIME 200ｍＳ」は、
ナンバ３の動作パラメータの現在値を示してお
り、現在この項目を変更していることを示してい
る。この値は、外部メモリ３２に記憶されていた
ものである。この200ｍＳを変更するためには変
更データを入力する（ステツプS8）。ここでは露
光時間を150ｍＳに変更するように150をキー入力
している。その結果、ナンバ３の露光時間は変更
され表示画面はD5（但し、「Ｅ」はなし）のよう
なものとなる。さらに変更すべき項目がある場合
はステツプS7より上記のパラメータ変更操作を
繰り返せばよい。また、パラメータの変更操作を
終了する場合は画面D5のように終了コードとし
て「Ｅ」を入力すれば、シーケンスはステツプ
S6に戻り、同時に表示画面はD2となる。
前述したように、本実施例の投影露光装置にお
いて、電源をオンした後自動的に表示される動作
パラメータは、主動作を開始する前にオペレータ
が変更する可能性の多い所定のものである。従つ
て、オペレータはこれらのパラメータを表示画面
により簡単に確認することができるが、さらに、
これらのパラメータを変更する場合にも、従来の
ように全パラメータの中から検索する必要はな
く、簡便にかつ迅速に動作パラメータの変更が行
なえる。また、表示されるパラメータの個数はそ
れ程多くないので、誤操作も低減し変更操作が確
実となる。
いて、電源をオンした後自動的に表示される動作
パラメータは、主動作を開始する前にオペレータ
が変更する可能性の多い所定のものである。従つ
て、オペレータはこれらのパラメータを表示画面
により簡単に確認することができるが、さらに、
これらのパラメータを変更する場合にも、従来の
ように全パラメータの中から検索する必要はな
く、簡便にかつ迅速に動作パラメータの変更が行
なえる。また、表示されるパラメータの個数はそ
れ程多くないので、誤操作も低減し変更操作が確
実となる。
なお、上記実施例では表示および変更可能なパ
ラメータを主動作の種類（JOB NAME）、焦点
位置（FOCUS）および露光時間（EXPOSURE
TIME）としている。これは、投影露光装置にお
いて、日常、オペレータが確認し変更するパラメ
ータが上記の３つであるということに基づくもの
である。現在、投影露光装置において、オペレー
タはこれら以外のパラメータについてはほとんど
確認も変更もする必要がない。しかし、表示およ
び変更が可能なパラメータは装置の種類等の各種
の条件により、適宜変更することができる。例え
ば、上記実施例においてはコンソールCPUで実
行するプログラムの変更等により容易に変更可能
である。
ラメータを主動作の種類（JOB NAME）、焦点
位置（FOCUS）および露光時間（EXPOSURE
TIME）としている。これは、投影露光装置にお
いて、日常、オペレータが確認し変更するパラメ
ータが上記の３つであるということに基づくもの
である。現在、投影露光装置において、オペレー
タはこれら以外のパラメータについてはほとんど
確認も変更もする必要がない。しかし、表示およ
び変更が可能なパラメータは装置の種類等の各種
の条件により、適宜変更することができる。例え
ば、上記実施例においてはコンソールCPUで実
行するプログラムの変更等により容易に変更可能
である。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、半導体
製造装置において、主動作の開始指令が入力され
る際にオペレータ等装置を操作する者が使用する
可能性の高い所定の動作パラメータを表示し、確
認信号を入力させるようにしているので、動作パ
ラメータが間違つたまま主動作を開始してしまう
という誤操作を防止し、主要なパラメータの確認
を簡便、迅速かつ確実に行なうことができる。ま
た、動作パラメータの変更においても全パラメー
タから検索する必要はなく、装置を操作する者が
使用する可能性の高い動作パラメータのみを簡
便、迅速かつ確実に変更することが可能である。
製造装置において、主動作の開始指令が入力され
る際にオペレータ等装置を操作する者が使用する
可能性の高い所定の動作パラメータを表示し、確
認信号を入力させるようにしているので、動作パ
ラメータが間違つたまま主動作を開始してしまう
という誤操作を防止し、主要なパラメータの確認
を簡便、迅速かつ確実に行なうことができる。ま
た、動作パラメータの変更においても全パラメー
タから検索する必要はなく、装置を操作する者が
使用する可能性の高い動作パラメータのみを簡
便、迅速かつ確実に変更することが可能である。
第１図は、本発明の一実施例に係る投影露光装
置の外観図、第２図は、上記実施例の投影露光装
置の制御回路を示すブロツク図、第３図は、上記
実施例の動作および作用を説明するためのフロー
チヤート、第４図は、表示画面例である。 １１……モニタ用CRT、１２……キーボード、
２１……本体CPU、３０……コンソール、３１
……コンソールCPU、３２……外部メモリ。
置の外観図、第２図は、上記実施例の投影露光装
置の制御回路を示すブロツク図、第３図は、上記
実施例の動作および作用を説明するためのフロー
チヤート、第４図は、表示画面例である。 １１……モニタ用CRT、１２……キーボード、
２１……本体CPU、３０……コンソール、３１
……コンソールCPU、３２……外部メモリ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 主動作開始指令入力手段と、該主動作におけ
る多数の動作パラメータのうち所定のパラメータ
のみを表示する手段と、確認信号入力手段とを備
え、上記開始指令が入力されたときは先ず上記表
示手段に上記所定のパラメータを表示し、さらに
上記確認信号が入力された後、上記主動作を開始
するようにしたことを特徴とする半導体製造装
置。 ２ 前記主動作が前記動作パラメータの設定内容
に応じて複数種類に分類されており、前記表示手
段に前記所定パラメータと併せて上記主動作の種
類を表示する特許請求の範囲第１項記載の半導体
製造装置。 ３ 前記入力手段がキーボードであり、該キーボ
ードからのキー入力に基づいて前記表示されたデ
ータを書換可能である特許請求の範囲第２項記載
の半導体製造装置。 ４ 前記主動作種類データを書換えたときは書換
後の主動作種類に対応する動作パラメータを表示
する特許請求の範囲第３項記載の半導体製造装
置。 ５ 前記確認信号が入力されたときは表示データ
書換の有無にかかわらず表示された動作パラメー
タに従つた前記主動作を開始する特許請求の範囲
第２項記載の半導体製造装置。 ６ 前記主動作が露光動作である特許請求の範囲
第１〜５項のいずれか１つに記載の半導体製造装
置。 ７ 前記表示データが焦点位置および露光時間パ
ラメータである特許請求の範囲第６項記載の半導
体製造装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60164803A JPS6225422A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | 半導体製造装置 |
| US07/752,986 US5197118A (en) | 1985-07-25 | 1991-09-03 | Control system for a fine pattern printing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60164803A JPS6225422A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | 半導体製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6225422A JPS6225422A (ja) | 1987-02-03 |
| JPH0535568B2 true JPH0535568B2 (ja) | 1993-05-26 |
Family
ID=15800218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60164803A Granted JPS6225422A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6225422A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08216939A (ja) * | 1995-02-16 | 1996-08-27 | Shizuoka Kasei Kk | スペアタイヤカバー |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5549713A (en) * | 1978-10-02 | 1980-04-10 | Nec Corp | Automatic work processing system |
| US4279013A (en) * | 1979-10-31 | 1981-07-14 | The Valeron Corporation | Machine process controller |
| JPS57212406A (en) * | 1981-06-24 | 1982-12-27 | Hitachi Ltd | Method and device for focusing |
| JPS58156938A (ja) * | 1982-03-12 | 1983-09-19 | Hitachi Ltd | 露光装置 |
| JPS58179834A (ja) * | 1982-04-14 | 1983-10-21 | Canon Inc | 投影露光装置及び方法 |
| JPS60205955A (ja) * | 1984-03-29 | 1985-10-17 | Mitsubishi Electric Corp | 電子ビ−ム加工装置 |
-
1985
- 1985-07-25 JP JP60164803A patent/JPS6225422A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08216939A (ja) * | 1995-02-16 | 1996-08-27 | Shizuoka Kasei Kk | スペアタイヤカバー |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6225422A (ja) | 1987-02-03 |
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| JPH0535568B2 (ja) | ||
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