JPS62263190A - 珪素を含む化合物及びその製造法 - Google Patents
珪素を含む化合物及びその製造法Info
- Publication number
- JPS62263190A JPS62263190A JP10192386A JP10192386A JPS62263190A JP S62263190 A JPS62263190 A JP S62263190A JP 10192386 A JP10192386 A JP 10192386A JP 10192386 A JP10192386 A JP 10192386A JP S62263190 A JPS62263190 A JP S62263190A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vinyltoluene
- group
- lithiated
- compound
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 title 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 22
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- -1 oxirane compound Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 9
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 claims abstract description 7
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims abstract description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 4
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical group [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 12
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract description 2
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 abstract 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 9
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 5
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000009614 chemical analysis method Methods 0.000 description 4
- DCFKHNIGBAHNSS-UHFFFAOYSA-N chloro(triethyl)silane Chemical group CC[Si](Cl)(CC)CC DCFKHNIGBAHNSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 4
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 4
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000012925 reference material Substances 0.000 description 4
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 4
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N lithium amide Chemical class [Li+].[NH2-] AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 150000002900 organolithium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 229920001002 functional polymer Polymers 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWRJSDBMRJIGSK-UHFFFAOYSA-N lithium;phenylmethylbenzene Chemical compound [Li+].C=1C=CC=CC=1[CH-]C1=CC=CC=C1 XWRJSDBMRJIGSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCPPTNDHEILJHD-UHFFFAOYSA-N lithium;prop-1-ene Chemical compound [Li+].[CH2-]C=C VCPPTNDHEILJHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- FWGNVBNJIIHYAR-UHFFFAOYSA-N phenyl(3-phenylbut-2-en-2-yl)silane Chemical compound CC(=C([SiH2]C1=CC=CC=C1)C)C1=CC=CC=C1 FWGNVBNJIIHYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N phenyllithium Chemical compound [Li]C1=CC=CC=C1 NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N triethylsilane Substances CC[SiH](CC)CC AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXTIBZLKQPJVII-UHFFFAOYSA-N triethylsilicon Chemical compound CC[Si](CC)CC QXTIBZLKQPJVII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- PGOLTJPQCISRTO-UHFFFAOYSA-N vinyllithium Chemical compound [Li]C=C PGOLTJPQCISRTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、新規な化合物の製造法に関するものであ〕、
さらに詳しくは、有機珪素基を有する新規なスチレン誘
導体の製造法に関するものである。
さらに詳しくは、有機珪素基を有する新規なスチレン誘
導体の製造法に関するものである。
(従来の技術)
従来からスチレン誘導体は数多く開発合成されてきてお
シ、その重合性を利用し1機能性高分子の合成等に広く
利用されている。
シ、その重合性を利用し1機能性高分子の合成等に広く
利用されている。
珪素原子を有するスチレン誘導体としては。
パラ−トリメチルシリルスチレン、パラ−トリメチルシ
リルメチルスチレン、ジメチルフェニルシリルスチレン
等多数知られているが、下記構造式(A)で示される形
のスチレン誘導体は。
リルメチルスチレン、ジメチルフェニルシリルスチレン
等多数知られているが、下記構造式(A)で示される形
のスチレン誘導体は。
これまで知られていない。
(式中、Rz−Rs−R8−R4−Rsは水素または炭
素数1〜10のアルキル基、アリール基。
素数1〜10のアルキル基、アリール基。
アラルキル基を表わす。) ′
また、従来の珪素原子を有するスチレン誘導体の合成法
としては、たとえば、パラ−) IJメチルシリルメチ
ルスチレンでは、パラ−クロロメチルスチレンのクロロ
メチル基にマグネシウムを反応させた後、クロロトリメ
チルシランを系内に添加して合成しているが、マグネシ
ウムの取扱いが難しいこと、クロロトリメチルシランの
反応率が低いこと1反応時間が長いこと等に問題があっ
た。
としては、たとえば、パラ−) IJメチルシリルメチ
ルスチレンでは、パラ−クロロメチルスチレンのクロロ
メチル基にマグネシウムを反応させた後、クロロトリメ
チルシランを系内に添加して合成しているが、マグネシ
ウムの取扱いが難しいこと、クロロトリメチルシランの
反応率が低いこと1反応時間が長いこと等に問題があっ
た。
このような背景をふまえて検討を重ねた結果。
本発明者らは、新規な製造法によって、下記構造式(A
)で示される形の新規なスチレン誘導体を合成するに到
った。
)で示される形の新規なスチレン誘導体を合成するに到
った。
(発明の構成)
本発明において使用されるリチオ[ヒビニルトルエンに
は、ビニルトルエンの異性体、スナワち、オルト、メタ
、パラのいずれも使用可能である。
は、ビニルトルエンの異性体、スナワち、オルト、メタ
、パラのいずれも使用可能である。
リチオ化ビニルトルエンは、目的化合物を合成するため
の反応容器中に前もって調製することもできるが、固体
状態で乾燥状態になると不安定なため、リチオ化ビニル
トルエン満11同時に1次の反応を進めるのがよい、 リチオ化ビニルトルエンの調製方法は極めて限定されて
お#)、ビニルトルエンと特定の有機リチウム化合物と
の反応によって得られる。それ以外の有機リチウム化合
物では、ビニルトルエンが重合を起こしたル、あるいは
りチオ化ビニルトルエンの生成が皆無か、極くわずかし
か起こらない。リチオ化ビニルトルエンの調製に使用で
きる有機リチウム化合物としては、リチウムジイソプロ
ピルアミドに代表される嵩高いリチウムアミド、その他
ジフェニルメチルリチウム、α−フェネチルリチウム、
アリルリチウム、ビニルリチウム、フェニルリチウム等
がある。副反応が起こシに(いとと、目的化合物の収率
が高いことから、リチウムジイソプロピルアミドが好ま
しい、 リチウムジイソプロピルアミドは、ジイソプロピルアミ
ンとアルキルリチウムから合成することもでき、目的化
合物を合成する反応容器中に、予めジイソプロピルアミ
ンとアルキルリチウムを加えてリチウムジイソプロピル
アミドを合成し、その後、ビニルトルエンを加えるコト
によシ、リチオ化ビニルトルエンを調製することができ
る。
の反応容器中に前もって調製することもできるが、固体
状態で乾燥状態になると不安定なため、リチオ化ビニル
トルエン満11同時に1次の反応を進めるのがよい、 リチオ化ビニルトルエンの調製方法は極めて限定されて
お#)、ビニルトルエンと特定の有機リチウム化合物と
の反応によって得られる。それ以外の有機リチウム化合
物では、ビニルトルエンが重合を起こしたル、あるいは
りチオ化ビニルトルエンの生成が皆無か、極くわずかし
か起こらない。リチオ化ビニルトルエンの調製に使用で
きる有機リチウム化合物としては、リチウムジイソプロ
ピルアミドに代表される嵩高いリチウムアミド、その他
ジフェニルメチルリチウム、α−フェネチルリチウム、
アリルリチウム、ビニルリチウム、フェニルリチウム等
がある。副反応が起こシに(いとと、目的化合物の収率
が高いことから、リチウムジイソプロピルアミドが好ま
しい、 リチウムジイソプロピルアミドは、ジイソプロピルアミ
ンとアルキルリチウムから合成することもでき、目的化
合物を合成する反応容器中に、予めジイソプロピルアミ
ンとアルキルリチウムを加えてリチウムジイソプロピル
アミドを合成し、その後、ビニルトルエンを加えるコト
によシ、リチオ化ビニルトルエンを調製することができ
る。
ビニルトルエンに対する有機リチウム化合物の使用量の
モル比は、目的物によって異なるが。
モル比は、目的物によって異なるが。
0.1〜10倍モル、よシ好ましくは0.3〜3倍モル
でざる。
でざる。
リチオ化ビニルトルエンに対するオキシ、yy化合物の
添加量のモル比は、目的物によって異なるが、0.1〜
10倍モル、よシ好ましくは0.3〜3倍モルである。
添加量のモル比は、目的物によって異なるが、0.1〜
10倍モル、よシ好ましくは0.3〜3倍モルである。
オキシラン化合物の炭化水素基K特に制限はないが、水
素または炭素数1〜1oのアルキル基、アリール基、ア
ラルキル基が好ましく、さらにはメチル基、エチル基ま
たはフェニル基がオキシラン化合物の反応性からよシ好
ましい。
素または炭素数1〜1oのアルキル基、アリール基、ア
ラルキル基が好ましく、さらにはメチル基、エチル基ま
たはフェニル基がオキシラン化合物の反応性からよシ好
ましい。
リチオ化ビニルトルエンに対するクロロシラン化合物の
添加量のモル比は、目的物によって異なるが、0.1−
10倍モル、よ〕好ましくは0.3〜3倍モルである。
添加量のモル比は、目的物によって異なるが、0.1−
10倍モル、よ〕好ましくは0.3〜3倍モルである。
クロロシラン化合物の炭化水素基に特に制限はないが、
水素または炭素数1〜1oのアルキル基、アリール基、
アラルキル基が好ましく。
水素または炭素数1〜1oのアルキル基、アリール基、
アラルキル基が好ましく。
さらにメチル基、エチル基またはフェニル基がシリル基
の反応性からよ)好ましい。
の反応性からよ)好ましい。
本発明の反応は、不活性溶媒の存在下で行うこともでき
る。溶媒としては、ジエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエチレングリ
;−ル、ジメチルエーテル等のエーテル類、ペンタン、
ヘキサン。
る。溶媒としては、ジエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエチレングリ
;−ル、ジメチルエーテル等のエーテル類、ペンタン、
ヘキサン。
シクロヘキサン、オクタン等のす旨肪族炭化水素。
ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、ジメチルスル
ホキシド、N、N−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチ
ルホスホリックトリアミド等の非プロトン性極性溶媒等
1反応条件下でリチウムアミドと反応しない液体を用い
ることができる。この中でも、テトラヒドロフラン等の
エーテル類、ベンゼン等の芳香族炭化水素およびその混
合物が好ましい。
ホキシド、N、N−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチ
ルホスホリックトリアミド等の非プロトン性極性溶媒等
1反応条件下でリチウムアミドと反応しない液体を用い
ることができる。この中でも、テトラヒドロフラン等の
エーテル類、ベンゼン等の芳香族炭化水素およびその混
合物が好ましい。
用いる溶媒の量は1体積でビニルトルエンの0、1〜3
00倍が好ましく、よシ好ましくは0、5〜50倍であ
る。溶媒の相対量が多くなると1反応は一般に遅(なる
、 本発明において、反応を行う温度については特に制限は
ないが、−78℃ないし100℃が好ましく、−30℃
ないし50℃がよ)好ましい。また1反応時間に制限は
ないが、10分ないし100時間が好ましく、よル好ま
しくは30分ないし50時間である。
00倍が好ましく、よシ好ましくは0、5〜50倍であ
る。溶媒の相対量が多くなると1反応は一般に遅(なる
、 本発明において、反応を行う温度については特に制限は
ないが、−78℃ないし100℃が好ましく、−30℃
ないし50℃がよ)好ましい。また1反応時間に制限は
ないが、10分ないし100時間が好ましく、よル好ま
しくは30分ないし50時間である。
反応条件、目的物によって反応速度が異なるので、ガス
クロマトグラフィーや液体クロマトグラフィー等で原料
や生成物の定量を行い1反応の終了時間を決定すること
が推奨される、(発明の効果) 本発明の製造法は、下記構造式(A)で示される形のス
チレン誘導体の合成を初めて可能にした。
クロマトグラフィーや液体クロマトグラフィー等で原料
や生成物の定量を行い1反応の終了時間を決定すること
が推奨される、(発明の効果) 本発明の製造法は、下記構造式(A)で示される形のス
チレン誘導体の合成を初めて可能にした。
(式中、 L、R,I R3s R41Rsは前記と同
じ)オキシラン化合物およびクロロシラン比合物をかえ
ることによシ、多種多様の有機珪素基を有するスチレン
誘導体を製造することができる。
じ)オキシラン化合物およびクロロシラン比合物をかえ
ることによシ、多種多様の有機珪素基を有するスチレン
誘導体を製造することができる。
本発明に基づいて得られる化合物は、単量体としても有
用でアシ、これに由来する重合体もしくは共重合体は、
側鎖に珪素原子を有する機能性高分子となシ、酸素透過
性膜への利用やフォトレジスト、電子線レジスト用ポリ
マーの一成分として有用である。また、珪素化合物を使
った複合材料の改質剤としても有用である。
用でアシ、これに由来する重合体もしくは共重合体は、
側鎖に珪素原子を有する機能性高分子となシ、酸素透過
性膜への利用やフォトレジスト、電子線レジスト用ポリ
マーの一成分として有用である。また、珪素化合物を使
った複合材料の改質剤としても有用である。
(実施例)
以下に本発明の実施例を示すが、これらは本発明を制限
するものではない。
するものではない。
実施例1
反応容器にテトラヒドロフラン300dl加え、窒素雰
囲気下で温度20℃で攪拌を開始した。これに′ジイン
プロピルアミン0.21 molおよびn−ブチルリチ
ウムの5 mol/lシクロヘキサン溶液42−を加え
、5分間攪拌しリチウムジイソプロピルアミドを生成さ
せた。これにp−ビニルトルエン11.8Fを加え、5
分間攪拌し、リチオ化ビニルトルエンを生成させた。
囲気下で温度20℃で攪拌を開始した。これに′ジイン
プロピルアミン0.21 molおよびn−ブチルリチ
ウムの5 mol/lシクロヘキサン溶液42−を加え
、5分間攪拌しリチウムジイソプロピルアミドを生成さ
せた。これにp−ビニルトルエン11.8Fを加え、5
分間攪拌し、リチオ化ビニルトルエンを生成させた。
この溶液にインブテンオキシド4 mol/l−テトラ
ヒドロフラン溶液25−を1滴下ロートで少量づつ30
分かけて滴下した。滴下後、さらに10時間攪拌した。
ヒドロフラン溶液25−を1滴下ロートで少量づつ30
分かけて滴下した。滴下後、さらに10時間攪拌した。
この溶液にクロロトリメチルシランの4 mol/lテ
トラヒドロフラン溶液27.5d1滴下ロートで少量づ
つ1時間かげて滴下した。滴下後、さらに1時間攪拌し
てからメタノール2〇−を加え1反応を終了した。
トラヒドロフラン溶液27.5d1滴下ロートで少量づ
つ1時間かげて滴下した。滴下後、さらに1時間攪拌し
てからメタノール2〇−を加え1反応を終了した。
この溶液をエバボレートして、テトラヒドロフラン、シ
クロヘキサン、メタノールおよびジイソプロピルアミン
等を留去した後、減圧蒸留したところ、内圧0. OO
5torrの真空下60℃で無色の液体が留出した。こ
の液の収量は19.532(74,4係)であった。
クロヘキサン、メタノールおよびジイソプロピルアミン
等を留去した後、減圧蒸留したところ、内圧0. OO
5torrの真空下60℃で無色の液体が留出した。こ
の液の収量は19.532(74,4係)であった。
ガスクロマトグラフィーおよび液体クロマトグラフィー
で分析した結果、このものは単一の物質であることがわ
かった。分光学的分析を始めとする一般の有機化学的分
析手法によって。
で分析した結果、このものは単一の物質であることがわ
かった。分光学的分析を始めとする一般の有機化学的分
析手法によって。
この単一の物質は、(3−(4−エチニルフェニル)
−tart−ペントキシ〕トリメチルシランであると結
論された。
−tart−ペントキシ〕トリメチルシランであると結
論された。
分析結果は下記のとおシである。
元素分析: Cニア3.21(73,20)H:
9.88(10,00) 0: 6.23(6,10) Si:10.68(10,70) ただし、ここで括弧内の数値は理論値を示している。
9.88(10,00) 0: 6.23(6,10) Si:10.68(10,70) ただし、ここで括弧内の数値は理論値を示している。
マススペクトル; 262(M”/e)189 (M
−(SiMes) ) 175 (M−(O8iMes) ) 89 (O8iMes) 73 (SiMes) ただし、ここでMeはメチル基を表わす。
−(SiMes) ) 175 (M−(O8iMes) ) 89 (O8iMes) 73 (SiMes) ただし、ここでMeはメチル基を表わす。
赤外吸収スペクトル
3080.2960,1900.1630゜1610%
1520.1410.1380.1370.1270,
1180.115G。
1520.1410.1380.1370.1270,
1180.115G。
1140.1110,1050. 990゜900、
880、840.760゜ 680cIn−’ プロトン核磁気共鳴スペクトル(270■h。
880、840.760゜ 680cIn−’ プロトン核磁気共鳴スペクトル(270■h。
溶媒;重クロロホルム、基準物質;テトラメチルシラン
) δ値;0.10(1重線、 9H) 1.30(1重線、 6H) 1、70 (3重線、 2H) 2.70(3重線、 2)I) 5、20 (4重@、 IH) 5、70 (4重線、 IH) 6.70(4重線、 IH) 7.25(42線、 4H) 実施例2 反応容器にテトラヒドロフラン300−を加え、窒素雰
囲気下で温度20℃で攪拌t−開始した、これにジイソ
プロピルアミン0.21 molおよびn−ブチルリチ
ウムの5 mol/lシクロヘキサン溶液42−を加え
、5分間攪拌しリチウムジイソプロピルアミドを生成さ
せた。これにp−ビニルトルエン11.8ft−加え、
5分間攪拌し、リチオ化ビニルトルエンを生成させた。
) δ値;0.10(1重線、 9H) 1.30(1重線、 6H) 1、70 (3重線、 2H) 2.70(3重線、 2)I) 5、20 (4重@、 IH) 5、70 (4重線、 IH) 6.70(4重線、 IH) 7.25(42線、 4H) 実施例2 反応容器にテトラヒドロフラン300−を加え、窒素雰
囲気下で温度20℃で攪拌t−開始した、これにジイソ
プロピルアミン0.21 molおよびn−ブチルリチ
ウムの5 mol/lシクロヘキサン溶液42−を加え
、5分間攪拌しリチウムジイソプロピルアミドを生成さ
せた。これにp−ビニルトルエン11.8ft−加え、
5分間攪拌し、リチオ化ビニルトルエンを生成させた。
この溶液にプロピレンオキシド4 mo1/Lテトラと
ドロフラン溶液25−を1滴下ロートで少量づつ30分
かけて滴下した1滴下後、さらに10時間攪拌した。
ドロフラン溶液25−を1滴下ロートで少量づつ30分
かけて滴下した1滴下後、さらに10時間攪拌した。
この溶液にクロロトリメチルシランの4 mol/Lテ
トラヒドロフラン溶液27.5sj”を1滴下ロートで
少量づつ1時間かけて滴下した。滴下後、さらに1時間
攪拌してからメタノール2〇−を加え1反応を終了した
。
トラヒドロフラン溶液27.5sj”を1滴下ロートで
少量づつ1時間かけて滴下した。滴下後、さらに1時間
攪拌してからメタノール2〇−を加え1反応を終了した
。
この溶液をエバボレートして、テトラヒドロフラン、シ
クロヘキサン、メタノールおよびジイソプロピルアミン
等を留去した後、減圧蒸留したところ、内圧0. O0
5torrの真空下50℃で無色の液体が留出した。こ
の液の収量は13.23F(53,2%)であった、 ガスクロマトグラフィーおよび液体クロマトグラフィー
で分析した結果、このものは単一の物質であることがわ
かった。分光学的分析を始めとする一般の有機化学的分
析手法によって。
クロヘキサン、メタノールおよびジイソプロピルアミン
等を留去した後、減圧蒸留したところ、内圧0. O0
5torrの真空下50℃で無色の液体が留出した。こ
の液の収量は13.23F(53,2%)であった、 ガスクロマトグラフィーおよび液体クロマトグラフィー
で分析した結果、このものは単一の物質であることがわ
かった。分光学的分析を始めとする一般の有機化学的分
析手法によって。
この単一の物質は、C3−(4−エチニルフェニル)
−3ec−ブトキシ〕トリメチルシランであると結論さ
れた。
−3ec−ブトキシ〕トリメチルシランであると結論さ
れた。
分析結果は下記のとおシである。
元素分析; Cニア2.14(72,50)H:
9.87(9,76) 0: 6.50(6,44) Si: 11.49(11,30) ただし、ここで括弧内の数値は理論値を示している。
9.87(9,76) 0: 6.50(6,44) Si: 11.49(11,30) ただし、ここで括弧内の数値は理論値を示している。
マススペクトル: 248(M”/e)175 (M
−(SiMen) ) 159 (M−(O8iMes) ) 89 (O8iMea) 73 (SiMes) ただし、ここでMaはメチル基を表わす。
−(SiMen) ) 159 (M−(O8iMes) ) 89 (O8iMea) 73 (SiMes) ただし、ここでMaはメチル基を表わす。
赤外吸収スペクトル
3060.3000,2950,1900゜1620.
1510,1440,1400゜1370.1260.
1180.1130゜1070.1020. 980
. 900゜830、 750. 6803−’ プロトン核磁気共鳴スペクトル(270MHz。
1510,1440,1400゜1370.1260.
1180.1130゜1070.1020. 980
. 900゜830、 750. 6803−’ プロトン核磁気共鳴スペクトル(270MHz。
溶媒;重クロロホルム、基準物質;テトラメチルシラン
) a値:0.10(1重線、 9H) 1.20(2重線、 3H) 1.75(4重線、 2H) 2.65(3重線、 2H) 3.85(6重線、 IH) 5、20 (4重線、 IH) 5.70(4重線、 IH) 6.70(4重線、 IH) 7.25(4重線、 4H) 実施例3 実施例1と同様の条件で、クロロトリメチルシランをク
ロロトリエチルシランに変えて反応を行った。反応終了
後、実施例1と同様の処理を行い、減圧蒸留したところ
、内圧0. OO5torrの真空下75℃で無色の液
体が留出した。この液体の収量は22.42fC73,
6係)であった。
) a値:0.10(1重線、 9H) 1.20(2重線、 3H) 1.75(4重線、 2H) 2.65(3重線、 2H) 3.85(6重線、 IH) 5、20 (4重線、 IH) 5.70(4重線、 IH) 6.70(4重線、 IH) 7.25(4重線、 4H) 実施例3 実施例1と同様の条件で、クロロトリメチルシランをク
ロロトリエチルシランに変えて反応を行った。反応終了
後、実施例1と同様の処理を行い、減圧蒸留したところ
、内圧0. OO5torrの真空下75℃で無色の液
体が留出した。この液体の収量は22.42fC73,
6係)であった。
ガスクロマトグラフィーおよび液体クロマトグラフィー
で分析した結果、このものは単一の物質であることがわ
かった。分光学的分析を始めとする一般の有機化学的分
析手法によって、この単一の物質は、(3−(4−エチ
ニルフェニル) −tert−ペントキシ〕トリエチル
シランであると結論された。
で分析した結果、このものは単一の物質であることがわ
かった。分光学的分析を始めとする一般の有機化学的分
析手法によって、この単一の物質は、(3−(4−エチ
ニルフェニル) −tert−ペントキシ〕トリエチル
シランであると結論された。
分析結果は下記のとおシである。
元素分析; Cニア4.82(74,92)H: 1
0.59(10,61) 0: 5.25(5,25) Si: 9.34(9,22) ただし、ここで括弧内の数値は理論値を示している。
0.59(10,61) 0: 5.25(5,25) Si: 9.34(9,22) ただし、ここで括弧内の数値は理論値を示している。
マススペクトル: 304(M”/e)1 s 9
(M−(SiEts) )173 (M−(O8iEt
s) ) 131 (08iEts) 115 (5IEts) ただし、ここでEtはエチル基を表わす。
(M−(SiEts) )173 (M−(O8iEt
s) ) 131 (08iEts) 115 (5IEts) ただし、ここでEtはエチル基を表わす。
赤外吸収スペクトル
3070、2970.1900.1630゜1510、
1410. 1370、1180゜1150.110
0,1050. 990゜900、 870.
840. 750゜80m−1 プロトン核磁気共鳴スペクトル(270MHz%溶媒:
重クロロホルム、基準物質;テトラメチルシラン) δ値;0.30(4重線、 6H) 0.85(3重線、 9H) 1.30(1重線、 6H) 1.70(3重線、 2H) 2.70(3重線、 2H) 5.20(Jffi線、 IH) 5.70(4重線、 LH) 6.70(4重線、 IH) 7.25(4重線、 4H) 実施例4 実施例2と同様の条件で、クロロトリメチルシランをク
ロロトリエチルシランに変えて反応を行った。反応終了
後、実施例2と同様の処理を行い、減圧蒸留したところ
、内圧0.005torr真空下70℃で無色の液体が
留出した。この液体の収量は15.239(52,4%
)であった。
1410. 1370、1180゜1150.110
0,1050. 990゜900、 870.
840. 750゜80m−1 プロトン核磁気共鳴スペクトル(270MHz%溶媒:
重クロロホルム、基準物質;テトラメチルシラン) δ値;0.30(4重線、 6H) 0.85(3重線、 9H) 1.30(1重線、 6H) 1.70(3重線、 2H) 2.70(3重線、 2H) 5.20(Jffi線、 IH) 5.70(4重線、 LH) 6.70(4重線、 IH) 7.25(4重線、 4H) 実施例4 実施例2と同様の条件で、クロロトリメチルシランをク
ロロトリエチルシランに変えて反応を行った。反応終了
後、実施例2と同様の処理を行い、減圧蒸留したところ
、内圧0.005torr真空下70℃で無色の液体が
留出した。この液体の収量は15.239(52,4%
)であった。
ガスクロマトグラフィーおよび液体クロマトグラフィー
で分析した結果、このものは単一の物質であることがわ
かった、分光学的分析を始めとする一般の有機化学的分
析手法によって、この単一の物質は、[3−(4−エチ
ニルフェニル)−sec−ブトキシ〕トリメチルシラン
であるとと結論された。
で分析した結果、このものは単一の物質であることがわ
かった、分光学的分析を始めとする一般の有機化学的分
析手法によって、この単一の物質は、[3−(4−エチ
ニルフェニル)−sec−ブトキシ〕トリメチルシラン
であるとと結論された。
分析結果は下記のとおシである。
元素分析; C,ニア4.44(74,40)H:1
0.36(10,43) 0: 5.58(5,51) Si: 9.62(9,66) ただし、ここで括弧内の数値は理論値を示している。
0.36(10,43) 0: 5.58(5,51) Si: 9.62(9,66) ただし、ここで括弧内の数値は理論値を示している。
マススペクトル; 290 (M”/e )175
(M−(SIEt3月 151 (M−(O8iEts) )131 (03
iEt、) 115 (8iEts) ただし、ここでEtはエチル基を表わす。
(M−(SIEt3月 151 (M−(O8iEts) )131 (03
iEt、) 115 (8iEts) ただし、ここでEtはエチル基を表わす。
赤外吸収スペクトル
3060.3000,2950,1900.1620.
1510.1440,1400.1370.1250.
1180.1130.1070.1020、980.
900゜830、 750. 680cm″″1プ
ロトン核磁気共鳴スペクトル(270MHz。
1510.1440,1400.1370.1250.
1180.1130.1070.1020、980.
900゜830、 750. 680cm″″1プ
ロトン核磁気共鳴スペクトル(270MHz。
溶媒:重クロロホルム、基準物質:テトラメチルシラン
) δ値; 0.30(4重線、 6H)0.85(3重
線、 9H) 1.20(2重線、 3H) 1.75(4重線、 2H) 2.65(3重線、 2H) 3.85(6重線、 IH) s、zO(41!、 tH) &70(4重線% IH) 6.70(4重線、 IH) 7.25(4重線、 4H) 実施例5 実施例1で得られた(3−(4−エチニルフェニル)
−tert−ペントキシ〕トリメチルシラン10fとア
ゾビスイソブチロニトリル0.1fをテトラヒドロフラ
ン20−に溶解し、5〇−アンプル管に入れ、アンプル
管内に窒素パージして封管した。これを80℃の水溶中
に24時間浸漬した。冷却後、封管を割って内容物をメ
タノール中に投入し、ポリマーを析出させた、ポリマー
を十分にメタノールで洗浄後、真空乾燥して重量を測定
したところ、9.7fであった。
) δ値; 0.30(4重線、 6H)0.85(3重
線、 9H) 1.20(2重線、 3H) 1.75(4重線、 2H) 2.65(3重線、 2H) 3.85(6重線、 IH) s、zO(41!、 tH) &70(4重線% IH) 6.70(4重線、 IH) 7.25(4重線、 4H) 実施例5 実施例1で得られた(3−(4−エチニルフェニル)
−tert−ペントキシ〕トリメチルシラン10fとア
ゾビスイソブチロニトリル0.1fをテトラヒドロフラ
ン20−に溶解し、5〇−アンプル管に入れ、アンプル
管内に窒素パージして封管した。これを80℃の水溶中
に24時間浸漬した。冷却後、封管を割って内容物をメ
タノール中に投入し、ポリマーを析出させた、ポリマー
を十分にメタノールで洗浄後、真空乾燥して重量を測定
したところ、9.7fであった。
このポリマーIfをテトラヒドロフラン2〇−に溶解さ
せた後、洗浄したガラス表面に、この溶液を塗シポリマ
ーフイルムを作った。溶媒のテトラヒドロフランを20
℃で24時間乾燥して除去した後、水にガラスを浸漬し
てポリマーフィルムを剥離した後、フィルムを48時間
真空乾燥した、 このフィルムの一方の側から空気を加え1反対側へ通過
してくるガスクロマトグラフィー法により測定したとこ
ろ、酸素の選択透過性(通過後の酸素分率/初期酸素分
率)は2.5であった。
せた後、洗浄したガラス表面に、この溶液を塗シポリマ
ーフイルムを作った。溶媒のテトラヒドロフランを20
℃で24時間乾燥して除去した後、水にガラスを浸漬し
てポリマーフィルムを剥離した後、フィルムを48時間
真空乾燥した、 このフィルムの一方の側から空気を加え1反対側へ通過
してくるガスクロマトグラフィー法により測定したとこ
ろ、酸素の選択透過性(通過後の酸素分率/初期酸素分
率)は2.5であった。
実施例6
実施例2で得られた(3−(4−エチニルフェニル)
−5ec−ブトキシ〕トリメチルシラン102とアゾビ
スイソブチロニトリル0.12をテトラヒドロフラン2
0−に溶解し、50mアンプル管に入れ、アンプル管内
に窒素パージして封管した、これを70℃の水溶中に2
4時間浸漬した、冷却uk、封管を割って内容物をメタ
ノール中に投入し、ポリマーを析出させた。ポリマーを
十分にメタノールで洗浄後、真空乾燥して重量全測定し
たところ、9.6fで返った。
−5ec−ブトキシ〕トリメチルシラン102とアゾビ
スイソブチロニトリル0.12をテトラヒドロフラン2
0−に溶解し、50mアンプル管に入れ、アンプル管内
に窒素パージして封管した、これを70℃の水溶中に2
4時間浸漬した、冷却uk、封管を割って内容物をメタ
ノール中に投入し、ポリマーを析出させた。ポリマーを
十分にメタノールで洗浄後、真空乾燥して重量全測定し
たところ、9.6fで返った。
このポリマー1f1テトラヒドロフラン2〇−に溶解さ
せた後、洗浄したガラス表面に、この溶液を金りポリマ
ーフィルムを作った。溶媒のテトラヒドロフランを20
℃で24時間乾燥して除去した後、水にガラスを浸漬し
てポリマーフィルムを剥離した後、フィルムを48時間
真空乾燥した。
せた後、洗浄したガラス表面に、この溶液を金りポリマ
ーフィルムを作った。溶媒のテトラヒドロフランを20
℃で24時間乾燥して除去した後、水にガラスを浸漬し
てポリマーフィルムを剥離した後、フィルムを48時間
真空乾燥した。
このフィルムの一方の側から空気を加え1反対側へ通過
してくるガスクロマトグラフィー法によシ測定したとこ
ろ、酸素の選択透過性(通過後の#素分率/初期酸素分
率)は2.7であった。
してくるガスクロマトグラフィー法によシ測定したとこ
ろ、酸素の選択透過性(通過後の#素分率/初期酸素分
率)は2.7であった。
Claims (5)
- (1)下記構造式(A)で示される重合性化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼(A) (式中、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5は水
素または炭素数1〜10のアルキル基、アリール基、ア
ラルキル基を表わす。) - (2)R_1、R_2、R_3、R_4、R_5がメチ
ル基、エチル基、フエニル基のいずれかである特許請求
の範囲第1項記載の重合性化合物。 - (3)メチル基をリチオ化したビニルトルエンとオキシ
ラン化合物およびクロロシラン化合物とを溶液中で反応
させることを特徴とする下記構造式(A)で示される重
合性化合物の製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼(A) (式中、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5は水
素または炭素数1〜10のアルキル基、アリール基、ア
ラルキル基を表わす。) - (4)リチウムジイソプロピルアミドとビニルトルエン
との溶液反応でビニルトルエンのメチル基をリチオ化し
た後、オキシラン化合物とクロロシラン化合物を加える
特許請求の範囲第3項記載の製造法。 - (5)リチウムジイソプロピルアミドをジイソプロピル
アミンとアルキルリチウムの混合によつて調製した溶液
として存在させる特許請求の範囲第4項記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10192386A JPS62263190A (ja) | 1986-05-06 | 1986-05-06 | 珪素を含む化合物及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10192386A JPS62263190A (ja) | 1986-05-06 | 1986-05-06 | 珪素を含む化合物及びその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62263190A true JPS62263190A (ja) | 1987-11-16 |
Family
ID=14313432
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10192386A Pending JPS62263190A (ja) | 1986-05-06 | 1986-05-06 | 珪素を含む化合物及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62263190A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5953506A (ja) * | 1982-09-22 | 1984-03-28 | Tounen Sekiyu Kagaku Kk | スチレン誘導体の重合体の製造方法 |
| JPS6052845A (ja) * | 1983-09-02 | 1985-03-26 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | パタ−ン形成材料 |
-
1986
- 1986-05-06 JP JP10192386A patent/JPS62263190A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5953506A (ja) * | 1982-09-22 | 1984-03-28 | Tounen Sekiyu Kagaku Kk | スチレン誘導体の重合体の製造方法 |
| JPS6052845A (ja) * | 1983-09-02 | 1985-03-26 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | パタ−ン形成材料 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Dvornic et al. | Exactly alternating silarylene–siloxane polymers. II. The condensation polymerization of arylenedisilanols and bisureidosilanes | |
| JPH0579089B2 (ja) | ||
| JPS591493A (ja) | 新規な有機マグネシウム化合物 | |
| SU679144A3 (ru) | Способ получени олигомерных производных гидрида алюмини | |
| JPH01100179A (ja) | 有機金属含有化合物 | |
| JPS62263190A (ja) | 珪素を含む化合物及びその製造法 | |
| JPH0441496A (ja) | ジシクロペンチルジメトキシシラン | |
| JPH01305094A (ja) | ω−シリルアルキニルシラン化合物およびその製造方法 | |
| SU637088A3 (ru) | Способ получени олигомерного -алкил-иминоалана | |
| JPS6355515B2 (ja) | ||
| JPH0336840B2 (ja) | ||
| JPH04112893A (ja) | アルコキシシリル基含有アゾ化合物及びその製造方法 | |
| Wettermark et al. | Transsilylation reactions of phosphazene precursors | |
| JPS6312637A (ja) | 1,2,2−トリメチル−1−フエニルポリジシランおよびその製造方法 | |
| JP2022013886A (ja) | 新規の過塩素化ジシレンおよびゲルマシレン、およびネオペンタテトレラン、その製造方法、ならびにその使用 | |
| JP3085810B2 (ja) | 珪素及び窒素を含む環状化合物及びその製造法 | |
| RU2100384C1 (ru) | Органосилсесквиоксаны кубического строения и способ их получения | |
| RU2164516C1 (ru) | Функциональные карбоксиланы, содержащие трис(гамма-трифторпропил)силильную группу | |
| JPH0436290A (ja) | シラン化合物 | |
| JPS6138194B2 (ja) | ||
| JPS62209528A (ja) | 新規なるレジスト材料 | |
| SU464602A1 (ru) | Способ получени полиалкилгалогеналюмоксанов | |
| JP3017323B2 (ja) | 珪素を有する新規化合物及びその製造方法 | |
| Nagasaki et al. | Synthesis and gas permeation behavior of organosilicon-containing poly (p-allylstyrene) s | |
| JPS62257908A (ja) | 新しい珪素を含む重合体及びその製造法 |