JPS6229573A - カルボスチリル誘導体の製造法 - Google Patents
カルボスチリル誘導体の製造法Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/32—Colour coupling substances
- G03C7/34—Couplers containing phenols
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Quinoline Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、カラー写真用シアン発色剤（カプラー）の中
間体として有用な８−クロロ−３゜４−ジヒドロ−５−
ヒドロキシ−６−ニドロカルポスチリル誘導体の製法に
関する。
間体として有用な８−クロロ−３゜４−ジヒドロ−５−
ヒドロキシ−６−ニドロカルポスチリル誘導体の製法に
関する。
（従来の技術）
本発明の目的化合物であるカルボスチリル誘導体は、一
般式ＣＩ） α （式中、Ｒ１、Ｒ２は水素原子又は脂肪族基を表わす、
） で表わされる。
般式ＣＩ） α （式中、Ｒ１、Ｒ２は水素原子又は脂肪族基を表わす、
） で表わされる。
一般式（１）で表わされる化合物は文献未載の化合物で
あり、したがってその製造法に関しても文献未載である
が、３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシカルボスチリル
誘導体の一般的な製造法に関しては、特公昭４６−３９
６９４号、特公昭４６−３９６９５号、特公昭４６−３
８７８９号、特開昭５７−１４６７５９号、特開昭５７
−１４９２７０号、ケミストリー・アンドφインダスト
リー（ロンドン） （Ｃｈｅｗ、 ｌｎｄ、（Ｌｏｎｄ
ｏｎ）、） （１９７６）１４３５．薬学雑誌９６，
５７１ （１９７６）に開示がある。
あり、したがってその製造法に関しても文献未載である
が、３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシカルボスチリル
誘導体の一般的な製造法に関しては、特公昭４６−３９
６９４号、特公昭４６−３９６９５号、特公昭４６−３
８７８９号、特開昭５７−１４６７５９号、特開昭５７
−１４９２７０号、ケミストリー・アンドφインダスト
リー（ロンドン） （Ｃｈｅｗ、 ｌｎｄ、（Ｌｏｎｄ
ｏｎ）、） （１９７６）１４３５．薬学雑誌９６，
５７１ （１９７６）に開示がある。
すなわち、特開昭５７−１４６７５９号及び特開昭５７
−１４９２７０号の方法は、下記の工程式（１）に従い
環化し、続いて脱水素を行い、３゜４−ジヒドロ−５−
ヒドロキシカルボスチリルを得るものである。
−１４９２７０号の方法は、下記の工程式（１）に従い
環化し、続いて脱水素を行い、３゜４−ジヒドロ−５−
ヒドロキシカルボスチリルを得るものである。
反応工程式（１）
また特公昭４６−３９６９４号、特公昭４６−３９６９
５号、特公昭４６−３８７８９号、ケミストリー・アン
ド・インダースドリー（１９７６）１４３５の方法は、
反応工程式（１）の脱水素反応に関するものである。
５号、特公昭４６−３８７８９号、ケミストリー・アン
ド・インダースドリー（１９７６）１４３５の方法は、
反応工程式（１）の脱水素反応に関するものである。
（発明が解決しようとする問題点）
しかし、写真用シアン発色剤の中間体としては、さらに
、６位にニトロ基、８位にクロル基が必要であり、上記
反応工程式（１）の方法を利用して、６−クロロ−３，
４−ジヒドロー８−ヒドロキシカルボスチリル誘導体を
合成する場合には、ニトロ基とクロル基を、後で位置選
択的に導入しなければならない、３，４−ジヒドロ−５
−ヒドロキシカルボスチリルのニトロ化については特開
昭５１−６９７１号に記載があるが、下記反応工程式（
２）に示す如く、６位と８位、ニトロ体との約−２：１
の混合物として得られ１位置選択性は低く、効率良い製
造法とは言えない。
、６位にニトロ基、８位にクロル基が必要であり、上記
反応工程式（１）の方法を利用して、６−クロロ−３，
４−ジヒドロー８−ヒドロキシカルボスチリル誘導体を
合成する場合には、ニトロ基とクロル基を、後で位置選
択的に導入しなければならない、３，４−ジヒドロ−５
−ヒドロキシカルボスチリルのニトロ化については特開
昭５１−６９７１号に記載があるが、下記反応工程式（
２）に示す如く、６位と８位、ニトロ体との約−２：１
の混合物として得られ１位置選択性は低く、効率良い製
造法とは言えない。
反応工程式（２）
また、８位クロル化についても、位置選択性の高い製造
法は未だ見出されていない。
法は未だ見出されていない。
したがって、従来のカルボスチリル誘導体の製造法を適
用し、前記一般式（ｒ）で示されるカルボスチリル誘導
体を効率良く製造するのが困難である。
用し、前記一般式（ｒ）で示されるカルボスチリル誘導
体を効率良く製造するのが困難である。
そこで、入手容易な化合物を出発原料として利用でき、
工業的に筒便に￥施できるカルボスチリル誘導体の製造
法の開発が要望されている。
工業的に筒便に￥施できるカルボスチリル誘導体の製造
法の開発が要望されている。
本発明の目的は、カラー写真用シアン発色剤の中間体と
して有用な６位にニトロ基、８位にクロル基を有するカ
ルボスチリル誘導体を容易かつ高収率で製造し得る方法
を提供することにある。
して有用な６位にニトロ基、８位にクロル基を有するカ
ルボスチリル誘導体を容易かつ高収率で製造し得る方法
を提供することにある。
（問題点を解決する為の手段）
本発明者らは、上述した一般式（ｒ）で表わされる新規
なカルボスチリル誘導体の製造方法を開発するため、種
々の検討を重ねた結果、既知化合物であり、また入手可
能な１−クロロ−２−二トロー４−メトキシベンゼンか
ら常法によって導かれる２〜クロロ−５−メトキシアニ
リンもしくは３−アミノ−４−クロロフェノールを出発
原料として用い１分子内フリーデルークラフッ反応によ
りカルボスチリル誘導体を効率よく製造できること、そ
してこの方法によれば、５−ヒドロキシカルボスチリル
誘導体のニトロ基とクロル原子の置換位置の選択性に関
する問題点を完全に解決でき、８−クロロ−３，４−ジ
ヒドロ−５−ヒドロキシカルボスチリル誘導体（後記一
般式（■））を経て８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５
−ヒドロキシ−６−二トロカルポスチリル誘導体（一般
式（Ｉ））を高収率で製造することが可能となることを
見い出した。
なカルボスチリル誘導体の製造方法を開発するため、種
々の検討を重ねた結果、既知化合物であり、また入手可
能な１−クロロ−２−二トロー４−メトキシベンゼンか
ら常法によって導かれる２〜クロロ−５−メトキシアニ
リンもしくは３−アミノ−４−クロロフェノールを出発
原料として用い１分子内フリーデルークラフッ反応によ
りカルボスチリル誘導体を効率よく製造できること、そ
してこの方法によれば、５−ヒドロキシカルボスチリル
誘導体のニトロ基とクロル原子の置換位置の選択性に関
する問題点を完全に解決でき、８−クロロ−３，４−ジ
ヒドロ−５−ヒドロキシカルボスチリル誘導体（後記一
般式（■））を経て８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５
−ヒドロキシ−６−二トロカルポスチリル誘導体（一般
式（Ｉ））を高収率で製造することが可能となることを
見い出した。
すなわち本発明は、一般式（Ｉ）
（Ｌ
（式中、Ｒ及びＲ１は前記の通りであり、好ましくは水
素原子又は低級アルキル基である。）で表わされる８−
クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシ−６−二ト
ロカルポスチリル誘導体を製造するに当り 一般式（ＩＩ） （式中、Ｒ及びＲ２は前記と同じ意味をもつ。） で表わされる８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒド
ロキシカルボスチリル誘導体をニトロ化することを特徴
とする８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシ
−６−二トロカルポスチリル誘導体の製法を提供するも
のである。
素原子又は低級アルキル基である。）で表わされる８−
クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシ−６−二ト
ロカルポスチリル誘導体を製造するに当り 一般式（ＩＩ） （式中、Ｒ及びＲ２は前記と同じ意味をもつ。） で表わされる８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒド
ロキシカルボスチリル誘導体をニトロ化することを特徴
とする８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシ
−６−二トロカルポスチリル誘導体の製法を提供するも
のである。
本発明に用いられる前記一般式（ＩＩ）で表わされる８
−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシカルボス
チリル誘導体の調製方法は特に制限はないが１例えば一
般式（ｍ） Ｒ３ しＬ （式中、Ｒ及びＲは前記と同じ意味をもち、Ｒは水素原
子又は、脂肪族基を表わす、）で表わされるアクリル酸
アミド誘導体を環化反応させて得られる。
−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシカルボス
チリル誘導体の調製方法は特に制限はないが１例えば一
般式（ｍ） Ｒ３ しＬ （式中、Ｒ及びＲは前記と同じ意味をもち、Ｒは水素原
子又は、脂肪族基を表わす、）で表わされるアクリル酸
アミド誘導体を環化反応させて得られる。
また本発明に用いられるｎ１７記一般式ＣＨ）で表わさ
れる８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシカ
ルボスチリル誘導体は一般式（ＩＴ）、（Ｖ）又は（Ｖ
Ｉ） （ｒＶ） （Ｖ） ｃＶＩ）（Ｒ
，Ｒ及びＲ３は前記と同じ意味をもち。
れる８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシカ
ルボスチリル誘導体は一般式（ＩＴ）、（Ｖ）又は（Ｖ
Ｉ） （ｒＶ） （Ｖ） ｃＶＩ）（Ｒ
，Ｒ及びＲ３は前記と同じ意味をもち。
Ｒ４は水素原子または脂肪族基を表わし、Ｘは塩素原子
又は、又素原子を表わす、） で表わされるカルボン酸アミド化合物の環化反応によっ
ても得ることができる。
又は、又素原子を表わす、） で表わされるカルボン酸アミド化合物の環化反応によっ
ても得ることができる。
本発明方法を適用したカルボスチリル誘導体の製造方法
は次式（３）によって示すことができる。
は次式（３）によって示すことができる。
反応工程式（３）
（式中、Ｒ１、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４。
水素原子又は脂肪族基
Ｒ５： −ＣＨ＝Ｃ−Ｒ’
！
Ｘ ：塩素原子又は、臭素原子）
次に各工程を詳細に説明する。工程１のアミド化反応は
、通常の公知の方法で行うことができる。すなわち、対
応するカルボン酸またはその酸ハロゲン化物を用いて反
応を行う、カルボン酸を用いる場合には、公知の脱水剤
が同時に用いられる。脱水剤としては、たとえば、塩化
チオニル、五塩化リン、ジシクロへキシルカルボジイミ
ド、無水酢酸、ポリリン酸などが用いられるが、特に好
ましいのは、塩化チオニルである。溶媒としては、非プ
ロトン性極性溶媒が好ましく、アセトニトリル、Ｎ、Ｎ
−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシドまたは
それらの混合溶媒を用いることができるが、特に好まし
いのは、アセトニトリルとＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドもしくは、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミドとの混合溶
媒であり、その混合比率は任意に定めることができる。
、通常の公知の方法で行うことができる。すなわち、対
応するカルボン酸またはその酸ハロゲン化物を用いて反
応を行う、カルボン酸を用いる場合には、公知の脱水剤
が同時に用いられる。脱水剤としては、たとえば、塩化
チオニル、五塩化リン、ジシクロへキシルカルボジイミ
ド、無水酢酸、ポリリン酸などが用いられるが、特に好
ましいのは、塩化チオニルである。溶媒としては、非プ
ロトン性極性溶媒が好ましく、アセトニトリル、Ｎ、Ｎ
−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシドまたは
それらの混合溶媒を用いることができるが、特に好まし
いのは、アセトニトリルとＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドもしくは、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミドとの混合溶
媒であり、その混合比率は任意に定めることができる。
工程２では、塩化アルミニウムを用いたフリーデル−ク
ラフッ反応により、環化を行わせることができる。溶媒
は用いても用いなくてもよい、溶媒としては、ハロゲン
化炭化水素（たとえば、塩化メチレン、ジタロロエタン
など）、ニトロベンゼンを用いることができる９反応温
度は、無溶媒の場合、９０℃から１６０℃の範囲が好ま
しく、溶媒を用いた場合、２５℃から、用いた溶媒の沸
点の範囲が選ばれる。一般式（ＩＩ）において、Ｒ１，
Ｒ２共に水素原子ではないものを合成する場合、一般式
（ｍ）で表わされる前駆体を用いるのが好ましく、また
この場合、用いる塩化アルミニウムの量は、化合物（ｍ
）に対して２．５倍から、３倍モルが好ましい、一般式
（ＩＩ）において、Ｒ１、Ｒ２の両者もしくはいずれか
が、水素原子であるものを合成する場合、一般式（■）
。
ラフッ反応により、環化を行わせることができる。溶媒
は用いても用いなくてもよい、溶媒としては、ハロゲン
化炭化水素（たとえば、塩化メチレン、ジタロロエタン
など）、ニトロベンゼンを用いることができる９反応温
度は、無溶媒の場合、９０℃から１６０℃の範囲が好ま
しく、溶媒を用いた場合、２５℃から、用いた溶媒の沸
点の範囲が選ばれる。一般式（ＩＩ）において、Ｒ１，
Ｒ２共に水素原子ではないものを合成する場合、一般式
（ｍ）で表わされる前駆体を用いるのが好ましく、また
この場合、用いる塩化アルミニウムの量は、化合物（ｍ
）に対して２．５倍から、３倍モルが好ましい、一般式
（ＩＩ）において、Ｒ１、Ｒ２の両者もしくはいずれか
が、水素原子であるものを合成する場合、一般式（■）
。
（Ｖ）又は（Ｖｌ）で表わされる前駆体を用いるのが好
ましく、またこの場合、用いる塩化アルミニウムの量は
、、 （ＩＶ）、 （Ｖ）、 （ＶＴ）に対して３．
５倍から４倍モルが好ましい、その他の反応条件は、一
般的なフリーデル−クラフッ反応の条件に準じて適宜に
決定できる。
ましく、またこの場合、用いる塩化アルミニウムの量は
、、 （ＩＶ）、 （Ｖ）、 （ＶＴ）に対して３．
５倍から４倍モルが好ましい、その他の反応条件は、一
般的なフリーデル−クラフッ反応の条件に準じて適宜に
決定できる。
工程３のニトロ化反応では、公知のニトロ化剤を用いて
行うことができる。用いられるニトロ化剤としては、た
とえば、濃硝酸、無水硝酸、硝酸と濃硫酸、無水酢酸、
あるいは、氷酢酸との混液、硫酸と硝酸カリウムあるい
は硝酸ナトリウム等の硝酸塩の混液等を挙げることがで
きる。これらの中で好ましいものは、硝酸と濃硫酸又は
、氷酢酸との混液である。硝酸の量は（ＩＩ）に対して
１倍モルから、２倍モル、好ましくは１．１倍モルから
１．３倍モル用いられる。
行うことができる。用いられるニトロ化剤としては、た
とえば、濃硝酸、無水硝酸、硝酸と濃硫酸、無水酢酸、
あるいは、氷酢酸との混液、硫酸と硝酸カリウムあるい
は硝酸ナトリウム等の硝酸塩の混液等を挙げることがで
きる。これらの中で好ましいものは、硝酸と濃硫酸又は
、氷酢酸との混液である。硝酸の量は（ＩＩ）に対して
１倍モルから、２倍モル、好ましくは１．１倍モルから
１．３倍モル用いられる。
（発明の効果）
本発明によれば、写真用シアン発色剤の中間体として有
用であるカルボスチリル誘導体（一般式（１）及び（Ｉ
Ｉ））を得ることができる。たとえば、反応工程式（０
に示す如く、一般式（Ｉ）の化合物から２工程を経て、
カラー写真−ヒ重要な性能である熱堅牢性、光堅牢性と
もに優れたシアン発色剤を製造することができる。
用であるカルボスチリル誘導体（一般式（１）及び（Ｉ
Ｉ））を得ることができる。たとえば、反応工程式（０
に示す如く、一般式（Ｉ）の化合物から２工程を経て、
カラー写真−ヒ重要な性能である熱堅牢性、光堅牢性と
もに優れたシアン発色剤を製造することができる。
反応工程式（４）
（Ｒ，Ｒ２二水素原子もしくは、脂肪族基Ｒ６：油溶化
基 ） さらに、本発明の製造法によれば、上述の如き有用な、
一般式（Ｉ）および（ＩＩ）で表わされるカルボスチリ
ル誘導体を既知化合物である２−クロロ−５−メトキシ
アニリンもしくは３−アミノ−４−クロロフェノール（
これらは、入手可能な１−クロロ−２−二トロー４−メ
トキシベンゼンから常法により容易に合成できる。）か
ら、高収率で得ることができ、しかも各工程において副
生成物が少ないので、純度良く結晶として取り出せるた
め、工業的に実施する方法として好適である。
基 ） さらに、本発明の製造法によれば、上述の如き有用な、
一般式（Ｉ）および（ＩＩ）で表わされるカルボスチリ
ル誘導体を既知化合物である２−クロロ−５−メトキシ
アニリンもしくは３−アミノ−４−クロロフェノール（
これらは、入手可能な１−クロロ−２−二トロー４−メ
トキシベンゼンから常法により容易に合成できる。）か
ら、高収率で得ることができ、しかも各工程において副
生成物が少ないので、純度良く結晶として取り出せるた
め、工業的に実施する方法として好適である。
（実施例）
次に、本発明を実施例に基づき、さらに詳細に説明する
。
。
８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシ−４，
４−ジメチル−６−二トロカルポスチリルの合成 （１）Ｎ−（２−クロロ−５−メトキシフェニル）−３
，３−ジメチルアクリル酸アミ−の合成 ３．３−ジメチルアクリル酸１６．２ｇをアセトニトリ
ル３０ｍｊｌ Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド１０ｍＪ
ｌの混合溶媒に溶解し、水冷下塩化チオニル１３ｍＭを
滴下した。１時間撹拌した後、２−クロロ−５−メトキ
シアニリン３０．０ｇアセトニトリルｌ ０ｍｆｔ溶液
を添加した。ＩＯ分ｔ１１ Ｎ拌し、ピリジン３２ｍ１
を添加した。３０℃から４０℃の範囲で４０分間攪拌し
た後、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。溶媒を蒸発
して得られた１１生成物をシリカゲル力ラムグロマトク
ラフィー（ｎ−へキサン／酢酸エチル＝１０で流出）に
より精製し、Ｎ−（２−クロロ−５−メトキシフェニル
）−３，３−ジメチルアクリル酸７ミド３２．８ｇを白
色固体として得た。
４−ジメチル−６−二トロカルポスチリルの合成 （１）Ｎ−（２−クロロ−５−メトキシフェニル）−３
，３−ジメチルアクリル酸アミ−の合成 ３．３−ジメチルアクリル酸１６．２ｇをアセトニトリ
ル３０ｍｊｌ Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド１０ｍＪ
ｌの混合溶媒に溶解し、水冷下塩化チオニル１３ｍＭを
滴下した。１時間撹拌した後、２−クロロ−５−メトキ
シアニリン３０．０ｇアセトニトリルｌ ０ｍｆｔ溶液
を添加した。ＩＯ分ｔ１１ Ｎ拌し、ピリジン３２ｍ１
を添加した。３０℃から４０℃の範囲で４０分間攪拌し
た後、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。溶媒を蒸発
して得られた１１生成物をシリカゲル力ラムグロマトク
ラフィー（ｎ−へキサン／酢酸エチル＝１０で流出）に
より精製し、Ｎ−（２−クロロ−５−メトキシフェニル
）−３，３−ジメチルアクリル酸７ミド３２．８ｇを白
色固体として得た。
ＮＭＩ’？δ（Ｃ００文、）：
８．１２ （ｄ、 Ｊ＝３．０Ｈｚ、 ＩＨ）７．５３
（ｓ、 １８） ７．１３ （ｄ、 Ｊ＝９．０Ｈｚ、 ＩＨ）６．５３
（ｄ、ｄ、 ｊ＝９．０．３．０Ｈｚ、 ＩＨ）５．
８７〜５．５７ （ｔｓ、 ＩＨ）３．７５ （ｓ、
３Ｈ） ２．２２ （ｓ、 ３Ｈ） １．９０ （ｓ、 ３Ｈ） （２）８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシ
−４，４−ジメチルカルボスチリルの合成 Ｎ−（２−クロロ−５−メトキシフェニル）−３，３−
ジメチル酸アミド２２．３ｇをジクロロエタン６７ｍＪ
ｌ中に分散させ、室温で塩化アルミニウム３７．２ｇを
少量ずつ添加した。ｉｓ温浴中反応温度を６０℃とし、
１時間反応した０反応溶液を氷上へ注ぎ、塩化メチレン
で抽出を行った。有機層を水洗、乾燥の後、溶媒を蒸発
させ、得られた褐色固体に酢酸エチルを加え、再結品を
行った。析出した結晶をろ取し、少量の酢酸エチルで洗
浄後、乾燥して、標記化合物（融点１８５−１８６℃の
無色結晶）１０．５ｇを得た。
（ｓ、 １８） ７．１３ （ｄ、 Ｊ＝９．０Ｈｚ、 ＩＨ）６．５３
（ｄ、ｄ、 ｊ＝９．０．３．０Ｈｚ、 ＩＨ）５．
８７〜５．５７ （ｔｓ、 ＩＨ）３．７５ （ｓ、
３Ｈ） ２．２２ （ｓ、 ３Ｈ） １．９０ （ｓ、 ３Ｈ） （２）８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシ
−４，４−ジメチルカルボスチリルの合成 Ｎ−（２−クロロ−５−メトキシフェニル）−３，３−
ジメチル酸アミド２２．３ｇをジクロロエタン６７ｍＪ
ｌ中に分散させ、室温で塩化アルミニウム３７．２ｇを
少量ずつ添加した。ｉｓ温浴中反応温度を６０℃とし、
１時間反応した０反応溶液を氷上へ注ぎ、塩化メチレン
で抽出を行った。有機層を水洗、乾燥の後、溶媒を蒸発
させ、得られた褐色固体に酢酸エチルを加え、再結品を
行った。析出した結晶をろ取し、少量の酢酸エチルで洗
浄後、乾燥して、標記化合物（融点１８５−１８６℃の
無色結晶）１０．５ｇを得た。
ＮＭＲδ（ＣＯＯ見。）ニ
ア、８８ （ｓ、 ＩＨ）
７．００ （ｄ、 Ｊ＝９．０Ｈｚ、 ＩＨ）６．８７
（ｓ、 ＩＨ） ６．３８ （ｄ、 Ｊ”１．ＯＨｚ、 ＩＨ）２．５０
（ｓ、 ２Ｈ） １．４７ （ｓ、 ６Ｈ） 元素分析 実測値 Ｈ： ５．３３ Ｃ： ５８
．３９Ｎ： ６．５５ ＣＫＬ： １５．８７計算
値 Ｈ： ５．３８ Ｃ： ５８．５４Ｎ：６．２
１Ｇ交： １５．７１ （３）８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシ
−６−二トロー４，４−ジメチルカルボスチリルの合成 ８−クロロ−５−ヒドロキシ−４，４−ジメチルカルボ
スチリルＩＯ，Ｏｇを氷酢酸１００ｍＪ１に溶解し、室
温で撹拌しつつ、濃硝醜４．８５ｇを２０分間かけて滴
下した。
（ｓ、 ＩＨ） ６．３８ （ｄ、 Ｊ”１．ＯＨｚ、 ＩＨ）２．５０
（ｓ、 ２Ｈ） １．４７ （ｓ、 ６Ｈ） 元素分析 実測値 Ｈ： ５．３３ Ｃ： ５８
．３９Ｎ： ６．５５ ＣＫＬ： １５．８７計算
値 Ｈ： ５．３８ Ｃ： ５８．５４Ｎ：６．２
１Ｇ交： １５．７１ （３）８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシ
−６−二トロー４，４−ジメチルカルボスチリルの合成 ８−クロロ−５−ヒドロキシ−４，４−ジメチルカルボ
スチリルＩＯ，Ｏｇを氷酢酸１００ｍＪ１に溶解し、室
温で撹拌しつつ、濃硝醜４．８５ｇを２０分間かけて滴
下した。
氷水で冷却し、析出した黄色結晶をろ取し、アセトニト
リルで洗Ｓ後、乾燥した。融点２１７−２１８℃の黄色
結晶１１．０ｇを得た。
リルで洗Ｓ後、乾燥した。融点２１７−２１８℃の黄色
結晶１１．０ｇを得た。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ： １１．１０ Ｃｓ、
ＩＨ）９．９３ （ｓ、 １Ｈ） ８．０８ （ｓ、 ＩＨ） ２．５０ （ｓ、 ２Ｈ） １．４２ （ｓ、 ８Ｈ）
ＩＨ）９．９３ （ｓ、 １Ｈ） ８．０８ （ｓ、 ＩＨ） ２．５０ （ｓ、 ２Ｈ） １．４２ （ｓ、 ８Ｈ）
Claims (3)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１及びＲ＾２は水素原子または、脂肪族基
を表わす。） で表わされる８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒド
ロキシ−６−ニトロカルボスチリル誘導体を製造するに
当り 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１及びＲ＾２は前記と同じ意味をもつ。） で表わされる８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒド
ロキシカルボスチリル誘導体をニトロ化することを特徴
とする８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシ
−６−ニトロカルボスチリル誘導体の製法。 - （２）８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシ
カルボスチリル誘導体が、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は水素原子又は、脂
肪族基を表わす。） で表わされるアクリル酸アミド誘導体の環化反応により
得られることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシ−６−
ニトロカルボスチリル誘導体の製法。 - （３）８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシ
カルボスチリル誘導体が、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があります
▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は水素原子
または脂肪族基を表わし、Ｘは塩素原子または、臭素原
子を表わす。） で表わされるカルボン酸アミド化合物の環化反応により
得られることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
８−クロロ−３，４−ジヒドロ−５−ヒドロキシ−６−
ニトロカルボスチリル誘導体の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60167526A JPS6229573A (ja) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | カルボスチリル誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60167526A JPS6229573A (ja) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | カルボスチリル誘導体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6229573A true JPS6229573A (ja) | 1987-02-07 |
Family
ID=15851328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60167526A Pending JPS6229573A (ja) | 1985-07-31 | 1985-07-31 | カルボスチリル誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6229573A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS516971A (en) * | 1974-07-08 | 1976-01-20 | Otsuka Pharma Co Ltd | Nitoro 3*44 jihidorokarubosuchirirujudotaino seizoho |
| JPS5419985A (en) * | 1977-07-11 | 1979-02-15 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | Production of hydroxycarbostyril derivative |
| JPS5557566A (en) * | 1978-10-26 | 1980-04-28 | Kumiai Chem Ind Co Ltd | N-methyl-8-chloro-3,4-dihydro-2-quinolinone, its preparation, and germicide containing the same |
-
1985
- 1985-07-31 JP JP60167526A patent/JPS6229573A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS516971A (en) * | 1974-07-08 | 1976-01-20 | Otsuka Pharma Co Ltd | Nitoro 3*44 jihidorokarubosuchirirujudotaino seizoho |
| JPS5419985A (en) * | 1977-07-11 | 1979-02-15 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | Production of hydroxycarbostyril derivative |
| JPS5557566A (en) * | 1978-10-26 | 1980-04-28 | Kumiai Chem Ind Co Ltd | N-methyl-8-chloro-3,4-dihydro-2-quinolinone, its preparation, and germicide containing the same |
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