JPS6231972Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6231972Y2 JPS6231972Y2 JP1979176256U JP17625679U JPS6231972Y2 JP S6231972 Y2 JPS6231972 Y2 JP S6231972Y2 JP 1979176256 U JP1979176256 U JP 1979176256U JP 17625679 U JP17625679 U JP 17625679U JP S6231972 Y2 JPS6231972 Y2 JP S6231972Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- container
- wafer
- back plate
- flexible
- front surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【考案の詳細な説明】
本考案はシリコンウエハその他のウエハを主と
してイオン注入処理に備えて背面から支承する真
空室内におけるバツクプレート装置に関する。
してイオン注入処理に備えて背面から支承する真
空室内におけるバツクプレート装置に関する。
本願出願人は、先にこの種装置として、例えば
第１図示のようにシリコンウエハその他のウエハ
ａを背面から支承するバツクプレートｂの前面
に、該ウエハａに対向させて内部に水その他の冷
却液ｃを充填する柔軟容器ｄを備える式のものを
提案したが、このものでは該容器ｄ内はその前面
に減圧を作用されるため、その内部の該冷却液は
混入する気泡或はその蒸気によりその上方に気体
部分ｅを生じ、かくて該冷却液ｃは該ウエハａの
全面に作用し得ず冷却能力が低下し勝ちとなる不
都合を伴う。
第１図示のようにシリコンウエハその他のウエハ
ａを背面から支承するバツクプレートｂの前面
に、該ウエハａに対向させて内部に水その他の冷
却液ｃを充填する柔軟容器ｄを備える式のものを
提案したが、このものでは該容器ｄ内はその前面
に減圧を作用されるため、その内部の該冷却液は
混入する気泡或はその蒸気によりその上方に気体
部分ｅを生じ、かくて該冷却液ｃは該ウエハａの
全面に作用し得ず冷却能力が低下し勝ちとなる不
都合を伴う。
本考案はかゝる不都合のない装置を得ることを
その目的としたもので、シリコンウエハその他の
ウエハ１をその背面から支承するバツクプレート
２の前面に、該ウエハ１に対向させて前面が可撓
性薄膜で構成され内部に水その他の冷却液３を収
容する柔軟容器４を備える式のものにおいて、該
容器４の上方にこれと連通する密閉型のリザーブ
タンク５を備えることを特徴とする。
その目的としたもので、シリコンウエハその他の
ウエハ１をその背面から支承するバツクプレート
２の前面に、該ウエハ１に対向させて前面が可撓
性薄膜で構成され内部に水その他の冷却液３を収
容する柔軟容器４を備える式のものにおいて、該
容器４の上方にこれと連通する密閉型のリザーブ
タンク５を備えることを特徴とする。
該容器４は例えば第３図に明示するようにバツ
クプレート２内から少しく前面に突出する円胴状
をなし、その前面を弗素樹脂その他の可撓性薄膜
４ａで構成して該前面を柔軟性とし、この部分に
おいて該ウエハ１と密着されるようにした。該ウ
エハ１はその後面の保護板６で保持されると共に
その前面の支持枠７で後方に押圧されるものと
し、更に該容器４内には冷媒を循環する冷却管８
を備えるもので、これらの点は先に提案したもの
と特に異らない。
クプレート２内から少しく前面に突出する円胴状
をなし、その前面を弗素樹脂その他の可撓性薄膜
４ａで構成して該前面を柔軟性とし、この部分に
おいて該ウエハ１と密着されるようにした。該ウ
エハ１はその後面の保護板６で保持されると共に
その前面の支持枠７で後方に押圧されるものと
し、更に該容器４内には冷媒を循環する冷却管８
を備えるもので、これらの点は先に提案したもの
と特に異らない。
本考案によれば、前記したようにその上方に密
閉型のリザーブタンク５を備えるもので、該タン
ク５は例えば第２図乃至第４図示のように該プレ
ート１の上部背面に円胴状に用意され、その上面
に気密に閉じる栓５ａを施すもので、該容器４内
に生ずる気体は該タンク５内に移行してその上方
に気体部分５ｂが作られ、かくて該容器４はその
内部に冷却液３が常に充満して冷却能力の低下を
生じないようにした。
閉型のリザーブタンク５を備えるもので、該タン
ク５は例えば第２図乃至第４図示のように該プレ
ート１の上部背面に円胴状に用意され、その上面
に気密に閉じる栓５ａを施すもので、該容器４内
に生ずる気体は該タンク５内に移行してその上方
に気体部分５ｂが作られ、かくて該容器４はその
内部に冷却液３が常に充満して冷却能力の低下を
生じないようにした。
この状態は例えば第４図に略同時に示される。
このように本考案によるときは真空室内に設置
されるため、柔軟容器４の前面に減圧が作用さ
れ、該柔軟容器４が脹らんで該柔軟容器４内に気
体部分を生じても、この気体は直ちにリザーブタ
ンク５内に移行してその上部に気体部分を作るか
ら、柔軟容器４内は常に冷却液３で充満され、冷
却能力の低下がない効果を有する。
されるため、柔軟容器４の前面に減圧が作用さ
れ、該柔軟容器４が脹らんで該柔軟容器４内に気
体部分を生じても、この気体は直ちにリザーブタ
ンク５内に移行してその上部に気体部分を作るか
ら、柔軟容器４内は常に冷却液３で充満され、冷
却能力の低下がない効果を有する。
さらに本考案によるときは、ウエハ１は柔軟容
器４にその可撓性薄膜４ａの部分で接触するの
で、密着度が良好となり、したがつてウエハ１の
冷却効率が良好となる効果を有する。
器４にその可撓性薄膜４ａの部分で接触するの
で、密着度が良好となり、したがつてウエハ１の
冷却効率が良好となる効果を有する。
第１図は従来例の説明線図、第２図は本案装置
の１例の正面図、第３図はその−線截断面
図、第４図はその作動を説明する線図である。 １……ウエハ、２……バツクプレート、３……
冷却液、４……柔軟容器、４ａ……可撓性薄膜、
５……リザーブタンク。
の１例の正面図、第３図はその−線截断面
図、第４図はその作動を説明する線図である。 １……ウエハ、２……バツクプレート、３……
冷却液、４……柔軟容器、４ａ……可撓性薄膜、
５……リザーブタンク。
Claims (1)
- シリコンウエハその他のウエハ１をその背面か
ら支承するバツクプレート２の前面に、該ウエハ
１に対向させて前面が可撓性薄膜４ａで構成され
内部に水その他の冷却液３を収容する柔軟容器４
を備え、該容器４の上方にこれと連通する密閉型
のリザーブタンク５を備えることを特徴とする真
空室内におけるバツクプレート装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1979176256U JPS6231972Y2 (ja) | 1979-12-21 | 1979-12-21 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1979176256U JPS6231972Y2 (ja) | 1979-12-21 | 1979-12-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5694038U JPS5694038U (ja) | 1981-07-25 |
| JPS6231972Y2 true JPS6231972Y2 (ja) | 1987-08-15 |
Family
ID=29686897
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1979176256U Expired JPS6231972Y2 (ja) | 1979-12-21 | 1979-12-21 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6231972Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0727765B2 (ja) * | 1985-11-11 | 1995-03-29 | 日新電機株式会社 | ウエハ−保持装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5027898U (ja) * | 1973-07-06 | 1975-03-31 | ||
| JPS5841722Y2 (ja) * | 1977-12-05 | 1983-09-20 | 日本真空技術株式会社 | イオン打込用のバックプレ−ト装置 |
-
1979
- 1979-12-21 JP JP1979176256U patent/JPS6231972Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5694038U (ja) | 1981-07-25 |
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