JPS6233185A - セフアロスポリン化合物の新規誘導体、その製造方法及び該誘導体を含有する医薬組成物 - Google Patents
セフアロスポリン化合物の新規誘導体、その製造方法及び該誘導体を含有する医薬組成物Info
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/30—Against vector-borne diseases, e.g. mosquito-borne, fly-borne, tick-borne or waterborne diseases whose impact is exacerbated by climate change
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は抗菌活性を有する一般式N)
(式中、R1はβ−ラクタム抗生物質において知られて
いる有機残基、R2は水素原子またはメトキシ基を表わ
し、R3は水素原子、4r属原子、エステル残基、塩形
成陽イオン又はCOO−が陽イオン対と分子内又は分子
外場を形成するときは陰イオン電荷を示す。nはOまた
は1、A及びBは硫黄原子又は酸素原子を表わす)で示
される新規なセファロスポリン化合物、その医薬上許容
される塩類及びそれらの製造方法とそれらを含有する医
薬組成物に関するものである。尚、式中カルボスチリル
骨格中の3位と4位の間の結合は1重結合、2重結合の
いずれであっても良いことを示す。
いる有機残基、R2は水素原子またはメトキシ基を表わ
し、R3は水素原子、4r属原子、エステル残基、塩形
成陽イオン又はCOO−が陽イオン対と分子内又は分子
外場を形成するときは陰イオン電荷を示す。nはOまた
は1、A及びBは硫黄原子又は酸素原子を表わす)で示
される新規なセファロスポリン化合物、その医薬上許容
される塩類及びそれらの製造方法とそれらを含有する医
薬組成物に関するものである。尚、式中カルボスチリル
骨格中の3位と4位の間の結合は1重結合、2重結合の
いずれであっても良いことを示す。
一般式
(式中R’、R2,Rコ、A、B及び口はそれぞれ換基
を有していても良い)で示されるセファロスポリン化合
物又はその塩類において、分子中の不斉炭素原子の存在
による光学異性体のような1個またはそれ以上の立体異
性体が存在し得るが、このような異性体はこの発明の範
囲に包含される。
を有していても良い)で示されるセファロスポリン化合
物又はその塩類において、分子中の不斉炭素原子の存在
による光学異性体のような1個またはそれ以上の立体異
性体が存在し得るが、このような異性体はこの発明の範
囲に包含される。
また一般式(I)で表わされる化合物は次式で示される
ような異性化によって2種の互変異性体構造をとり得る
。
ような異性化によって2種の互変異性体構造をとり得る
。
この平衡状態は溶媒の極性、溶媒品pHなどにより変化
する。従って、一般式(I)で表わされる化合物の命名
及び構造の記載はチオキソ又はオキソキノリン型か、あ
るいはメルカプト又はヒドロキシキノワン型のいずれを
用いても良い。本発明においてはチオキソ又はオキソキ
ノリン型を用いて命名するが、上記互変異性体は本発明
に包含さ本発明の目的化合物(1)の塩類としては、医
薬上許容される塩類、例えばアルカリ金属塩(ナトリウ
ム塩、カリウム塩など)、アルカリ土類金属塩(カルシ
ウム塩、マグネシウム塩など)、アンモニウム塩、有機
アミン塩(トリエチルアミン塩、ピリジン塩など)、無
機酸付加塩(塩酸塩、臭化水素酸塩など)、有機酸付加
塩(蟻酸塩、トリクロロ酢酸塩、メタンスルホン酸塩な
ど)、塩基性若しくは酸性アミノ酸との塩(アルギニン
塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩など)が挙げら
れる。
する。従って、一般式(I)で表わされる化合物の命名
及び構造の記載はチオキソ又はオキソキノリン型か、あ
るいはメルカプト又はヒドロキシキノワン型のいずれを
用いても良い。本発明においてはチオキソ又はオキソキ
ノリン型を用いて命名するが、上記互変異性体は本発明
に包含さ本発明の目的化合物(1)の塩類としては、医
薬上許容される塩類、例えばアルカリ金属塩(ナトリウ
ム塩、カリウム塩など)、アルカリ土類金属塩(カルシ
ウム塩、マグネシウム塩など)、アンモニウム塩、有機
アミン塩(トリエチルアミン塩、ピリジン塩など)、無
機酸付加塩(塩酸塩、臭化水素酸塩など)、有機酸付加
塩(蟻酸塩、トリクロロ酢酸塩、メタンスルホン酸塩な
ど)、塩基性若しくは酸性アミノ酸との塩(アルギニン
塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩など)が挙げら
れる。
本発明の一般弐四)中、R1で示されるβ−ラクタム抗
生物質において知られている有機残基としては例えば4
〜6員環の複葉環(硫黄、窒素及び酸素の各原子をその
構成原子として1〜4個を含む)を有する有機残基を例
示できる。
生物質において知られている有機残基としては例えば4
〜6員環の複葉環(硫黄、窒素及び酸素の各原子をその
構成原子として1〜4個を含む)を有する有機残基を例
示できる。
このような有機残基として例えば
〔式中りは酸素原子若しくは硫黄原子を、R8は置換さ
れてもよいアミ7基、R4は水素; メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ter
t−ブチル等のC1〜C6のアルキル基; ビニル、プ
ロペニル、イソプロピニル、フチニル、インブテニル、
ペンテニル、ヘキセニルなどのC2〜C6のアルケニル
基; アセチレニル、プロパルギルなどのC2〜C6の
フルキニル基;シクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル基などのC0〜C7のシクロアルキル基、シク
ロペンテニル、シクロへキシニル基なとのC4〜C7の
シクロアルケニル基; 塩素、臭素、ヨウ素またはフッ
素で置換されたアルキル又はアルケニル基; メチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ基で置換されたアルキル
基; フェニル、ベンジル基で置換されたフルキル基;
チェニル、フリル、チアゾリル基などの複素環; −C−CO2Rγ (式中R5およびR6は同一であるか異なっており水素
、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等
のC4〜6のアルキル基、好ましくは水素、メチル、エ
チルである。R?は水素あるいはナトリウム、カリツム
又はリチウム、好ましくはナトリウムまたはカリツムの
ような1価のアルカリ金属、カルシウムまたはマグネシ
ウムのような2価のアルカリ土類金属、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、メチルアミン、プロピルアミン
、N、N−ツメチルエタノールアミンのような有機アミ
ン塩類、あるいはtert−ブチル、ペンツヒドリル、
2.2.2− )リクロルエチル、p−メトキシベンジ
ル、p−ニトロベンノル、トリメチルシリル、メトキシ
メチル、ベンノルオキシメチル、ジフェニルノダンV
++ 7丁半Sフルタ?yj六ルゼ番レル巽の保護基で
ある)で表わされる基などを示す〕。
れてもよいアミ7基、R4は水素; メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ter
t−ブチル等のC1〜C6のアルキル基; ビニル、プ
ロペニル、イソプロピニル、フチニル、インブテニル、
ペンテニル、ヘキセニルなどのC2〜C6のアルケニル
基; アセチレニル、プロパルギルなどのC2〜C6の
フルキニル基;シクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル基などのC0〜C7のシクロアルキル基、シク
ロペンテニル、シクロへキシニル基なとのC4〜C7の
シクロアルケニル基; 塩素、臭素、ヨウ素またはフッ
素で置換されたアルキル又はアルケニル基; メチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ基で置換されたアルキル
基; フェニル、ベンジル基で置換されたフルキル基;
チェニル、フリル、チアゾリル基などの複素環; −C−CO2Rγ (式中R5およびR6は同一であるか異なっており水素
、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等
のC4〜6のアルキル基、好ましくは水素、メチル、エ
チルである。R?は水素あるいはナトリウム、カリツム
又はリチウム、好ましくはナトリウムまたはカリツムの
ような1価のアルカリ金属、カルシウムまたはマグネシ
ウムのような2価のアルカリ土類金属、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、メチルアミン、プロピルアミン
、N、N−ツメチルエタノールアミンのような有機アミ
ン塩類、あるいはtert−ブチル、ペンツヒドリル、
2.2.2− )リクロルエチル、p−メトキシベンジ
ル、p−ニトロベンノル、トリメチルシリル、メトキシ
メチル、ベンノルオキシメチル、ジフェニルノダンV
++ 7丁半Sフルタ?yj六ルゼ番レル巽の保護基で
ある)で表わされる基などを示す〕。
またR1で示される有機残基の例としては R9
(式中、Dは酸素原子または硫黄原子を、R8は置換さ
れてもよいアミ7基、R9はハロゲン原子、ニトロ基、
アミ7基、ヒドロキシル基、シアノ基、カルボキシル基
、低級フルキル基としてメチル、エチル、プロピルなど
のC1〜6のアルキル基、不飽和低級アルキル基として
、ビニル、プロペニル、インプロペニル、ブテニル、イ
ンブテニル、ペンテニル、アセチレニル、プロパルギル
ナトのC2〜6の不飽和アルキル基、シクロアルキル基
としてシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンテニ
ルなどのC3〜7のシクロアルキル基、複素環としてニ
コチン、イソニコチン、チェニル、フリルなど、置換も
しくは非置換フェニル、ベンノル基など、又はエステル
化されてもよいカルボキシル基である)で表わされる基
; (式中R8は上記と同じ意味〉、 CH,− R1が置換あるいは非置換芳香族フェニル基を有する有
機残基である場合、その例としては例えば などを挙げることができる。
れてもよいアミ7基、R9はハロゲン原子、ニトロ基、
アミ7基、ヒドロキシル基、シアノ基、カルボキシル基
、低級フルキル基としてメチル、エチル、プロピルなど
のC1〜6のアルキル基、不飽和低級アルキル基として
、ビニル、プロペニル、インプロペニル、ブテニル、イ
ンブテニル、ペンテニル、アセチレニル、プロパルギル
ナトのC2〜6の不飽和アルキル基、シクロアルキル基
としてシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンテニ
ルなどのC3〜7のシクロアルキル基、複素環としてニ
コチン、イソニコチン、チェニル、フリルなど、置換も
しくは非置換フェニル、ベンノル基など、又はエステル
化されてもよいカルボキシル基である)で表わされる基
; (式中R8は上記と同じ意味〉、 CH,− R1が置換あるいは非置換芳香族フェニル基を有する有
機残基である場合、その例としては例えば などを挙げることができる。
R1が置換又は非置換アルキル基を有する有機残基であ
る場合、その例としでは例えば■ HりN>CH(CH2)、−、N寵C−CH2−。
る場合、その例としでは例えば■ HりN>CH(CH2)、−、N寵C−CH2−。
e○、C
などを挙げることができる。
R’が置換又は非置換脂環式炭化水素基を有する有機残
基である場合、その例としては例えばR2は水素または
メトキシ基、R3は水素原子、ナトリウム、カリウム等
の金属原子、エステル残基、塩形成陽イオン又はCo0
−が陽イオン対と荷を示す。エステル残基としては例え
ば低級アルキルとしで、メチル、エチル、プロピル、イ
ソフロビル、ブチル、イソブチル、tert−ブチルな
どのC1〜6のアルキル基、八ツ低級アルキルとして2
.2.2− )ジクロロエチルなど、置換または非置換
フェニルフルキルとして、ベンジル、p−メトキシベン
ジル、トリメトキシベンジル、トリットキシジクロロペ
ンシル、p−ニトロベンジル、ベンズヒドリルなど、ま
た、ジフェニルメチル、トリチル、ジトリルメチル、フ
ェニル−p−メトキシフェニルメチル、α−p−メトキ
シフェニルエfル、Q−1)−メトキシフェニル−β−
トリクロロエチル、a−ジフェニルエチル、トリメチル
シリル、ベンジルオキシメチル又は7エナシル等のカル
ボキシル基の保護基が挙げられる。
基である場合、その例としては例えばR2は水素または
メトキシ基、R3は水素原子、ナトリウム、カリウム等
の金属原子、エステル残基、塩形成陽イオン又はCo0
−が陽イオン対と荷を示す。エステル残基としては例え
ば低級アルキルとしで、メチル、エチル、プロピル、イ
ソフロビル、ブチル、イソブチル、tert−ブチルな
どのC1〜6のアルキル基、八ツ低級アルキルとして2
.2.2− )ジクロロエチルなど、置換または非置換
フェニルフルキルとして、ベンジル、p−メトキシベン
ジル、トリメトキシベンジル、トリットキシジクロロペ
ンシル、p−ニトロベンジル、ベンズヒドリルなど、ま
た、ジフェニルメチル、トリチル、ジトリルメチル、フ
ェニル−p−メトキシフェニルメチル、α−p−メトキ
シフェニルエfル、Q−1)−メトキシフェニル−β−
トリクロロエチル、a−ジフェニルエチル、トリメチル
シリル、ベンジルオキシメチル又は7エナシル等のカル
ボキシル基の保護基が挙げられる。
A及f/Bは各々硫!原子又は酸素原子を表わし、そし
てカルボスチリル骨格は一般式 で表わされるが、このカル°ボスチリル骨格は置換基を
有していても良い。その置換基としては、例えば置換ま
たは非置換C1〜C6の直鎖あるいは分枝アルキル基と
して、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチルなど、置換または非置換02〜C6のフ
ルケニル基として、ビニル、アリル、インプロペニルお
よびメタリルなど、C2〜C6のフルキニル基として、
プロパルギルなど、置換または非置換C1〜C2のシク
ロアルキル基として、シクロプロピル、シクロブチル、
シクロペンチルなど、低級アルコキシル基として、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シなどのC2,、のアルコキシル基、低級アルキルチオ
基として、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イ
ソプロピルチオ、ブチルチオなど、低級アルカノイル基
として、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル
、インブチリルなど、ハロゲンとして、塩素、臭素、フ
ッ素、ヨウ素など、更に、アルキルカルボニル基として
、メチルカルボニルメチル、エチルカルボニルメチル、
メチルカルボニルエチル、エチルカルボニルエチルなど
、置換または非置換フェニル又はベンジル基など、また
、ニドa基、アミ7基、ヒトミキシル基、シア7基、カ
ルボキシル基、カルバモイル基或いはチェニル基、フリ
ル基、ピリジル基等の複素環等を挙げることができ、こ
れらの基によって置換あるいはポリ置換されてよい。
てカルボスチリル骨格は一般式 で表わされるが、このカル°ボスチリル骨格は置換基を
有していても良い。その置換基としては、例えば置換ま
たは非置換C1〜C6の直鎖あるいは分枝アルキル基と
して、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチルなど、置換または非置換02〜C6のフ
ルケニル基として、ビニル、アリル、インプロペニルお
よびメタリルなど、C2〜C6のフルキニル基として、
プロパルギルなど、置換または非置換C1〜C2のシク
ロアルキル基として、シクロプロピル、シクロブチル、
シクロペンチルなど、低級アルコキシル基として、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シなどのC2,、のアルコキシル基、低級アルキルチオ
基として、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イ
ソプロピルチオ、ブチルチオなど、低級アルカノイル基
として、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル
、インブチリルなど、ハロゲンとして、塩素、臭素、フ
ッ素、ヨウ素など、更に、アルキルカルボニル基として
、メチルカルボニルメチル、エチルカルボニルメチル、
メチルカルボニルエチル、エチルカルボニルエチルなど
、置換または非置換フェニル又はベンジル基など、また
、ニドa基、アミ7基、ヒトミキシル基、シア7基、カ
ルボキシル基、カルバモイル基或いはチェニル基、フリ
ル基、ピリジル基等の複素環等を挙げることができ、こ
れらの基によって置換あるいはポリ置換されてよい。
本発明のセファロスポリン化合物(I)およびその塩類
は種々の方法により製造されるが、その好ましい合成ル
ートを示せば次の2つのルートにより製造できる。
は種々の方法により製造されるが、その好ましい合成ル
ートを示せば次の2つのルートにより製造できる。
合成ルート(1)
(0)n
Co2Rコ
(■)(■)
(式中、R1,R2およびR3は前記と同じ意味、nは
0また1を意味し、Xは置換あるいは非置換カルボスチ
リル類で置換可能な基を示す)。
0また1を意味し、Xは置換あるいは非置換カルボスチ
リル類で置換可能な基を示す)。
化合物(n)またはその塩類は、化合物(■)もしくは
アミノ基における反応性誘導体またはその塩類に、化合
物(VI)もしくはカルボキシル基におけ711v式未
道儂士た1士その憔詰を作用させ乙ことにより製造でき
る。化合物(■)および(VI)の適当な塩としては、
化合物(、I )に対して例示した同じ塩類が挙げられ
る。化合物(■)のアミ7基における反応性誘導体の例
としては、例えば化合物(■)とシリル化合物〔例、ビ
ス(トリメチルシリル)7セトアミド、トリメチルシリ
ルクロライドなど〕との反応により形成されたシリル誘
導体; イソシアネート; イソチオシアネート; 化
合物(■)とカルボニル化合物〔例、アセトアルデヒド
、ベンズアルデヒドなどのアルデヒド類やアセトン、メ
チルエチルケトンなどのケトン類〕との反応により形成
されるシップ塩基またはそのエナミン型互変異性体など
が挙げられる。
アミノ基における反応性誘導体またはその塩類に、化合
物(VI)もしくはカルボキシル基におけ711v式未
道儂士た1士その憔詰を作用させ乙ことにより製造でき
る。化合物(■)および(VI)の適当な塩としては、
化合物(、I )に対して例示した同じ塩類が挙げられ
る。化合物(■)のアミ7基における反応性誘導体の例
としては、例えば化合物(■)とシリル化合物〔例、ビ
ス(トリメチルシリル)7セトアミド、トリメチルシリ
ルクロライドなど〕との反応により形成されたシリル誘
導体; イソシアネート; イソチオシアネート; 化
合物(■)とカルボニル化合物〔例、アセトアルデヒド
、ベンズアルデヒドなどのアルデヒド類やアセトン、メ
チルエチルケトンなどのケトン類〕との反応により形成
されるシップ塩基またはそのエナミン型互変異性体など
が挙げられる。
化合物(■)のカルボキシル基における反応性誘導体の
例としては、例えば酸塩化物、酸臭化物などの酸ハライ
ド: 置換リン酸、ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、チオ
硫酸、硫酸、炭酸アルキル、有機カルボン酸などの酸と
の酸無水物および対称酸無水物; イミダゾール、ジメ
チルビラゾールナトトの活性酸アミド; p−ニトロフ
ェニルエステル、フェニルチオエステル、カルボキシメ
チルチオエステルまたはN−ヒドロキシピペリジン、N
−ヒトaキシサクシンイミド、N−ヒドロキシフタルイ
ミドなどのN−ヒドロキシ化合物とのエステルなどの活
性エステルが挙げられる。
例としては、例えば酸塩化物、酸臭化物などの酸ハライ
ド: 置換リン酸、ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、チオ
硫酸、硫酸、炭酸アルキル、有機カルボン酸などの酸と
の酸無水物および対称酸無水物; イミダゾール、ジメ
チルビラゾールナトトの活性酸アミド; p−ニトロフ
ェニルエステル、フェニルチオエステル、カルボキシメ
チルチオエステルまたはN−ヒドロキシピペリジン、N
−ヒトaキシサクシンイミド、N−ヒドロキシフタルイ
ミドなどのN−ヒドロキシ化合物とのエステルなどの活
性エステルが挙げられる。
この反応において使用される溶媒としては、例えば水、
アセトン、ノオキサン、アセトニトリル、クロロホルム
、塩化メチレン、ベンゼン、酢酸エチル、N、N−ジメ
チルホルムアミド、ピリジン、ヘキサンなどの反応に悪
影響を及ぼさない単一または混合溶媒を使用することが
できる。反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし加熱下、好ましくはO〜40℃程度とするのがよい
。
アセトン、ノオキサン、アセトニトリル、クロロホルム
、塩化メチレン、ベンゼン、酢酸エチル、N、N−ジメ
チルホルムアミド、ピリジン、ヘキサンなどの反応に悪
影響を及ぼさない単一または混合溶媒を使用することが
できる。反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし加熱下、好ましくはO〜40℃程度とするのがよい
。
この反応は有機または無機塩基などの存在下で行なうこ
とができる。斯かる塩基としては、例えばリチウム、ナ
トリウム、カリウムなどのフルカリ金属、カルシウム、
マグネシウムなどのアルカリ土類金属、水酸化ナトリウ
ムなどのアルカリ金属水酸化物、水素化ナトリウムなど
のアルカリ金属水素化物、水素化カルシウムなどのアル
カリ土類金属水素化物、炭酸ナトリウムなどのアルカリ
金属炭酸塩、炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属炭酸
水素塩、ナトリウムエトキシドなどのアルカリ金属アル
コキシド、トリエチルアミンなどのトリアルキルアミン
、ピリジン、ピコリン、キノリンなどの含窒素複素環化
合物などが挙げられる。
とができる。斯かる塩基としては、例えばリチウム、ナ
トリウム、カリウムなどのフルカリ金属、カルシウム、
マグネシウムなどのアルカリ土類金属、水酸化ナトリウ
ムなどのアルカリ金属水酸化物、水素化ナトリウムなど
のアルカリ金属水素化物、水素化カルシウムなどのアル
カリ土類金属水素化物、炭酸ナトリウムなどのアルカリ
金属炭酸塩、炭酸水素カリウムなどのアルカリ金属炭酸
水素塩、ナトリウムエトキシドなどのアルカリ金属アル
コキシド、トリエチルアミンなどのトリアルキルアミン
、ピリジン、ピコリン、キノリンなどの含窒素複素環化
合物などが挙げられる。
これらのうちでトリアルキルアミン及び含窒素複素環化
合物を使用するのが好ましい。塩基の使用量としては特
に制限されないが、通常化合物(■)に対して25当量
以下、好ましくは0.25〜4当量とするのがよい。
合物を使用するのが好ましい。塩基の使用量としては特
に制限されないが、通常化合物(■)に対して25当量
以下、好ましくは0.25〜4当量とするのがよい。
上記反応において化合物(■)と化合物(Vf)との使
用割合としては特に制限されず広い範囲内から適宜選択
できるが、通常前者:後者を1:5〜5:1(当量比)
、好ましくは1:2〜2:1とするのがよい。
用割合としては特に制限されず広い範囲内から適宜選択
できるが、通常前者:後者を1:5〜5:1(当量比)
、好ましくは1:2〜2:1とするのがよい。
この反応において化合物(VI)をin酸またはその塩
の形態で使用する場合には、縮合剤の存在下に反応を打
なうのが好ましい、縮合剤としては、N、N’−ジシク
ロヘキシルカルボジイミドなどのカルボジイミド化合物
、ジフェニルケテン−N−シクロヘキシルイミンなどの
ケテンイミン化合物、エトキシアセチレン、β−クロロ
ビニルエチルエーテルなどの不飽和アルキルエーテル化
合物、N−ヒドロキシベンゾトリアゾール誘導体のスル
ホン酸エステル〔例、1−(4−クロロベンゼンスルホ
ニルオキシ)−6−クロロ−IH−ペンツトリアゾール
など〕、トリアルキルホスファイトもしくはトIJフェ
ニルホスフィンと四塩化炭素、ポリリン酸エチル、3塩
化リンなどのリン化合物、塩化チオニルなどの他にいわ
ゆるビルスマイヤー試薬(N、N−ツメチルホルムアミ
ド、N−メチルホルムアミドなどのアミド化合物と塩化
チオニル、塩化ホスホリル、ホスゲンなどのハロゲン化
合物との反応によって形成される)等が挙げられる。
の形態で使用する場合には、縮合剤の存在下に反応を打
なうのが好ましい、縮合剤としては、N、N’−ジシク
ロヘキシルカルボジイミドなどのカルボジイミド化合物
、ジフェニルケテン−N−シクロヘキシルイミンなどの
ケテンイミン化合物、エトキシアセチレン、β−クロロ
ビニルエチルエーテルなどの不飽和アルキルエーテル化
合物、N−ヒドロキシベンゾトリアゾール誘導体のスル
ホン酸エステル〔例、1−(4−クロロベンゼンスルホ
ニルオキシ)−6−クロロ−IH−ペンツトリアゾール
など〕、トリアルキルホスファイトもしくはトIJフェ
ニルホスフィンと四塩化炭素、ポリリン酸エチル、3塩
化リンなどのリン化合物、塩化チオニルなどの他にいわ
ゆるビルスマイヤー試薬(N、N−ツメチルホルムアミ
ド、N−メチルホルムアミドなどのアミド化合物と塩化
チオニル、塩化ホスホリル、ホスゲンなどのハロゲン化
合物との反応によって形成される)等が挙げられる。
上記縮合剤の使用量としては、通常化合物(■)に対し
て25当量以下、好ましくは0.25〜4当量とするの
がよい。
て25当量以下、好ましくは0.25〜4当量とするの
がよい。
またはその塩類
またはその塩類
(式中、R1,R2,R”、A、B、X及び口はそハル
h前P〉闇11音味で本0− カルゼス千リル脣格は置
換基を有していても良い) 次に化合物(II)の3位を置換あるいは未置換カルボ
スチリル類(III)で置換反応を行う場合は水あるい
はアセトニトリル、メタノール、アセトン、N、N−ツ
メチルホルムアミド、テトラヒドロ7ラン等の単独又は
混合溶媒中、塩基として炭酸す) 1/ウム、炭酸水素
ナトリウムあるいはト1ノエチルアミン等を用いるか、
又はプロピレンオキサイドの存在下、反応温度は特に限
定されないが、通常冷却下ないし加熱下、好ましくは一
り0℃〜40℃程度で行なうのが良い。
h前P〉闇11音味で本0− カルゼス千リル脣格は置
換基を有していても良い) 次に化合物(II)の3位を置換あるいは未置換カルボ
スチリル類(III)で置換反応を行う場合は水あるい
はアセトニトリル、メタノール、アセトン、N、N−ツ
メチルホルムアミド、テトラヒドロ7ラン等の単独又は
混合溶媒中、塩基として炭酸す) 1/ウム、炭酸水素
ナトリウムあるいはト1ノエチルアミン等を用いるか、
又はプロピレンオキサイドの存在下、反応温度は特に限
定されないが、通常冷却下ないし加熱下、好ましくは一
り0℃〜40℃程度で行なうのが良い。
化合物(IV)において、R1またはR3に例えばアミ
7保護基あるいはカルボキシル保護基が存在するか、又
はn=1の場合は各々、アミノ保護基及びカルボキシル
保護基の脱離反応又は還元反応に供することで化合物(
1)が製造できる。この脱離反応及び還元反応は以下に
示す加水分解、還元などの常法により行うことができる
。
7保護基あるいはカルボキシル保護基が存在するか、又
はn=1の場合は各々、アミノ保護基及びカルボキシル
保護基の脱離反応又は還元反応に供することで化合物(
1)が製造できる。この脱離反応及び還元反応は以下に
示す加水分解、還元などの常法により行うことができる
。
(イ)加水分解
加水分解は酸の存在下で行なうのが好ましい。
適当な酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸など
の無機酸、蟻酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、p−)ルエンスルホン酸などの有機
酸が用いられる。
の無機酸、蟻酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、p−)ルエンスルホン酸などの有機
酸が用いられる。
加水分解は通常°、水、メタノール、テトラヒドロフラ
ン、N、N−ツメチルホルムアミド、ジオキサン、ベン
ゼン、ヘキサンなどの反応に悪影響を及ぼさない単一ま
たは混合溶媒を用いることができる。また、上記の酸が
液体である場合には、この酸自体を溶媒としても使用で
きる。
ン、N、N−ツメチルホルムアミド、ジオキサン、ベン
ゼン、ヘキサンなどの反応に悪影響を及ぼさない単一ま
たは混合溶媒を用いることができる。また、上記の酸が
液体である場合には、この酸自体を溶媒としても使用で
きる。
この加水分解の反応温度は特に限定されないが、通常冷
却下ないし加熱下に行なうのがよい。
却下ないし加熱下に行なうのがよい。
(ロ)還 元
還元は化学的還元、接触還元などの慣用の方法により行
なわれる。
なわれる。
化学的還元剤としては、例えば錫、亜鉛、鉄、塩化クロ
ム、酢酸クロムなどの金属または金属化合物と、蟻酸、
酢酸、トリフルオロ酢酸、p)ルエンスルホン酸、塩酸
、臭化水素酸などの有機酸または無機酸との組合せによ
るもの又は三臭化リン等が挙げられる。
ム、酢酸クロムなどの金属または金属化合物と、蟻酸、
酢酸、トリフルオロ酢酸、p)ルエンスルホン酸、塩酸
、臭化水素酸などの有機酸または無機酸との組合せによ
るもの又は三臭化リン等が挙げられる。
接触還元に使用される触媒は、例えば、白金、パラジウ
ム、ロジウム、ニッケル、銅、コバルト、鉄などの重金
属を含有する通常の接触が使用される。接触還元は、通
常、水、メタノール、N、N−ツメチルホルムアミド、
ヘキサン、ベンゼン、ジオキサンなどの反応に悪影響を
及ぼさない単一または混合溶媒を用いることができる。
ム、ロジウム、ニッケル、銅、コバルト、鉄などの重金
属を含有する通常の接触が使用される。接触還元は、通
常、水、メタノール、N、N−ツメチルホルムアミド、
ヘキサン、ベンゼン、ジオキサンなどの反応に悪影響を
及ぼさない単一または混合溶媒を用いることができる。
また、上記の酸が液体である場合には、それも溶媒とし
て使用できる。
て使用できる。
この接触還元の反応温度は特に限定されないが、通常冷
却下ないし加熱下に行なうのがよい。
却下ないし加熱下に行なうのがよい。
合成ルート(2)
(0)n
(1’/) またはその塩類
(式中、R1,R2,Rコ、A、Bおよびnはそれぞれ
前記と同じ意味であり、カルボスチリル骨格は置換基を
有していでも良い) 化合物(W)またはその塩類は、化合物(V)もしくは
アミ7基における反応性誘導体またはその塩類に、化合
物(Vl)もしくはカルボキシル基における反応性誘導
体またはその塩類を作用させることにより製造できる。
前記と同じ意味であり、カルボスチリル骨格は置換基を
有していでも良い) 化合物(W)またはその塩類は、化合物(V)もしくは
アミ7基における反応性誘導体またはその塩類に、化合
物(Vl)もしくはカルボキシル基における反応性誘導
体またはその塩類を作用させることにより製造できる。
化合物(V)および(■)の適当な塩としては、化合物
(1)に対して例示した同じ塩類が挙げられる。
(1)に対して例示した同じ塩類が挙げられる。
化合物(V)のアミ7基における反応性誘導体の例とし
ては、前記した合成ルート(1)における化合物(■)
で述べたのと同様のものを挙げることができる。
ては、前記した合成ルート(1)における化合物(■)
で述べたのと同様のものを挙げることができる。
化合物(■)のカルボキシル基における反応性誘導体の
例としては前記と同じものを挙げることができる。
例としては前記と同じものを挙げることができる。
この反応において使用される溶媒としては、前記合成ル
ート(1)と同様のものを使用することができる。反応
温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし加熱下、
好ましくはθ〜40℃程度がよい。
ート(1)と同様のものを使用することができる。反応
温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし加熱下、
好ましくはθ〜40℃程度がよい。
この反応は有機または無機塩基などの存在下で行なうこ
とができる。欺がる塩基としては、前記合成ルート(1
)と同様のものを使用できる。塩基の使用量としては特
に制限されないが、通常化合物(V)に対して25当量
以下、好ましくは0.25〜4当量とするのがよい。
とができる。欺がる塩基としては、前記合成ルート(1
)と同様のものを使用できる。塩基の使用量としては特
に制限されないが、通常化合物(V)に対して25当量
以下、好ましくは0.25〜4当量とするのがよい。
上記反応において化合物(V)と化合物(VI)との使
用割合としては特に制限されず広い範囲内から適宜選択
できるが、通常前者:後者を1:5〜5:1(当量比)
、好ましくは1:2〜2:1とするのがよい。
用割合としては特に制限されず広い範囲内から適宜選択
できるが、通常前者:後者を1:5〜5:1(当量比)
、好ましくは1:2〜2:1とするのがよい。
この反応において化合物(VI)を遊離酸またはその塩
の形態で使用する場合には、縮合剤の存在下に反応を行
なうのが好ましい。縮合剤としては、前記した合成ルー
ト(1)で述べたのと同様のものを使用できる。上記縮
合剤の使用量としては、通常化合物(V)に対して25
当量以下、好ましくは0.25〜4当量とするのがよい
。
の形態で使用する場合には、縮合剤の存在下に反応を行
なうのが好ましい。縮合剤としては、前記した合成ルー
ト(1)で述べたのと同様のものを使用できる。上記縮
合剤の使用量としては、通常化合物(V)に対して25
当量以下、好ましくは0.25〜4当量とするのがよい
。
化合物(IV)において、R′またはR3に例えば7ミ
ノ保護基あるいはカルボキシル保護基が存在するか、又
はn=1の場合は各々、アミノ保護基及びカルボキシル
保護基の脱離反応又は還元反応に供することで化合物(
1)が製造できる。この脱離反応及V3yL元反応とし
ては、前記した合成ルート(1)と同様の反応を用いる
ことができる。
ノ保護基あるいはカルボキシル保護基が存在するか、又
はn=1の場合は各々、アミノ保護基及びカルボキシル
保護基の脱離反応又は還元反応に供することで化合物(
1)が製造できる。この脱離反応及V3yL元反応とし
ては、前記した合成ルート(1)と同様の反応を用いる
ことができる。
本発明の化合物(I)は高い抗菌活性を有し、線画感染
症の予防ないし治療剤としで有泪である。
症の予防ないし治療剤としで有泪である。
本発明化合物(1)およびその塩を予防及び治療の目的
で投与するに当っては、該化合物を有効成分として含有
し、これに経口、非経口および外用投与に適した有機ま
たは無機、固体または液体の賦形剤のような医薬上許容
される担体を混合した慣用の製剤状態で使用される。こ
の製剤は錠剤、顆粒、散剤、カプセル剤のような固体形
態、または溶液、懸濁液、シロップ、乳剤、レモネード
などの液体形態でよい。必要に応じて、上記の製剤に、
補助物質、安定剤、潤滑剤、ならびにその他の慣用の添
加剤、例えば乳糖、ステアリン酸マグネシウム、白陶土
、ショ糖、コーンスターチ、タルク、ステアリン酸、ゼ
ラチン、寒天、ペクチン、ピーナツ油、オリーブ油、カ
カオ脂、エチレングリコールなどを混入してもよい。
で投与するに当っては、該化合物を有効成分として含有
し、これに経口、非経口および外用投与に適した有機ま
たは無機、固体または液体の賦形剤のような医薬上許容
される担体を混合した慣用の製剤状態で使用される。こ
の製剤は錠剤、顆粒、散剤、カプセル剤のような固体形
態、または溶液、懸濁液、シロップ、乳剤、レモネード
などの液体形態でよい。必要に応じて、上記の製剤に、
補助物質、安定剤、潤滑剤、ならびにその他の慣用の添
加剤、例えば乳糖、ステアリン酸マグネシウム、白陶土
、ショ糖、コーンスターチ、タルク、ステアリン酸、ゼ
ラチン、寒天、ペクチン、ピーナツ油、オリーブ油、カ
カオ脂、エチレングリコールなどを混入してもよい。
化合物(I)の投与量は、患者の年令、状態、病気の種
類、投与する化合物(I)の種類などに応じて選択され
る。一般に、1日に1mgから約4000mg。
類、投与する化合物(I)の種類などに応じて選択され
る。一般に、1日に1mgから約4000mg。
さらにはそれ以上の量が患者に投与できる。病原菌感染
症の治療には、化合物(I)の1回当りの平均投与量と
して約50mg、 100mg、 250mg、 50
0IIg。
症の治療には、化合物(I)の1回当りの平均投与量と
して約50mg、 100mg、 250mg、 50
0IIg。
1000+*g、2000輸gの量が使用できる。
(実 施 例)
次に本発明の実施例及び試験例を下記に記載するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。
発明はこれらに限定されるものではない。
尚、以下においでTrはトリチル基、tBuは第3級ブ
チル基を示す。
チル基を示す。
実施例1
7−7ミノー3−jロロメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸p−メトキシベンジルエステルのp−)ルエン
スルホン酸塩(700mg)の塩化メチレン(20ml
)FJ?I3溶液に水冷下、トリエチルアミン(0,1
9m1)を加え攪拌、さらにこの溶液に(Z)−2−(
2−7リルオキシイミ/)−2−(2−)ジチルアミノ
チアゾール−4−イル)酢IQ(600mg)を加え撹
拌し均一溶液とした。この溶液に水冷下撹拌しなから1
−ヒドロキシベンゾトリアゾール(265I1g)、次
いでシシクaヘキシルカルボジイミド(270mg)を
加えた。混合物を水冷下さらに3時wJ撹件I7た。混
合物を口遇しそして白色固体を少量のア七トンで洗浄し
た。口液及び洗液を合わせて濃縮し溶媒を減圧留去させ
、残留物をクロロホルム−メタノール(容量比8:1)
でシリカゾルカラムを通して溶離させた。生成物含有溶
離物を集め次いで濃縮することにより?−(2−(2−
プロペニルオキシイミノ)−2−(2−1リチルアミノ
チアゾール−4−イル)アセトアミドツー3−クロロメ
チル−3−セフェム−4−カルホン酸p−メトキシベン
ジルエステル(シン異性体)(900mg)を得た。
ルボン酸p−メトキシベンジルエステルのp−)ルエン
スルホン酸塩(700mg)の塩化メチレン(20ml
)FJ?I3溶液に水冷下、トリエチルアミン(0,1
9m1)を加え攪拌、さらにこの溶液に(Z)−2−(
2−7リルオキシイミ/)−2−(2−)ジチルアミノ
チアゾール−4−イル)酢IQ(600mg)を加え撹
拌し均一溶液とした。この溶液に水冷下撹拌しなから1
−ヒドロキシベンゾトリアゾール(265I1g)、次
いでシシクaヘキシルカルボジイミド(270mg)を
加えた。混合物を水冷下さらに3時wJ撹件I7た。混
合物を口遇しそして白色固体を少量のア七トンで洗浄し
た。口液及び洗液を合わせて濃縮し溶媒を減圧留去させ
、残留物をクロロホルム−メタノール(容量比8:1)
でシリカゾルカラムを通して溶離させた。生成物含有溶
離物を集め次いで濃縮することにより?−(2−(2−
プロペニルオキシイミノ)−2−(2−1リチルアミノ
チアゾール−4−イル)アセトアミドツー3−クロロメ
チル−3−セフェム−4−カルホン酸p−メトキシベン
ジルエステル(シン異性体)(900mg)を得た。
NMRδ ppm (CD CI+):3.50(2
)1.s)、 3.78(3)1.sン、 4.4
5(2H,d、J=12Hz>。
)1.s)、 3.78(3)1.sン、 4.4
5(2H,d、J=12Hz>。
4.58(28,dtJ=5.5Hz)+ 4.96(
IH,d、J=5,0Hz)。
IH,d、J=5,0Hz)。
5.1−5.4(411,m)、 5.8−6.1(2
)1.m)、 6.7(111,5)−7,08−7,
84(20H,m)、 8.13(IH,s)実施例2 7−(2−(2−プロペニルオキシイミノ)−2−(2
−)リチル7ミノチ7ゾールー4−イル)アセトアミド
ツー3−クロロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
p−メトキシベンジルエステル(シン異性体)(890
+*g)のア七トン(50ml)溶液に、ヨウ化ナトリ
ウム(237mg)と炭酸ナトリウム(157mg)と
を加え撹拌下、1時間加熱還流させた。この混合物を室
温にもどした後口過し、口液を減圧濃縮した後、残渣を
塩化メチレン(50ml)に溶解させ5%千オ硫酸ナト
リウム水溶液(30ml)にで洗浄した。得られた有機
相を減圧濃縮し?−(2−(2−プロペニルオキシイミ
ノ)−2−(2−)ジチルアミノチアゾール−4−イル
)アセトアミド〕−3−″3−トメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(シン
異性体)(820mg)を得た。
)1.m)、 6.7(111,5)−7,08−7,
84(20H,m)、 8.13(IH,s)実施例2 7−(2−(2−プロペニルオキシイミノ)−2−(2
−)リチル7ミノチ7ゾールー4−イル)アセトアミド
ツー3−クロロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
p−メトキシベンジルエステル(シン異性体)(890
+*g)のア七トン(50ml)溶液に、ヨウ化ナトリ
ウム(237mg)と炭酸ナトリウム(157mg)と
を加え撹拌下、1時間加熱還流させた。この混合物を室
温にもどした後口過し、口液を減圧濃縮した後、残渣を
塩化メチレン(50ml)に溶解させ5%千オ硫酸ナト
リウム水溶液(30ml)にで洗浄した。得られた有機
相を減圧濃縮し?−(2−(2−プロペニルオキシイミ
ノ)−2−(2−)ジチルアミノチアゾール−4−イル
)アセトアミド〕−3−″3−トメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(シン
異性体)(820mg)を得た。
NMRδ ppm (CD CI3):3.50(2
H,m)t 3.82(311,s)、 4.32(2
11,s)。
H,m)t 3.82(311,s)、 4.32(2
11,s)。
4.70(2H,d、J=5.511z)−4,90(
II(、d、J=5,0FIz)C5,1−5,4(4
H,m)、 5.8−6.1(211,m)、 6.7
(IH,s)。
II(、d、J=5,0FIz)C5,1−5,4(4
H,m)、 5.8−6.1(211,m)、 6.7
(IH,s)。
7.08〜7.84(20H,m)、8.1.3(IH
ys)実施例3 7−(2−(2−プロベニルオキシイミ/)−2−(2
−)リチル7ミノチアゾールー4−イル)アセトアミド
〕−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
p−メトキシペンシルエステル(シン異性体)(810
mg)のアセトニトリル(15IIll)とN、N−ジ
メチルホルムアミド(51)との混合溶媒溶液に水冷下
撹拌しながら酸化プロピレン(0,5m1)を加え、次
いで6−メルカプ)−1,2−シバイドロー2−チオキ
ソキノリン(174mg)を加え更に水冷下2時間撹拌
した。反応混合物を減圧濃縮し得られた残渣を酢酸エチ
ル(50ml)に溶解させ、飽和食塩水(50m l
)にて3回洗浄した。得られた有機相を減圧濃縮し7−
C2−(2−プロペニルオキジイミノ)−2−(2−)
ジチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)
−3−(1,2−ジノ蔦イドロー2−チオキソ−6−キ
・ノリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸
p−メトキシベンノルエステル(シン異性体)(440
mg)を得た。
ys)実施例3 7−(2−(2−プロベニルオキシイミ/)−2−(2
−)リチル7ミノチアゾールー4−イル)アセトアミド
〕−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
p−メトキシペンシルエステル(シン異性体)(810
mg)のアセトニトリル(15IIll)とN、N−ジ
メチルホルムアミド(51)との混合溶媒溶液に水冷下
撹拌しながら酸化プロピレン(0,5m1)を加え、次
いで6−メルカプ)−1,2−シバイドロー2−チオキ
ソキノリン(174mg)を加え更に水冷下2時間撹拌
した。反応混合物を減圧濃縮し得られた残渣を酢酸エチ
ル(50ml)に溶解させ、飽和食塩水(50m l
)にて3回洗浄した。得られた有機相を減圧濃縮し7−
C2−(2−プロペニルオキジイミノ)−2−(2−)
ジチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)
−3−(1,2−ジノ蔦イドロー2−チオキソ−6−キ
・ノリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸
p−メトキシベンノルエステル(シン異性体)(440
mg)を得た。
NMRδ ppm (D M S O−da):3.
60(211,s)、 3.70(3H,s)、 4.
5(2■tmL4.90(IHld、J=5.0Hz)
、5.1−5.4(4H−ra)−5,5−5,8(2
H,a+)、 6.70(III、s)、 7.0
8(51,+s)。
60(211,s)、 3.70(3H,s)、 4.
5(2■tmL4.90(IHld、J=5.0Hz)
、5.1−5.4(4H−ra)−5,5−5,8(2
H,a+)、 6.70(III、s)、 7.0
8(51,+s)。
7.25−7.84(20H,m)、 9.25(1′
H,d、J=8,0FIz)。
H,d、J=8,0FIz)。
9.65(III、s)
実施例4
7−(2−(2−プロペニルオキシイミノ)−2−(2
,−)リチルアミノチアゾールー4−イル)アセトアミ
ド] −3−(1,2−シバイドロー2−チオキソ−6
−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン
酸p−メトキシベンジルエステル(シン異性体)(43
0mg)を80%酢酸水溶液(3ml)に溶解させ、3
5〜40℃にて3時間撹拌する。析出白色固体を口去し
口演を減圧凍結乾燥し得られた残渣をエーテル(10m
l)にで粉末化し?−(2−(2−7ミノチアゾールー
4−イル)−2−(2−プロベニルオキシイミ/)アセ
トアミド] −3−(1,2−シバイドロー2−チオキ
ソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カ
ルボン1llp−メトキシペンシルエステル(シン異性
体)(120+*g)を得た。
,−)リチルアミノチアゾールー4−イル)アセトアミ
ド] −3−(1,2−シバイドロー2−チオキソ−6
−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン
酸p−メトキシベンジルエステル(シン異性体)(43
0mg)を80%酢酸水溶液(3ml)に溶解させ、3
5〜40℃にて3時間撹拌する。析出白色固体を口去し
口演を減圧凍結乾燥し得られた残渣をエーテル(10m
l)にで粉末化し?−(2−(2−7ミノチアゾールー
4−イル)−2−(2−プロベニルオキシイミ/)アセ
トアミド] −3−(1,2−シバイドロー2−チオキ
ソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カ
ルボン1llp−メトキシペンシルエステル(シン異性
体)(120+*g)を得た。
NMRδ ppm (D M S Od6):3.6
0(211,s)、 3.70(3H,s)、 4
.5(28,m)。
0(211,s)、 3.70(3H,s)、 4
.5(28,m)。
4.70(2FI、dtJ=5.5Hz)t 4.90
(IH,d、J=6Hz)−5,1−5,4(4Hym
)= 5.5−5.8(2H,m)、 6.70(1■
、S)。
(IH,d、J=6Hz)−5,1−5,4(4Hym
)= 5.5−5.8(2H,m)、 6.70(1■
、S)。
7.08(5H,+e)、 7.1−7.23(2Ht
s)t7.5〜7.75(4H,v)t 9.25(I
H,d、J=8,0Hz)。
s)t7.5〜7.75(4H,v)t 9.25(I
H,d、J=8,0Hz)。
9.65(ill、s)
実施例5
7−(2−(2−7ミノチアゾールー4−イル)−2−
(2−プロペニルオキシイミノ)アセトアミド) −3
−(1,2−シバイドロー2−チオキソ−6−キ7リル
チオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−メト
キシペンシルエステル(シン異性体)(110mg)を
水冷下塩化メチレン(21)、アニソール(600μり
に溶解させ、トリフルオロ酢酸(SOOμm)を滴下し
、0℃にで2時間撹拌した。減圧下溶媒を留去させ得ら
れた残渣をエーテル(30I81)にて粉末化し、5%
炭酸水素カリウム水溶液にて中和溶解させた後、セファ
デックスLH−20カラムにて水で溶離させ、生成物含
有溶離物を集L 7 (−e−44−4J−AJL j
、1 五11 +4−クーCリーtつ、フミンチ
アゾール−4−イル)−2−(2−プロペニルオキシイ
ミノ)アセトアミド) −3−(1,2−シバイドロー
2−チオキソ−6−キ/リルチオ)メチル−3−セフェ
ム−4−カルボキンレート(シン異性体)(28論g)
を得た。
(2−プロペニルオキシイミノ)アセトアミド) −3
−(1,2−シバイドロー2−チオキソ−6−キ7リル
チオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−メト
キシペンシルエステル(シン異性体)(110mg)を
水冷下塩化メチレン(21)、アニソール(600μり
に溶解させ、トリフルオロ酢酸(SOOμm)を滴下し
、0℃にで2時間撹拌した。減圧下溶媒を留去させ得ら
れた残渣をエーテル(30I81)にて粉末化し、5%
炭酸水素カリウム水溶液にて中和溶解させた後、セファ
デックスLH−20カラムにて水で溶離させ、生成物含
有溶離物を集L 7 (−e−44−4J−AJL j
、1 五11 +4−クーCリーtつ、フミンチ
アゾール−4−イル)−2−(2−プロペニルオキシイ
ミノ)アセトアミド) −3−(1,2−シバイドロー
2−チオキソ−6−キ/リルチオ)メチル−3−セフェ
ム−4−カルボキンレート(シン異性体)(28論g)
を得た。
NMRδ ppm (D M S O−da):3
.50(2H,s)、 4.5(28,et)、 4
.フ0(2H,d、J= 5.5Hz)−4,90(I
HtdtJ=6,0Hz)、 5.1−5.4(2H−
m)*5.5〜5.8(2H,m)、 e、フ0(I
Hts)*7.1〜7.23(28,s)、 7.5
0−7.フ5(4H,m)。
.50(2H,s)、 4.5(28,et)、 4
.フ0(2H,d、J= 5.5Hz)−4,90(I
HtdtJ=6,0Hz)、 5.1−5.4(2H−
m)*5.5〜5.8(2H,m)、 e、フ0(I
Hts)*7.1〜7.23(28,s)、 7.5
0−7.フ5(4H,m)。
8.13(IH,s)、 9.3(1B、d、J=8H
z)、 10.3(18,brs)実施例6 炭酸カリウム(1,1g)をN、N−ツメチルホルムア
ミド(40m l )中に懸濁した溶液に6−メルカブ
トー1,2−シバイドロー6−オキソキノリン(840
ng)を加え室温にて30分間撹拌する。この溶液に水
冷下7−[2−(2−7’ロベニルオキシイミノ)−2
−(2−)リチルアミノチアゾールー4−イル)アセト
アミドクー3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸p−メトキシベンジルエステル(シン異性体)(
2,2g)を加え攪拌、更に室温にて3時間撹件させた
後、N、N−ジメチルホルムアミドを減圧留去し、残留
物を塩化メチレンにてシリカゾルカラムクロマトで溶離
させ、目的物含有溶離物を集め減圧下溶媒を留去するこ
とにより、7−(2−(2−プロペニルオキシイミノ)
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)7
セトアミド) −3−(1,2−シバイドロー2−オキ
ソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸p−メトキシベンノルエステル(シン異性体)
(1,1g)(Δ2及びΔ3混合物)を得た。
z)、 10.3(18,brs)実施例6 炭酸カリウム(1,1g)をN、N−ツメチルホルムア
ミド(40m l )中に懸濁した溶液に6−メルカブ
トー1,2−シバイドロー6−オキソキノリン(840
ng)を加え室温にて30分間撹拌する。この溶液に水
冷下7−[2−(2−7’ロベニルオキシイミノ)−2
−(2−)リチルアミノチアゾールー4−イル)アセト
アミドクー3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸p−メトキシベンジルエステル(シン異性体)(
2,2g)を加え攪拌、更に室温にて3時間撹件させた
後、N、N−ジメチルホルムアミドを減圧留去し、残留
物を塩化メチレンにてシリカゾルカラムクロマトで溶離
させ、目的物含有溶離物を集め減圧下溶媒を留去するこ
とにより、7−(2−(2−プロペニルオキシイミノ)
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)7
セトアミド) −3−(1,2−シバイドロー2−オキ
ソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸p−メトキシベンノルエステル(シン異性体)
(1,1g)(Δ2及びΔ3混合物)を得た。
NMRδ ppm (CD CI、):3.80(2
)1.s)、 3.82(3Ls)、 4.60(2H
,m)4.90(IN、d、J=8,0)Iz)、
5.1−5.4(5Htm)。
)1.s)、 3.82(3Ls)、 4.60(2H
,m)4.90(IN、d、J=8,0)Iz)、
5.1−5.4(5Htm)。
5.6〜5,8(2H,m)、 6.5(1)1.s
)、 6.68(IH,5)−7,08−7,10(
4H,LI)、6.25−7.84(27H,m)。
)、 6.68(IH,5)−7,08−7,10(
4H,LI)、6.25−7.84(27H,m)。
8.13(11(、s)、 9.25(IH,d、J
=8.0)Iz)。
=8.0)Iz)。
9.65(IH,s)
実施例7
↑
7−(2−(2−プロペニルオキシイミノ)−2−(2
−)ジチルアミ/チアゾール−4−イル)7セFアミド
) −3−(1,2−シバイドロー2−オキソ−6−キ
メリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン1l
lp−メトキシベンジルエステル(シン異性体)(1,
09g)を塩化メチレン(10n+I)に溶解させた溶
液に氷冷下m−クロロ過安息香酸(300a+g)の塩
化メチレン(5ω1)溶液を滴下し、さらに水冷下1時
間撹拌した。この溶液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液
(10m l )及び飽和食塩水(10ml)で洗浄し
、有191相を無水硫酸マグネシウムで脱水後、溶媒を
留去することにより、粉末状の7−(2−(2−プロペ
ニルオキシイミノ)−2−(2−)リチルアミノチアゾ
ールー4−イル)アセトアミド〕−3−(1,2−シバ
イドロー2−オキソ−6−J+iリルチオ)メチル−3
−セフェム−1−オキシド−4−カルボン!!!p−メ
トキシベンジルエステル(シン異性体)(450mg)
を得た。
−)ジチルアミ/チアゾール−4−イル)7セFアミド
) −3−(1,2−シバイドロー2−オキソ−6−キ
メリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン1l
lp−メトキシベンジルエステル(シン異性体)(1,
09g)を塩化メチレン(10n+I)に溶解させた溶
液に氷冷下m−クロロ過安息香酸(300a+g)の塩
化メチレン(5ω1)溶液を滴下し、さらに水冷下1時
間撹拌した。この溶液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液
(10m l )及び飽和食塩水(10ml)で洗浄し
、有191相を無水硫酸マグネシウムで脱水後、溶媒を
留去することにより、粉末状の7−(2−(2−プロペ
ニルオキシイミノ)−2−(2−)リチルアミノチアゾ
ールー4−イル)アセトアミド〕−3−(1,2−シバ
イドロー2−オキソ−6−J+iリルチオ)メチル−3
−セフェム−1−オキシド−4−カルボン!!!p−メ
トキシベンジルエステル(シン異性体)(450mg)
を得た。
NMRδ ppm (CD CI3):3.50(2
8,s)、 3.82(3Hts)t 4.60(2F
ltmL4.90(IH,d、J=6.0Hz)、5.
1−5.30(4H,a)。
8,s)、 3.82(3Hts)t 4.60(2F
ltmL4.90(IH,d、J=6.0Hz)、5.
1−5.30(4H,a)。
5.7−6.15(2H9m)、6.88(1)1.s
)。
)。
6.8−6.92(2H,+*)、 7.2(17H
,brs)。
,brs)。
7.3−8.2(5B、brs)
実施例8
?−(2−(2−プロベニルオキイミ/ )−2−(2
−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド
) −3−(1,2〜シバイドロー2−オキソ−6−キ
ツリルチオ)メチル−3−セフェム−1−才キシト−4
−カルボン酸p−メトキシベンノルエステル(シン異性
体)(445+sg)をア七トン(20ml )に溶解
し一40℃に保ちながら、三臭化リン(200μm)を
滴下撹拌した後さらに2時間この温度にて撹拌した。こ
の混合溶液に炭酸ナトリウム(1,30g)水溶fi(
5ml)を加え撹拌した後、室温にもどし酢酸エチル(
100ml)と水(50ml)とからなる混合液中に撹
拌分散させた後、分離した有機相を無水硫酸マグネシウ
ムにて脱水後溶媒を留去することにより、7−(2−(
2−プロペニルオキシイミノ)−2−(2−)リチルア
ミノチアゾールー4−イル)アセトアミド) −3−(
1,2−ツノ1イドロー2−オキソ−6−キメリルチオ
)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシ
ベンジルエステル(シン異性体)(265B)を得た。
−トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド
) −3−(1,2〜シバイドロー2−オキソ−6−キ
ツリルチオ)メチル−3−セフェム−1−才キシト−4
−カルボン酸p−メトキシベンノルエステル(シン異性
体)(445+sg)をア七トン(20ml )に溶解
し一40℃に保ちながら、三臭化リン(200μm)を
滴下撹拌した後さらに2時間この温度にて撹拌した。こ
の混合溶液に炭酸ナトリウム(1,30g)水溶fi(
5ml)を加え撹拌した後、室温にもどし酢酸エチル(
100ml)と水(50ml)とからなる混合液中に撹
拌分散させた後、分離した有機相を無水硫酸マグネシウ
ムにて脱水後溶媒を留去することにより、7−(2−(
2−プロペニルオキシイミノ)−2−(2−)リチルア
ミノチアゾールー4−イル)アセトアミド) −3−(
1,2−ツノ1イドロー2−オキソ−6−キメリルチオ
)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシ
ベンジルエステル(シン異性体)(265B)を得た。
N M R8ppm (D M S Oda):3.
50(211,s)、 3.82(311,s)、
4.60(2H,m)。
50(211,s)、 3.82(311,s)、
4.60(2H,m)。
4.90(if(、d、J=5.0tlz)、 5.1
〜5.30(5■III)?5.7−6.15(ZI(
、m)、 6.68(ltl、s)。
〜5.30(5■III)?5.7−6.15(ZI(
、m)、 6.68(ltl、s)。
7.08−7.10(411,a+)、 6.25−7
.84(17B、m)。
.84(17B、m)。
8.13(IH,s)、 9.25(IH,d、J=8
.QF[z)。
.QF[z)。
9.65(IH,s)
実施例9
7−(2−(2−7ミ/チアゾール−4−イル)−2−
(2−プロペニルオキシイミノ)アセトアミド〕−3−
夕ロルメチル−3−セフェム−4−′hルボン酸(44
2mg)の塩化メチレン(10+l)溶液にビストリメ
チルシリル7セトアミド(800μm)を加え40〜5
0℃で1時間攪拌した後、溶媒を留去し残留物にアセト
ニトリル(10+el)を加えた。この溶液に6−メル
カブトー1,2−シバイドロー2−オキソキノリン(3
QOmg)、そして酸化プロピレン(200μm)を加
えて、60〜70℃で2.5時間加熱撹拌した。溶媒留
去後、残留物をセファデックスLH−20(水)にて目
的物含有物を溶離させた後、5%炭酸水素カリツム水溶
液にて中和し、再度セファデックスLH−20(H,O
)にて目的物含有物を溶離させてカリウム7−(2−(
2−7ミノチアゾールー4−イル)−2−(2−プロベ
ニルオキシイミ7)アセトアミド] −3−(1,2−
シバイドロー2−オキソ−6−キツリルチオ)メチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート(78mg)を得
た。
(2−プロペニルオキシイミノ)アセトアミド〕−3−
夕ロルメチル−3−セフェム−4−′hルボン酸(44
2mg)の塩化メチレン(10+l)溶液にビストリメ
チルシリル7セトアミド(800μm)を加え40〜5
0℃で1時間攪拌した後、溶媒を留去し残留物にアセト
ニトリル(10+el)を加えた。この溶液に6−メル
カブトー1,2−シバイドロー2−オキソキノリン(3
QOmg)、そして酸化プロピレン(200μm)を加
えて、60〜70℃で2.5時間加熱撹拌した。溶媒留
去後、残留物をセファデックスLH−20(水)にて目
的物含有物を溶離させた後、5%炭酸水素カリツム水溶
液にて中和し、再度セファデックスLH−20(H,O
)にて目的物含有物を溶離させてカリウム7−(2−(
2−7ミノチアゾールー4−イル)−2−(2−プロベ
ニルオキシイミ7)アセトアミド] −3−(1,2−
シバイドロー2−オキソ−6−キツリルチオ)メチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート(78mg)を得
た。
NMRδ ppm (D M S O−ds):3.
50(28,s)t 4,50(2Htm)。
50(28,s)t 4,50(2Htm)。
4.70(2H,cl、J=5.5Hz)、4.90(
IHtd、J=6,0Hz)t5.10−5.30(2
H,m)、 5.60(2H,s)。
IHtd、J=6,0Hz)t5.10−5.30(2
H,m)、 5.60(2H,s)。
5.70〜6.15(2ff、m)−6,70(IH,
s)−7,03(2)!rs、)。
s)−7,03(2)!rs、)。
7.20−7.50(4Htm)−7,70(IHwb
rs*s)w7.90(IHlbrsws)t 9.
5(1)1ed、J=8,0H2)。
rs*s)w7.90(IHlbrsws)t 9.
5(1)1ed、J=8,0H2)。
10.2(IH,brs、s)
実施例10
7−7ミノー3−クロロメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸p−メトキシベンノルエステルのp−)ルエン
スルホン酸塩(2,70g)の塩化メチレン(20ml
)懸濁溶液に水冷下、トリエチルアミン(0,7m1)
を加え攪拌する。更にこの溶液°にD(−)−α−(4
−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ7カルポキ
シアミド)−a−(4−ヒドロキシ7溶液に水冷下で撹
拌しながら、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(1,
0g)、次いでジシクロヘキシルカルボジイミド(1,
Olg)を加えた。混合物を水冷下さらに3時間撹拌し
た。混合物を口過しそして白色固体を少量のア七トンで
洗浄した0口液および洗液を合わせて濃縮し溶媒を減圧
留去後、残留物をクロロホルム−メタノール(容積比8
:1)でシリカゾルカラムを通して溶離させた。生成物
含有溶離物を集め次いで濃縮しで、7−CD(−)−α
−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ7カ
ルポキシアミド)−α−(4−ヒドロキシ7エ二ル)ア
セトアミドツー3−クロロメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸p−メトキンペンシルエステル(3,26g
)を得た。
ルボン酸p−メトキシベンノルエステルのp−)ルエン
スルホン酸塩(2,70g)の塩化メチレン(20ml
)懸濁溶液に水冷下、トリエチルアミン(0,7m1)
を加え攪拌する。更にこの溶液°にD(−)−α−(4
−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ7カルポキ
シアミド)−a−(4−ヒドロキシ7溶液に水冷下で撹
拌しながら、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(1,
0g)、次いでジシクロヘキシルカルボジイミド(1,
Olg)を加えた。混合物を水冷下さらに3時間撹拌し
た。混合物を口過しそして白色固体を少量のア七トンで
洗浄した0口液および洗液を合わせて濃縮し溶媒を減圧
留去後、残留物をクロロホルム−メタノール(容積比8
:1)でシリカゾルカラムを通して溶離させた。生成物
含有溶離物を集め次いで濃縮しで、7−CD(−)−α
−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ7カ
ルポキシアミド)−α−(4−ヒドロキシ7エ二ル)ア
セトアミドツー3−クロロメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸p−メトキンペンシルエステル(3,26g
)を得た。
NMRδ ppm (D M S O−da):1.
10(3H,t)、3.30−3.55(48,請)、
3.60(28,s)。
10(3H,t)、3.30−3.55(48,請)、
3.60(28,s)。
3.78(3H,s)t 3.85(28,m)、 4
.50(28,s)。
.50(28,s)。
4.87(1)1tdtJ=5.0Hz)t 5.15
〜5.23(3)1.m)。
〜5.23(3)1.m)。
6.6〜フ、4(98,m)、 7.95(IH,s
)。
)。
9.20(IH,d*J=8.oI’1z)t 9.
50(IH,d、J=8,0Hz)実施例11 ?−CD(−)−α−(4−エチル−2,3−)オキソ
−1−ピペラジ7カルポキシアミド)−α−(4−ヒド
ロキシフェニル)アセトアミド〕−3−クロロメチル−
3−セフェム−4−カルボン1lp−メトキシベンノル
エステル(3,25g)の7七トン(50IIll)溶
液に、ヨウ化カリウム(1,03g)と炭酸ナトリウム
(0,66g)とを加え撹拌下1時間加熱還流させた。
50(IH,d、J=8,0Hz)実施例11 ?−CD(−)−α−(4−エチル−2,3−)オキソ
−1−ピペラジ7カルポキシアミド)−α−(4−ヒド
ロキシフェニル)アセトアミド〕−3−クロロメチル−
3−セフェム−4−カルボン1lp−メトキシベンノル
エステル(3,25g)の7七トン(50IIll)溶
液に、ヨウ化カリウム(1,03g)と炭酸ナトリウム
(0,66g)とを加え撹拌下1時間加熱還流させた。
この混合物を室温にもどした後口過し四層を減圧濃縮し
た後、残留物を塩化メチレン(50ml)に溶解しこれ
を5%千オ硫酸ナトリツム水溶液(30ml)にて洗浄
した。得られた有機相を減圧濃縮し、 で、7−CD
(−)−α−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピ
ペラジ7カルポキシアミド)−α−(4−ヒドロキシフ
ェニル)7セトアミド)−3−ヨードメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(
3,63g)を得た。
た後、残留物を塩化メチレン(50ml)に溶解しこれ
を5%千オ硫酸ナトリツム水溶液(30ml)にて洗浄
した。得られた有機相を減圧濃縮し、 で、7−CD
(−)−α−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピ
ペラジ7カルポキシアミド)−α−(4−ヒドロキシフ
ェニル)7セトアミド)−3−ヨードメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(
3,63g)を得た。
NMRδ pp論 (D M S O−d6):1.1
0(3B、t)、 3.30−3.55(4H,+*)
、 3.60(2H,s)。
0(3B、t)、 3.30−3.55(4H,+*)
、 3.60(2H,s)。
3.78(38,s)、 3.85(2H,m)、 4
.50(28,s)。
.50(28,s)。
4.87(IH,cl、J=、5,0FIz)、 5.
15−5.23(3H,m)。
15−5.23(3H,m)。
6.6−7.4(9H,m)、 7.95(111,s
)。
)。
9.20(IH,d、J=8.0Hz)、 9.50(
IH,d、J=8,0Hz)実施例12 7−(D(−)−α−(4−エチル−2,3−ジオキソ
−1−とペラシフカルボキシアミド)−α−(4−ヒド
ロキシフェニル)アセトアミドゴー3−ヨードメチル−
3−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシペンシルエ
ステル(390mg)のアセトニトリル(15ml)と
N 、 N−ジメチルホルムアミド(51)との混合溶
媒溶液に冷却下攪拌しながら酸化プロピレン(0,5m
1)を加え、次いで6−メルカプト−1,2−7ハイド
ロー2−チオキソキノリン(100mg>を加えた。混
合物を冷却下さらに29間攪拌した。
IH,d、J=8,0Hz)実施例12 7−(D(−)−α−(4−エチル−2,3−ジオキソ
−1−とペラシフカルボキシアミド)−α−(4−ヒド
ロキシフェニル)アセトアミドゴー3−ヨードメチル−
3−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシペンシルエ
ステル(390mg)のアセトニトリル(15ml)と
N 、 N−ジメチルホルムアミド(51)との混合溶
媒溶液に冷却下攪拌しながら酸化プロピレン(0,5m
1)を加え、次いで6−メルカプト−1,2−7ハイド
ロー2−チオキソキノリン(100mg>を加えた。混
合物を冷却下さらに29間攪拌した。
反応混合物を減圧濃縮し得られた残留物を酢酸エチル(
50m l )に溶解させ、飽和食塩水(50ml)に
て3回洗浄した。得られた有機相を減圧濃縮し、7−C
D(−)−α−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−
ピペラジ7カルポキシアミド)−α−(4−ヒドロキシ
フェニル)アセトアミド) −3−(1,2−シバイド
・ロー2−チオキソ−6−キラリンチオ)メチル−3−
セフェム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステ
ル(320mg)を得た。
50m l )に溶解させ、飽和食塩水(50ml)に
て3回洗浄した。得られた有機相を減圧濃縮し、7−C
D(−)−α−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−
ピペラジ7カルポキシアミド)−α−(4−ヒドロキシ
フェニル)アセトアミド) −3−(1,2−シバイド
・ロー2−チオキソ−6−キラリンチオ)メチル−3−
セフェム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステ
ル(320mg)を得た。
NMRδ pp鴫 (D M S O−d、):1
.10(3H=t)−3,30〜3.55(4H,m)
、 3.80(2H,s)。
.10(3H=t)−3,30〜3.55(4H,m)
、 3.80(2H,s)。
3.78(3H,s)= 3.85(2B、m)、 4
.50(ZHts)。
.50(ZHts)。
4.87(ill、d、J=5,0Hz)、 5.15
−5.23(311,a+)。
−5.23(311,a+)。
6.4−7.8(14H+ii)* 7.95(IH
ws)r9.20(IHtd、J=8.0Hz)t
9.50(IHtd、J=8,0llz)実施例13 ? CD()−Q−(4−エチル−2,3−124ソ
ー1−ピペラジ7カルポキシアミド)−α−(4−ヒド
ロキシフェニル)アセトアミド〕−3−(1,2−シバ
イドロー2−チオキソ−6−キツリルチオ)メチル−3
−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエス
テル(3101mg)を水冷下塩化メチレン(2鴫l)
、アニソール(600μl)に溶解し、ト1Jフルオロ
酢酸(500μm)を滴下し、0℃にて2時間撹拌した
。減圧下溶媒を留去し、得られた残留物にエーテル(3
0ml)を加え、粉末を析畠させた。
ws)r9.20(IHtd、J=8.0Hz)t
9.50(IHtd、J=8,0llz)実施例13 ? CD()−Q−(4−エチル−2,3−124ソ
ー1−ピペラジ7カルポキシアミド)−α−(4−ヒド
ロキシフェニル)アセトアミド〕−3−(1,2−シバ
イドロー2−チオキソ−6−キツリルチオ)メチル−3
−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエス
テル(3101mg)を水冷下塩化メチレン(2鴫l)
、アニソール(600μl)に溶解し、ト1Jフルオロ
酢酸(500μm)を滴下し、0℃にて2時間撹拌した
。減圧下溶媒を留去し、得られた残留物にエーテル(3
0ml)を加え、粉末を析畠させた。
これを口取乾燥後、5%炭酸水素カリウム水溶液にて中
和し、凍結乾燥により粉末を得た。これを水でセファデ
ックスLH−20を通して溶離させた。
和し、凍結乾燥により粉末を得た。これを水でセファデ
ックスLH−20を通して溶離させた。
生成物含有溶離物を集めて凍結乾燥して、カリウム7−
CD(−)−α−(4−エチル−2,3−7オキソー1
−ビペラノ7カルボキシアミド)−a−(4−ヒドロキ
シフェニル)アセトアミド)−3−(1,2−ツバイド
ロー2−チオキソ−6−キ7リルチオ)メチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレ−) (47,8+sg)を
得た。
CD(−)−α−(4−エチル−2,3−7オキソー1
−ビペラノ7カルボキシアミド)−a−(4−ヒドロキ
シフェニル)アセトアミド)−3−(1,2−ツバイド
ロー2−チオキソ−6−キ7リルチオ)メチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレ−) (47,8+sg)を
得た。
NMRδ ppm (D M S Oda):1.1
.0(3H,t)、 3.25〜3.48(2H,論)
。
.0(3H,t)、 3.25〜3.48(2H,論)
。
3.5−3.6(211,+a)、 3.80(28,
m)、 4.40(2H,s)。
m)、 4.40(2H,s)。
4.87(1,tl、d、J=5.0tlz)、 5.
20(III、m)。
20(III、m)。
6.4〜7.8(10)1.m)、 7.95(IH,
5)−9,20(IH,d、J=8.0Hz)t 9.
50(IH,d、J=8,0Hz)実施例14 7−7ミ/−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸p−メトキシベンジルエステルのp−)ルエン
スルホン酸塩(2,16g)の塩化メチレン(20■I
)FM濁溶液に水冷下、トリエチルアミン(0,4m
l )を加え攪拌する。さらにこの溶液に、2−第3級
ブトキシカルボニルメトキシイミノ−2−(2−)リチ
ルアミ/チアゾールー4−イル)酢酸(シン異性体)(
1,948g)を加え攪拌し均一溶液とした。この溶液
に水冷下で撹拌しなから1−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ール(800mg)、次いでジシクロヘキシルカルボシ
イミド(812曽g)を加えた。
5)−9,20(IH,d、J=8.0Hz)t 9.
50(IH,d、J=8,0Hz)実施例14 7−7ミ/−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸p−メトキシベンジルエステルのp−)ルエン
スルホン酸塩(2,16g)の塩化メチレン(20■I
)FM濁溶液に水冷下、トリエチルアミン(0,4m
l )を加え攪拌する。さらにこの溶液に、2−第3級
ブトキシカルボニルメトキシイミノ−2−(2−)リチ
ルアミ/チアゾールー4−イル)酢酸(シン異性体)(
1,948g)を加え攪拌し均一溶液とした。この溶液
に水冷下で撹拌しなから1−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ール(800mg)、次いでジシクロヘキシルカルボシ
イミド(812曽g)を加えた。
混合物を水冷下さらに3時間撹拌した。混合物を四遇し
そして少量の7七トンで白色固体を洗浄した0口液およ
び洗液を合わせて濃縮し溶媒を減圧留去後、残留物をク
ロロホルム−メタノール(容積比8:1)でシリカゲル
カラムを通して溶離させた。生成物含有溶離物を集め次
いで濃縮しで、7−〔2−第3級ブトキシカルボニルメ
トキシイミノ−2−(2−)リチルアミノチアゾールー
4−イル)7セトアミド〕−3−クロルメチル−3−七
7エムー4−カルボン酸p−メトキシペンシルエステル
(シン異性体>(760論g)を得た。
そして少量の7七トンで白色固体を洗浄した0口液およ
び洗液を合わせて濃縮し溶媒を減圧留去後、残留物をク
ロロホルム−メタノール(容積比8:1)でシリカゲル
カラムを通して溶離させた。生成物含有溶離物を集め次
いで濃縮しで、7−〔2−第3級ブトキシカルボニルメ
トキシイミノ−2−(2−)リチルアミノチアゾールー
4−イル)7セトアミド〕−3−クロルメチル−3−七
7エムー4−カルボン酸p−メトキシペンシルエステル
(シン異性体>(760論g)を得た。
NMRδ ppm (CD CI3):1.50(9
H,t)= 3.50(2H,s)、 3.78(3t
l、s)。
H,t)= 3.50(2H,s)、 3.78(3t
l、s)。
4.5−4.52(4Lm)、 4.87(11(、c
l、J=5.01lZ)。
l、J=5.01lZ)。
5.15〜5.23(3H,m)* 6,60(II
I、s)、7.08(4H,m)*7.25(16H,
m) 実施例15 7−〔2−第3級ブトキシカルボニルメトキシ4−イル
)アセトアミドツー3−クロロメチル−3−セフェム−
4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(シン異
性体)()SoIIg)のア七トン(50ml)溶液に
、ヨウ化カリウム(430−g)と炭酸ナトリウム(2
75mg)を加え攪拌下1時間加熱還流させた。
I、s)、7.08(4H,m)*7.25(16H,
m) 実施例15 7−〔2−第3級ブトキシカルボニルメトキシ4−イル
)アセトアミドツー3−クロロメチル−3−セフェム−
4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(シン異
性体)()SoIIg)のア七トン(50ml)溶液に
、ヨウ化カリウム(430−g)と炭酸ナトリウム(2
75mg)を加え攪拌下1時間加熱還流させた。
この混合物を室温にもどした後口遇し口演を減圧濃縮し
た後、残留物を塩化メチレン(50ml)に溶解させ、
5%千オ硫酸ナトリウム水溶wL(30鴇1)にて洗浄
した。得られた有機相を減圧濃縮し、7−〔2−第3級
ブトキシカルボニルメトキシイミノ−2−(2−)リチ
ル7ミ/チアゾールー4−イル)アセトアミド)−3−
シードメチル−3−セフェム−4−カルボン陵p−メト
キシベンジルエステル(860mg)(シン異性体)を
得た。
た後、残留物を塩化メチレン(50ml)に溶解させ、
5%千オ硫酸ナトリウム水溶wL(30鴇1)にて洗浄
した。得られた有機相を減圧濃縮し、7−〔2−第3級
ブトキシカルボニルメトキシイミノ−2−(2−)リチ
ル7ミ/チアゾールー4−イル)アセトアミド)−3−
シードメチル−3−セフェム−4−カルボン陵p−メト
キシベンジルエステル(860mg)(シン異性体)を
得た。
NMRδ pp−(CD CI3):1.50(9H
,t)、 3.50(2H,s)、 3.78(3H,
5)t4.5−4.52(4Lm)、 4.87(I
H,d、J=5,01(Z)。
,t)、 3.50(2H,s)、 3.78(3H,
5)t4.5−4.52(4Lm)、 4.87(I
H,d、J=5,01(Z)。
5.15〜5−23(3f1.m)、6.60(11−
s)e 7−08(4H,m)。
s)e 7−08(4H,m)。
7.25(16H,m)
実施例16
7−(2−43級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−
2−(2−)リチルアミノチアゾールー4−イル)アセ
トアミド〕−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸p−メトキシペンシルエステル(シン異性体)
(453mg)のアセトニトリル(15+il)とN、
N−ツメチルホルムアミド(5ml)との混合溶媒に冷
却下攪拌しながら酸化プロピレン(0,5m1)を加え
、次いで6−メルカブトー1,2−ジハイドロ−2−チ
オキンキノリン(100mg)を加えた。混合物を冷却
下さらに2時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し得ら
れた残留物を酢酸エチル(50ml)に溶解させ、飽和
食塩水(50ml)にて3回洗浄した。有機相を減圧濃
縮し1,7−(2−(2−第3級ブトキシカルボニルメ
トキシイミノ)−2−(2−)リナルアミノチ7ゾール
ー4−イル)アセトアミド) −3−(1,2−シバイ
ドロー2−チオキソ−6−キツリルチオ)メチル−3−
セフェム−4−カルボン酸p−メトキシベンノルエステ
ル(シン異性体)(270mg)を得た。
2−(2−)リチルアミノチアゾールー4−イル)アセ
トアミド〕−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸p−メトキシペンシルエステル(シン異性体)
(453mg)のアセトニトリル(15+il)とN、
N−ツメチルホルムアミド(5ml)との混合溶媒に冷
却下攪拌しながら酸化プロピレン(0,5m1)を加え
、次いで6−メルカブトー1,2−ジハイドロ−2−チ
オキンキノリン(100mg)を加えた。混合物を冷却
下さらに2時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し得ら
れた残留物を酢酸エチル(50ml)に溶解させ、飽和
食塩水(50ml)にて3回洗浄した。有機相を減圧濃
縮し1,7−(2−(2−第3級ブトキシカルボニルメ
トキシイミノ)−2−(2−)リナルアミノチ7ゾール
ー4−イル)アセトアミド) −3−(1,2−シバイ
ドロー2−チオキソ−6−キツリルチオ)メチル−3−
セフェム−4−カルボン酸p−メトキシベンノルエステ
ル(シン異性体)(270mg)を得た。
NMRδ ppm (D M S O−d6):1.
50(9)1.t)、 3.50(2)1.s)、 3
.78(311,s)。
50(9)1.t)、 3.50(2)1.s)、 3
.78(311,s)。
4.50−4.52(4H,+s)、 4.87(In
、d、J=5.0flz)。
、d、J=5.0flz)。
5.15−5.23(3H,m)、 6.25−7.8
4(25tl、+a)。
4(25tl、+a)。
11.82(IH,s)
実施例17
7−(2−(2−第3級ブトキシカルボニルメトキシイ
ミノ)−2−(2−)ジチルアミノチアゾール−4−イ
ル)アセトアミド) −3−(1,2−ツバイドロー2
−チオキソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム
−4−カルボンtIap−メトキシベンジルエステル(
シン異性体)(260mg)を31の80%酢酸水溶液
に溶解し、35〜40℃にて3時間加熱し析出白色固体
を口去、口演を凍結乾燥を行ない、得られた残渣にエー
テル(10ml>を加え析出後黄色粉末を口取乾燥し、
7−(2−(2−7ミ/チアゾール−4−イル)−2−
(2−第3級ブトキシカルボニルメトキシイミノ)アセ
トアミド〕−3−(1,2−シバイドロー2−チオキソ
−6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸p−メトキシベンノルエステル(シン異性体)(
180−g)を得た。
ミノ)−2−(2−)ジチルアミノチアゾール−4−イ
ル)アセトアミド) −3−(1,2−ツバイドロー2
−チオキソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム
−4−カルボンtIap−メトキシベンジルエステル(
シン異性体)(260mg)を31の80%酢酸水溶液
に溶解し、35〜40℃にて3時間加熱し析出白色固体
を口去、口演を凍結乾燥を行ない、得られた残渣にエー
テル(10ml>を加え析出後黄色粉末を口取乾燥し、
7−(2−(2−7ミ/チアゾール−4−イル)−2−
(2−第3級ブトキシカルボニルメトキシイミノ)アセ
トアミド〕−3−(1,2−シバイドロー2−チオキソ
−6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸p−メトキシベンノルエステル(シン異性体)(
180−g)を得た。
NMRδ ppm (D M S O−ds):1.
50(9H,t)、 3.50(28,s)、 3.7
8(3H,s)。
50(9H,t)、 3.50(28,s)、 3.7
8(3H,s)。
4.504.52(48,m)、 4.87(IH,
d、J= 5.0Hz)t5.15〜5.23(3tL
m)、s 6,25〜フ、84(14L輪)。
d、J= 5.0Hz)t5.15〜5.23(3tL
m)、s 6,25〜フ、84(14L輪)。
実施例18
?−(2−(2−7ミノチアゾールー4−イル)−2−
(2−第3級ブトキシカルボニルメトキシイミノ)アセ
トアミド) −3−(1,2−ツバイドロー2−チオキ
ソ−6−キツリルチオ)メチル−3−七7エムー4−カ
ルボン酸p−メトキシベンジルエステル(シン異性体)
(180mg)を水冷下塩化メチレン(21)、アニソ
ール(600μm)に溶解し、トリフルオロ酢酸(1m
l)を滴下し、0℃にて、6時間攪拌した。減圧にて溶
媒を留去し、得られた残留物にエーテル(30ml)を
加え粉末を析出させて、これを口取した後、5%炭酸水
素カリウム水溶液にて中和し、凍結乾燥により粉末を得
た。これと水でセファデックスLH−20を通して溶離
させた。
(2−第3級ブトキシカルボニルメトキシイミノ)アセ
トアミド) −3−(1,2−ツバイドロー2−チオキ
ソ−6−キツリルチオ)メチル−3−七7エムー4−カ
ルボン酸p−メトキシベンジルエステル(シン異性体)
(180mg)を水冷下塩化メチレン(21)、アニソ
ール(600μm)に溶解し、トリフルオロ酢酸(1m
l)を滴下し、0℃にて、6時間攪拌した。減圧にて溶
媒を留去し、得られた残留物にエーテル(30ml)を
加え粉末を析出させて、これを口取した後、5%炭酸水
素カリウム水溶液にて中和し、凍結乾燥により粉末を得
た。これと水でセファデックスLH−20を通して溶離
させた。
I+rlklJp−蝉一−*%!m5レー1メ>MLk
hfンWaSし’L%+F!j六リウム7−(2−(2
−7ミノチアゾールー4−イル)−2−(アセテートオ
キシイミ/)アセトアミド) −3−(1,2−シバイ
ドロー2−チオキソ−6−キツリルチオ)メチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)(30
,3論g)を得た。
hfンWaSし’L%+F!j六リウム7−(2−(2
−7ミノチアゾールー4−イル)−2−(アセテートオ
キシイミ/)アセトアミド) −3−(1,2−シバイ
ドロー2−チオキソ−6−キツリルチオ)メチル−3−
セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)(30
,3論g)を得た。
NMRl ppm (DMSO−d6G3.50(
2H,s)、 4.42(28,a)、 4.52(2
8,s)。
2H,s)、 4.42(28,a)、 4.52(2
8,s)。
4.87(IH,d、J=5.0tlz)、 5.75
−6.10(IH,m)−6,60(IH,s)、 6
.65(2H,m)、 7.03(211,5)=7.
65(ltl、d)、 7.85(31(、m)−9,
25(IH,d、J=8.01lz)、 11.82(
III、s)実施例19 7−7ミノー3−クロロメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸p−メトキシベンジルエステルのp−)ルエン
スルホン酸塩(788mg)の塩化メチレン(20ml
)懸濁溶液に水冷却下、トリチルアミン(2ml)を加
え撹拌する。さらにこの溶液に3−(4−ビリノニル)
’−2−(2−)リチルアミノチ7ゾールー4−イル)
プロペノン酸(710mg)(Z−異性体)を加え撹拌
し均一溶液とした。この溶液に水冷下で撹拌しながら、
1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(290mg)、次
いでシクロヘキシルカルボジイミド(300mg)を加
える。混合物を水冷下さらに3時間撹拌した。混合物を
口過し、そして白色固体を少量のア七トンで洗浄した。
−6.10(IH,m)−6,60(IH,s)、 6
.65(2H,m)、 7.03(211,5)=7.
65(ltl、d)、 7.85(31(、m)−9,
25(IH,d、J=8.01lz)、 11.82(
III、s)実施例19 7−7ミノー3−クロロメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸p−メトキシベンジルエステルのp−)ルエン
スルホン酸塩(788mg)の塩化メチレン(20ml
)懸濁溶液に水冷却下、トリチルアミン(2ml)を加
え撹拌する。さらにこの溶液に3−(4−ビリノニル)
’−2−(2−)リチルアミノチ7ゾールー4−イル)
プロペノン酸(710mg)(Z−異性体)を加え撹拌
し均一溶液とした。この溶液に水冷下で撹拌しながら、
1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(290mg)、次
いでシクロヘキシルカルボジイミド(300mg)を加
える。混合物を水冷下さらに3時間撹拌した。混合物を
口過し、そして白色固体を少量のア七トンで洗浄した。
溶液および洗液を合わせて濃縮し溶媒を減圧留去後、残
留物をクロロホルム−メタノール(容積比8:1)でシ
リカゾルカラムを通して溶離させた。生成物含有浴R物
を集めて次いで乾燥して、7−(2−(4−ピリジニル
メチリデン)−2−(2−)リチル7ミノチ7ゾールー
4−イル)アセトアミドツー3−クロロメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル
(Z −51体)(360mg)を得た。
留物をクロロホルム−メタノール(容積比8:1)でシ
リカゾルカラムを通して溶離させた。生成物含有浴R物
を集めて次いで乾燥して、7−(2−(4−ピリジニル
メチリデン)−2−(2−)リチル7ミノチ7ゾールー
4−イル)アセトアミドツー3−クロロメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル
(Z −51体)(360mg)を得た。
NMRδ ppm (CD CI3):3.50(2
Hts)、 3.75(31,s)t 4,45(2H
,d)。
Hts)、 3.75(31,s)t 4,45(2H
,d)。
5.15(2Hts)、 5.50(IH,m)、 5
.6−5.75(IH,m)−8,60(111,s)
、 6.9(2H,d、J=7.5Hz)。
.6−5.75(IH,m)−8,60(111,s)
、 6.9(2H,d、J=7.5Hz)。
7.25(16H,s)、 8.2(2H,d、J=
7.5Hz)実施例20 7−(2−(4−ビリノニルメチリデン)−2−(2−
トリチルアミノチアゾール−4−イル)7セトアミド〕
−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カルボンtl
tp−メトキシベンジルエステル(Z−異性体)(35
0mg)のア七トン(50a+I)溶液にヨウ化ナトリ
ウム(93B)と炭酸ナトリウム(59mg)とを加え
攪拌下1時間加熱還流させた。この混合物九安但 14
Jl/I hす飢 −S’A ! M N
嘗 も4亡「ご遺自シ 14 手負残留物を塩化メチレ
ン(50ml )に溶解させた後、5%チオ硫酸ナトリ
ウム水溶液(30ml)にて洗浄し得られた有機相を減
圧濃縮して、?−〔2−(4−ピリジニルメチリデン)
−2−(2−)リチルアミノチアゾールー4−イル)ア
セトアミドゴー3−ヨードメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸p−メトキシペンシルエステル(2−異性体
)(220mg)を得た。
7.5Hz)実施例20 7−(2−(4−ビリノニルメチリデン)−2−(2−
トリチルアミノチアゾール−4−イル)7セトアミド〕
−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カルボンtl
tp−メトキシベンジルエステル(Z−異性体)(35
0mg)のア七トン(50a+I)溶液にヨウ化ナトリ
ウム(93B)と炭酸ナトリウム(59mg)とを加え
攪拌下1時間加熱還流させた。この混合物九安但 14
Jl/I hす飢 −S’A ! M N
嘗 も4亡「ご遺自シ 14 手負残留物を塩化メチレ
ン(50ml )に溶解させた後、5%チオ硫酸ナトリ
ウム水溶液(30ml)にて洗浄し得られた有機相を減
圧濃縮して、?−〔2−(4−ピリジニルメチリデン)
−2−(2−)リチルアミノチアゾールー4−イル)ア
セトアミドゴー3−ヨードメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸p−メトキシペンシルエステル(2−異性体
)(220mg)を得た。
NMRδ pp■ (CD CI3):3.50(2H
ts)t 3,75(3H,s)y 4,45(2H,
s)。
ts)t 3,75(3H,s)y 4,45(2H,
s)。
5.15(2H,s)、 5.50(IHrw)t 、
5.6〜5.75(18,m)。
5.6〜5.75(18,m)。
6.60(tuts)、 6.9(ZH,d、J−7,
5tlz)。
5tlz)。
7.25(16H=s)−8,2(2H−dJ=7.5
Hz)実施例21 7−(2−(4−ピリジニルメチリデン)−2−(2−
トリチルアミ7チアゾールー4−イル)アセトアミド〕
−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボン酸p
−戸トキシペンシルエステル(Z−異性体)(210m
g)のアセトニトリル(15ml)とN、N−ツメチル
ホルムアミド(51)との混合溶媒溶液に冷却下攪拌し
ながら酸化プロピレン(0,51)を加え、次いで6−
メルカブトー1,2−シバイドロー2−オキソキノリン
(89mg)を加えた。混合物を冷却下さらに2時間撹
拌した。反応混合物を減圧濃縮して得られた残留物を酢
酸エチル(50m l )に溶解させ、飽和食塩水(5
0ml)にて3回洗浄した。
Hz)実施例21 7−(2−(4−ピリジニルメチリデン)−2−(2−
トリチルアミ7チアゾールー4−イル)アセトアミド〕
−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボン酸p
−戸トキシペンシルエステル(Z−異性体)(210m
g)のアセトニトリル(15ml)とN、N−ツメチル
ホルムアミド(51)との混合溶媒溶液に冷却下攪拌し
ながら酸化プロピレン(0,51)を加え、次いで6−
メルカブトー1,2−シバイドロー2−オキソキノリン
(89mg)を加えた。混合物を冷却下さらに2時間撹
拌した。反応混合物を減圧濃縮して得られた残留物を酢
酸エチル(50m l )に溶解させ、飽和食塩水(5
0ml)にて3回洗浄した。
有機相を減圧濃縮し、?−(2−(4−ピリジニルメチ
・リデン)−2−(2,−)リチルアミノチアゾールー
4−イル)アセトアミド) −3−(1,2−クハイド
ロー2−オキソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸p−メトキシベンノルエステル(
Z−異性体)(120mg)を得た。
・リデン)−2−(2,−)リチルアミノチアゾールー
4−イル)アセトアミド) −3−(1,2−クハイド
ロー2−オキソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸p−メトキシベンノルエステル(
Z−異性体)(120mg)を得た。
N M RI ppm (D M S 0−
ds)−3,50(2H,s)、 3.75(311
,s)、 4.45(2H,s)。
ds)−3,50(2H,s)、 3.75(311
,s)、 4.45(2H,s)。
5.15(2H,s)、 5.50(IH,m)、 5
.6−5.75(IH,+++)=6.60(IHts
)、 6.9(2H,d、J=7.511z)。
.6−5.75(IH,+++)=6.60(IHts
)、 6.9(2H,d、J=7.511z)。
7.0−7.5(18H,m)、 7.65(11,s
)、 7.85(IH,s)8.2(2HtdtJ=7
.5Hz)t 9,4(IH,d、J=8.011z)
実施例22 7−(2−(4−ビリノニルメチリデン)−2−(2−
トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)
−3−(1,2−シバイドロー2−オキソ−6−キツ
リルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−
メトキシベンノルエステル(2−異性体)(110mg
)を3mlの80%酢酸水溶液に溶解し、35〜40℃
に加熱撹拌3時間後、析出白色固体を口去し口演の凍結
乾燥を行ない、得られた残渣にエーテル(10ml)を
加えて、析出する黄色粉末を凍結乾燥し?−(2−(2
−7ミノチアゾールー4−イル)−2−(4−ピリジニ
ルメチリデン)アセトアミド) −3−(1,2−ツバ
イドロー2−オキソ−6−キツリルチオ)メチル−3−
セフェム−4−カルボン酸p−メトキシペンシルエステ
ル(Z−異性体)(70mg)を得た。
)、 7.85(IH,s)8.2(2HtdtJ=7
.5Hz)t 9,4(IH,d、J=8.011z)
実施例22 7−(2−(4−ビリノニルメチリデン)−2−(2−
トリチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)
−3−(1,2−シバイドロー2−オキソ−6−キツ
リルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−
メトキシベンノルエステル(2−異性体)(110mg
)を3mlの80%酢酸水溶液に溶解し、35〜40℃
に加熱撹拌3時間後、析出白色固体を口去し口演の凍結
乾燥を行ない、得られた残渣にエーテル(10ml)を
加えて、析出する黄色粉末を凍結乾燥し?−(2−(2
−7ミノチアゾールー4−イル)−2−(4−ピリジニ
ルメチリデン)アセトアミド) −3−(1,2−ツバ
イドロー2−オキソ−6−キツリルチオ)メチル−3−
セフェム−4−カルボン酸p−メトキシペンシルエステ
ル(Z−異性体)(70mg)を得た。
NMRδ ppm (D M S O−ds)3.5
0(2H,s)、 3.75(3H,s)、 4.45
(28,s)。
0(2H,s)、 3.75(3H,s)、 4.45
(28,s)。
5.15(2■@s)* 5.50(IHIs)* s
、a〜5.75(ltlya)。
、a〜5.75(ltlya)。
6.60(IH,s)、 6.9(2H−d*J=7.
5Hz)t7.03(211,s)、 7.85(18
,8)? 8.2(211,d、J=7.5Hz)。
5Hz)t7.03(211,s)、 7.85(18
,8)? 8.2(211,d、J=7.5Hz)。
9.4(IH,d、J=8,0Hz)
実施例23
7−(2−(2−7ミノチアゾールー4−イル)−2−
(4−ピリジニルメチリデン)アセトアミド〕−3−(
1,2−シバイドロー2−オキソ−6−キメリルチオ)
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシベ
ンジルエステル(Z−異性体)(65mg)を氷冷下塩
化メチレン(2ml)、アニソール(800μm)に溶
解し、トIJフルオロ酢酸(500μm)を滴下し、0
℃にて2時間反応させる。減圧にて溶媒を留去し得られ
た残留物にエーテル(30m l )を加え、粉末を析
出させる。これを口取した後、5%炭酸水素カリウム水
溶液にて中和し、凍結乾燥して黄色粉末を得た。これを
水でセファデックスLH−20を通して溶離させた。生
成物含有溶離物を集めて凍結乾燥して、カリウム7−(
2−(2−7ミノチアゾールー4−イル)−2−(4−
ピリジニルメチリデン)アセトアミド)−3−(1,2
−ツバイドロー2−オキソ−6−キツリルチオ)メチル
−3−セフェム−4−カルボキシレート(Z−異性体)
(23mg)を得た。
(4−ピリジニルメチリデン)アセトアミド〕−3−(
1,2−シバイドロー2−オキソ−6−キメリルチオ)
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシベ
ンジルエステル(Z−異性体)(65mg)を氷冷下塩
化メチレン(2ml)、アニソール(800μm)に溶
解し、トIJフルオロ酢酸(500μm)を滴下し、0
℃にて2時間反応させる。減圧にて溶媒を留去し得られ
た残留物にエーテル(30m l )を加え、粉末を析
出させる。これを口取した後、5%炭酸水素カリウム水
溶液にて中和し、凍結乾燥して黄色粉末を得た。これを
水でセファデックスLH−20を通して溶離させた。生
成物含有溶離物を集めて凍結乾燥して、カリウム7−(
2−(2−7ミノチアゾールー4−イル)−2−(4−
ピリジニルメチリデン)アセトアミド)−3−(1,2
−ツバイドロー2−オキソ−6−キツリルチオ)メチル
−3−セフェム−4−カルボキシレート(Z−異性体)
(23mg)を得た。
NMRδ ppm (D M S O−d、)3.5
0(211=s)、4.45(2tl、s)−5,50
(IHwm)t5.6−5.75(ILIl+)、
6.60(IH,5)−6,9(21,d、J=7.5
tlz)、 7.03(2H,s)−7,85([1,
s)。
0(211=s)、4.45(2tl、s)−5,50
(IHwm)t5.6−5.75(ILIl+)、
6.60(IH,5)−6,9(21,d、J=7.5
tlz)、 7.03(2H,s)−7,85([1,
s)。
8.2(21(、d、J=7.5Hz)、 9.40(
II(、d、J=8.QIIz)実施例24 実施例14に準じ、7−アミノ−3−クロロメチル−3
−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシベンノルエス
テルのp−トルエンスルホン酸塩(2,63g)と2−
第3級ブトキシカルボニルプロパ7キシイミノー2−(
2−)リチルアミ/チアゾールー4−イル)酢酸(シン
異性体)(2,78g)とから、7−C2−<2−第3
級ブトキシカルボニルプロパノキシイミノ)−2−(2
−)ジチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド
ツー3−クロロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
p−メトキシベンジルエステル(1,97g)を得た。
II(、d、J=8.QIIz)実施例24 実施例14に準じ、7−アミノ−3−クロロメチル−3
−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシベンノルエス
テルのp−トルエンスルホン酸塩(2,63g)と2−
第3級ブトキシカルボニルプロパ7キシイミノー2−(
2−)リチルアミ/チアゾールー4−イル)酢酸(シン
異性体)(2,78g)とから、7−C2−<2−第3
級ブトキシカルボニルプロパノキシイミノ)−2−(2
−)ジチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド
ツー3−クロロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
p−メトキシベンジルエステル(1,97g)を得た。
NMRδ ppm (CD CI3):1.40(9
1(、s)、 1.58(311,s)、 1.63(
3)1.s)。
1(、s)、 1.58(311,s)、 1.63(
3)1.s)。
3.49(2H*q)t 3.79(3Hts)t 4
.43(211,m)。
.43(211,m)。
4.97(ill、a)、 5.19(21(、s)、
5.93(1,LqL6.70(1B、s)、 7.
07(4H2q)、 7.26(158,s)。
5.93(1,LqL6.70(1B、s)、 7.
07(4H2q)、 7.26(158,s)。
8.07(IH,d、J= 8.0Hz)実施例25
実施例15に準じて、?−(2−(2−第3級ブトキシ
カルボニルプロパノキシイミノ)−2−(2−トリチル
アミ/チアゾール−4−イル)アセト7ミ)’)−3−
クロロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−メト
キシベンノルエステル(シン異性体)(1,95g)と
ヨウ化゛カリフム(458B)とから7−(2−(2−
第3級ブトキシカルボニルプロパ7オシイミノ)−2−
(2−)ジチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸p−メトキシペンシルエステル(シン異性体)(1
,90g)ヲ得た。
カルボニルプロパノキシイミノ)−2−(2−トリチル
アミ/チアゾール−4−イル)アセト7ミ)’)−3−
クロロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−メト
キシベンノルエステル(シン異性体)(1,95g)と
ヨウ化゛カリフム(458B)とから7−(2−(2−
第3級ブトキシカルボニルプロパ7オシイミノ)−2−
(2−)ジチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸p−メトキシペンシルエステル(シン異性体)(1
,90g)ヲ得た。
NMRδ ppml (CD CIt):1.40(
911,s)、1.58(38,s)= 1.62(3
■、S)。
911,s)、1.58(38,s)= 1.62(3
■、S)。
3.53(2■*Q)y 3,79(3Hts)y 4
,33(2H*S)*4.94(II、m)、 5.1
8(2Hts)、 5.85(IH*Q)*8.68(
1B、s)、 7.09(4H−q)+ 7.26(1
5R,s)。
,33(2H*S)*4.94(II、m)、 5.1
8(2Hts)、 5.85(IH*Q)*8.68(
1B、s)、 7.09(4H−q)+ 7.26(1
5R,s)。
8.07(IH,d、J=8,01lz)実施例26
実施例16に準じて、7−(2−(2−fjS3級ブト
キシカルボニルプロパノキシイミノ)−2−(2−トリ
チルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)−3
−E−トメチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−メ
トキシベンジルエステル(シン異性体)(730mg)
と6−メルカブトー1,2−ツノ)イドロー2−チオキ
ソキノリン(165+eg)とから、?−(2−(2−
第3級ブトキシカルボニルプロパノキシイミノ)−2−
(2−)ジチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド) −3−(1,2−シバイドロー2−チオキソ−
6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸p−メトキシベンジルエステル(シン異性体)(5
7011g)を得た。
キシカルボニルプロパノキシイミノ)−2−(2−トリ
チルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)−3
−E−トメチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−メ
トキシベンジルエステル(シン異性体)(730mg)
と6−メルカブトー1,2−ツノ)イドロー2−チオキ
ソキノリン(165+eg)とから、?−(2−(2−
第3級ブトキシカルボニルプロパノキシイミノ)−2−
(2−)ジチルアミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド) −3−(1,2−シバイドロー2−チオキソ−
6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸p−メトキシベンジルエステル(シン異性体)(5
7011g)を得た。
NMRδ ppm (D M S Ods):1.3
3(9H,s)、 1.57(6LsL 3.60(2
)1.s)。
3(9H,s)、 1.57(6LsL 3.60(2
)1.s)。
3.78(38,8)、 4.49(2H,Q)、 4
.87(11(、d、J=5H2)。
.87(11(、d、J=5H2)。
5.23(2Ls)−5,84(IH1慟L 6,73
(11(、s)。
(11(、s)。
7.08(411,q)、 7.16(1511,s
)、 6.25−7.84(71T、m)。
)、 6.25−7.84(71T、m)。
8.13(fH,d、J=8,0Hz)実施例27
CI(。
実施例17及び18に準じて、?−(2−(2−第3級
ブトキシカルボニルプロパノキシイミノ)−2−(2−
)リチルチアゾールー4−イル)7セトアミド) −3
−(1,2−シバイドロー2−チオキソ−6−キメリル
チオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−メト
キシベンノルエステル(シン異性体)(570II1g
)からジカリウム?−(:2−(2−7ミノチアゾール
ー4−イル)−2−(2,2−ジメチルアセテートオキ
シイミノ)7セト7ミド〕−3−(1,2−シバイドロ
ー2−チオキソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート(シン異性体)(98,6
mg)を得た。
ブトキシカルボニルプロパノキシイミノ)−2−(2−
)リチルチアゾールー4−イル)7セトアミド) −3
−(1,2−シバイドロー2−チオキソ−6−キメリル
チオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−メト
キシベンノルエステル(シン異性体)(570II1g
)からジカリウム?−(:2−(2−7ミノチアゾール
ー4−イル)−2−(2,2−ジメチルアセテートオキ
シイミノ)7セト7ミド〕−3−(1,2−シバイドロ
ー2−チオキソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート(シン異性体)(98,6
mg)を得た。
NMRδ ppm (D M S Ods):1.3
9(31Ls)、 1.43(311,s)、 3.6
4(21Ls)。
9(31Ls)、 1.43(311,s)、 3.6
4(21Ls)。
4.42(2H,q)、 4.49(IH,d、J==
5,0Hz)、 5.5(IH,呵。
5,0Hz)、 5.5(IH,呵。
6.68(III、s)、 7.03(211,s)、
7゜08(IH,s)。
7゜08(IH,s)。
7.38(211,Q)? 7.57(28,Q)。
11.56(IH,d、J=8.0Hz)、11.82
(111,m)実施例28 実施例16に準じて、7−〔2−第3級ブトキシカルボ
ニルメトキシイミノ−2−(2−)ジチルアミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミドツー3−ヨードメチル−
3−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシペンシルエ
ステル(シン異性体)(932III&)と6−メルカ
ブトー1,2−ツバイドロー2−才キツキ7リン(29
0慴g)とから、7−(2−(2−第3級ブトキシカル
ボニルメトキシイミノ)−2−(2−)ジチルアミノチ
アゾール−4−イル)7セトアミド) −3−(1,2
−ツバイドロー2−オキソ−6−キツリルチオ)メチル
−3−セフェム−4−カルボン酸p−メトキンベンジル
エステル(シン異性体)(50mg)を得た。
(111,m)実施例28 実施例16に準じて、7−〔2−第3級ブトキシカルボ
ニルメトキシイミノ−2−(2−)ジチルアミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミドツー3−ヨードメチル−
3−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシペンシルエ
ステル(シン異性体)(932III&)と6−メルカ
ブトー1,2−ツバイドロー2−才キツキ7リン(29
0慴g)とから、7−(2−(2−第3級ブトキシカル
ボニルメトキシイミノ)−2−(2−)ジチルアミノチ
アゾール−4−イル)7セトアミド) −3−(1,2
−ツバイドロー2−オキソ−6−キツリルチオ)メチル
−3−セフェム−4−カルボン酸p−メトキンベンジル
エステル(シン異性体)(50mg)を得た。
NMRδ ppm (D M S O−ds):
1.50(9)1.t)、 3.50(2H,s)、
3.78(3H,5)t4、5−4.52(4■tm)
t 4,87(1,Fl、d、J=5.0Hz)。
1.50(9)1.t)、 3.50(2H,s)、
3.78(3H,5)t4、5−4.52(4■tm)
t 4,87(1,Fl、d、J=5.0Hz)。
5.15〜5.23(3H,m)、6.25〜7.84
(25H,w+)。
(25H,w+)。
8.08(1)1.s)、 11.82(IH,s)実
施例2,9 実施例17及び18に準じて、7−(2−(2−第3級
ブトキシカルボニルメトキシイミノ ) −2−(2−
トリチルチアゾール−4−イル)アセトアミド) −3
−(1,2−シバイドロー2−才キソー6−キツリルチ
オ)メチル−3−セフェム−4−カルボン1llp−メ
トキシベンノルエステル(シン異性体)(90mg)か
ら、ジカリウム7−(2−(2−7ミノチアゾールー4
−イル)−2−(アセテートオキシイミノ)アセトアミ
ド) −3−(1,2−シバイドロ−2−オキソ−6−
キメリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシ
レート(シン異性体)(22B)を得た。
施例2,9 実施例17及び18に準じて、7−(2−(2−第3級
ブトキシカルボニルメトキシイミノ ) −2−(2−
トリチルチアゾール−4−イル)アセトアミド) −3
−(1,2−シバイドロー2−才キソー6−キツリルチ
オ)メチル−3−セフェム−4−カルボン1llp−メ
トキシベンノルエステル(シン異性体)(90mg)か
ら、ジカリウム7−(2−(2−7ミノチアゾールー4
−イル)−2−(アセテートオキシイミノ)アセトアミ
ド) −3−(1,2−シバイドロ−2−オキソ−6−
キメリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシ
レート(シン異性体)(22B)を得た。
NMRδ ppm (D M S Oda):3.5
0(2H,s)、 4.50(211,m)、 4
.52(211,s)。
0(2H,s)、 4.50(211,m)、 4
.52(211,s)。
4.60(2)1.dtJ=5.0Hz)、 5.75
−6.10(iff、a+)+6.80(ltl、s)
、 6.65(211,n)、 7.65(IH,m)
?7.85(3)1.1)、 8.08(IH,S)。
−6.10(iff、a+)+6.80(ltl、s)
、 6.65(211,n)、 7.65(IH,m)
?7.85(3)1.1)、 8.08(IH,S)。
9.25(IHtdtJ=8.0Flz)、 11.8
2(III、s)実施例30 実施例12に準じて、?−(D(−)−α−(4−エチ
ル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ7カルポキシアミ
ド)−α−(4−ヒドロキシフェニル)アセトアミド〕
−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボン酸p
−メトキシベンノルエステル(シン異性体)(930m
g)と6−メルカブトー1,2−ツバイドロー2−オキ
ソキノリン(347mg)とから、7−CD(−)−α
−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ7カ
ルポキシアミド)−α−(4−ヒドロキシフェニル)ア
セトアミド) −3−(1,2−シバイドロー2−オキ
ソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸p−メトキシベンノルエステル(320mg)
を得た。
2(III、s)実施例30 実施例12に準じて、?−(D(−)−α−(4−エチ
ル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ7カルポキシアミ
ド)−α−(4−ヒドロキシフェニル)アセトアミド〕
−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボン酸p
−メトキシベンノルエステル(シン異性体)(930m
g)と6−メルカブトー1,2−ツバイドロー2−オキ
ソキノリン(347mg)とから、7−CD(−)−α
−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ7カ
ルポキシアミド)−α−(4−ヒドロキシフェニル)ア
セトアミド) −3−(1,2−シバイドロー2−オキ
ソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸p−メトキシベンノルエステル(320mg)
を得た。
N M Rl ppa+ (D M S Oda)
:1.10(311,t)、 3.30〜3.55(4
Htm)t・3.60(2)1.s)。
:1.10(311,t)、 3.30〜3.55(4
Htm)t・3.60(2)1.s)。
:11.08(3H,s)、 3.85(211,m
)、 4.65(2Hvs)+5.15(2H−s)
−5,20−5,30(2H,n)。
)、 4.65(2Hvs)+5.15(2H−s)
−5,20−5,30(2H,n)。
6.4−7.8(14H,11)、 7.95(Il
l、s)。
l、s)。
9.20(1)1.d、J=8.0)!z)、 9.5
0(1)1.d、J=8.0)lz)実施例31 実施例13に準じて、7−CD(−)−α−(4−エチ
ル−2,3−)オキソ−1−ピペラジ7カルポキシアミ
ド)−ff−(4−ヒドロキシフェニル)アセトアミド
) −3−(1,2−シバイドロー2−オキソ−6−キ
ツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸ρ
−メトキシベンノルエステル(168mg)からカリウ
ム7−CD(−)−α−(4−エチル−2,3−ジオキ
ソ−1−ピペラジノカルボキシアミド)−α−(4−ヒ
ドロキシフェニル)アセトアミド) −3−、(1,2
−シバイドロー2−オキソ−6−J+7リルチオ)メチ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
)(95mg)を得た。
0(1)1.d、J=8.0)lz)実施例31 実施例13に準じて、7−CD(−)−α−(4−エチ
ル−2,3−)オキソ−1−ピペラジ7カルポキシアミ
ド)−ff−(4−ヒドロキシフェニル)アセトアミド
) −3−(1,2−シバイドロー2−オキソ−6−キ
ツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸ρ
−メトキシベンノルエステル(168mg)からカリウ
ム7−CD(−)−α−(4−エチル−2,3−ジオキ
ソ−1−ピペラジノカルボキシアミド)−α−(4−ヒ
ドロキシフェニル)アセトアミド) −3−、(1,2
−シバイドロー2−オキソ−6−J+7リルチオ)メチ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
)(95mg)を得た。
NMRδ ppm (D M S Ocls):1.
10(3H,t)、 3.5〜3.75(211,徨)
。
10(3H,t)、 3.5〜3.75(211,徨)
。
3.9−4.10(28,m)、 4.65(2H,5
)−4,87(111,d、J=5.0Hz)、 5.
30(IH,曽)。
)−4,87(111,d、J=5.0Hz)、 5.
30(IH,曽)。
6.4−7.8(1011,m)、 7.95(IO,
s)、 8.08(1t1.5)−9,20(IH,d
、J=8.0Hz)、9.50(IH,d、J=8.0
Hz)実施例32 実施°例3に準じて、7−(2−メトキシイミノ−2−
(2−)リチルアミノチアゾールー4−イル)アセトア
ミド〕−3−シードメチル、−3−セフェム−4−カル
ボンl!!lp−メトキシベンクルエステル(シン異性
体)(580mg)と6−メルカブトー19−び1、ノ
l/!−1−リー、f−φ駐り也″ノ1し、 /IQ/
I−1とから7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−)
リチルアミノチアゾールー4−イル)アセトアミド)
−3−(1,2−ツバイドロー2−チオキソ−6−キツ
リルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−
ノドキシベンノルエステル(シン異性体)(470mg
)を得た。
s)、 8.08(1t1.5)−9,20(IH,d
、J=8.0Hz)、9.50(IH,d、J=8.0
Hz)実施例32 実施°例3に準じて、7−(2−メトキシイミノ−2−
(2−)リチルアミノチアゾールー4−イル)アセトア
ミド〕−3−シードメチル、−3−セフェム−4−カル
ボンl!!lp−メトキシベンクルエステル(シン異性
体)(580mg)と6−メルカブトー19−び1、ノ
l/!−1−リー、f−φ駐り也″ノ1し、 /IQ/
I−1とから7−〔2−メトキシイミノ−2−(2−)
リチルアミノチアゾールー4−イル)アセトアミド)
−3−(1,2−ツバイドロー2−チオキソ−6−キツ
リルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−
ノドキシベンノルエステル(シン異性体)(470mg
)を得た。
NMRδ ppm (CD C+3):3.76(3
11,s)、 3.95(311,s)、 4.9(I
H,d、J=611z)。
11,s)、 3.95(311,s)、 4.9(I
H,d、J=611z)。
5.21(2H,brs)、 5.80(IH,m)、
8.7(18,s)。
8.7(18,s)。
6.75〜7.75(24H,鹸)
実施例33
実施例4及び5に準じて、7−〔2−メトキシイミノ−
2−(2−)リチルアミノチアゾールー4−イル)アセ
トアミド) −3−(1,2−ジハイドロー2−チオキ
ソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸p−メトキシベンノルエステル(シン異性体)
(470mg)を脱保護基することにより、カリウム7
−(2−(2−7ミノチアゾールー4−イル)−2−メ
トキシイミノアセトアミド)−3−(1,2−シバイド
ロー2−チオキソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート(シン異性体)(40m
g)を得た。
2−(2−)リチルアミノチアゾールー4−イル)アセ
トアミド) −3−(1,2−ジハイドロー2−チオキ
ソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸p−メトキシベンノルエステル(シン異性体)
(470mg)を脱保護基することにより、カリウム7
−(2−(2−7ミノチアゾールー4−イル)−2−メ
トキシイミノアセトアミド)−3−(1,2−シバイド
ロー2−チオキソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート(シン異性体)(40m
g)を得た。
NMRδ ppm (DMS〇−d6):3.80(
311,s)、 4.85(ill、d、J=41!z
)、 5.45(1B、m)。
311,s)、 4.85(ill、d、J=41!z
)、 5.45(1B、m)。
6.67(III、s)、6.75−8.0(711,
m)。
m)。
9.45(Ill、d、J=8Hz)
実施例34
実施例3に準じて、?−(2=(2−プロピニルオキシ
イミ/)−2−(2−)ジチルアミ/チアゾール−4−
イル)アセトアミドゴー3−ヨードメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(シ
ン異性体)(700+ag)と6−メルカブトー1.2
−シバイドロー2−チオキソキノリン(230mg)と
から、7−(2−(2−プロビニルオキシイミ/)−2
−(2−)リチルアミノチアゾールー4−イル)アセト
アミド) −3−(1,2−シバイドロー2−チオキソ
−6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸p−メトキシベンジルエステル(シン異性体)(
−590a+g)を得た。
イミ/)−2−(2−)ジチルアミ/チアゾール−4−
イル)アセトアミドゴー3−ヨードメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(シ
ン異性体)(700+ag)と6−メルカブトー1.2
−シバイドロー2−チオキソキノリン(230mg)と
から、7−(2−(2−プロビニルオキシイミ/)−2
−(2−)リチルアミノチアゾールー4−イル)アセト
アミド) −3−(1,2−シバイドロー2−チオキソ
−6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸p−メトキシベンジルエステル(シン異性体)(
−590a+g)を得た。
NMRδ ppm (CD CL):2.35(IH
,m)、 3.76(3H,s)、 4.75(2H,
brs)t4.90(IHtd、J=6Hz)、 5.
2(2H,brs)t 5,75(ill、Iff)。
,m)、 3.76(3H,s)、 4.75(2H,
brs)t4.90(IHtd、J=6Hz)、 5.
2(2H,brs)t 5,75(ill、Iff)。
6.72(ltl、s)、 6.73〜7.75(24
11,m)実施例35 実施例5及び6に準じて7−〔2−プロピニルオキシイ
ミノ−2−(2−)ジチルアミ/チアゾール−4−イル
)アセトアミド) −3−(1,2−クハイドロー2−
チオキソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−
4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(シン異
性体)(590mg)を脱保護基することによって、カ
リウム7−(2−(2−7ミノチアゾールー4−イル)
−2−プロピニルオキシイミノアセトアミド)−3−(
1,2−ツバイド゛ロー2−チオキソ−6−キツリルチ
オ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート(シ
ン異性体)(45mg)を得た。
11,m)実施例35 実施例5及び6に準じて7−〔2−プロピニルオキシイ
ミノ−2−(2−)ジチルアミ/チアゾール−4−イル
)アセトアミド) −3−(1,2−クハイドロー2−
チオキソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−
4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(シン異
性体)(590mg)を脱保護基することによって、カ
リウム7−(2−(2−7ミノチアゾールー4−イル)
−2−プロピニルオキシイミノアセトアミド)−3−(
1,2−ツバイド゛ロー2−チオキソ−6−キツリルチ
オ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート(シ
ン異性体)(45mg)を得た。
NMRδ ppm+ (D M S Oda):4.
60(2H,brd)、 4.85(ill、d、J=
511z)。
60(2H,brd)、 4.85(ill、d、J=
511z)。
e j!/III −X Q +!八へ1u
−X Q O:、0 へtツ電+j8.45(I
II、d、J=8,01lz)実施例36 実施例6に準じで、6−メルカプ)−1,2−シバイド
ロー2−オキソキノリン(300ag)と、7−〔2−
メトキシイミノ−2−(2−)リチルアミノチアゾール
ー4−イル〕アセトアミド〕−3−ヨードメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸p−メトキシペンシルエステ
ル(シン異性体)(1,0g)とから、7−〔2−メト
キシイミノ−2−(2−トリチルアミ/チアゾール−4
−イル)アセトアミド) −3−(1,2−シバイドロ
ー2−オキソ−6−キ/リルチオ)メチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンノルエステル(シ
ン異性体)(1,Olg)を得た。
−X Q O:、0 へtツ電+j8.45(I
II、d、J=8,01lz)実施例36 実施例6に準じで、6−メルカプ)−1,2−シバイド
ロー2−オキソキノリン(300ag)と、7−〔2−
メトキシイミノ−2−(2−)リチルアミノチアゾール
ー4−イル〕アセトアミド〕−3−ヨードメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸p−メトキシペンシルエステ
ル(シン異性体)(1,0g)とから、7−〔2−メト
キシイミノ−2−(2−トリチルアミ/チアゾール−4
−イル)アセトアミド) −3−(1,2−シバイドロ
ー2−オキソ−6−キ/リルチオ)メチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンノルエステル(シ
ン異性体)(1,Olg)を得た。
NMRδ ppm (D M S Oda):3.7
5(311*s)、 3.80(3H,s)、 5.5
(IH,m)4.5−5.25(3H,m)、 6.2
5−8.0(25H,n)。
5(311*s)、 3.80(3H,s)、 5.5
(IH,m)4.5−5.25(3H,m)、 6.2
5−8.0(25H,n)。
8.7(IH,s)、 9.4(ill、d、J=8H
z)実施例37 実施例4及び5に準じて、7−〔2−メトキシイミノ−
2−(2−)リチルアミノチアゾールー4−イル)アセ
トアミド) −3−(1,2−ツノ)イドロー2−オキ
ソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸p−メトキシベンノル(シン異性体)(1,0
g)を脱保護基反応によってカリウム7−(2−(2−
7ミノチアゾールー4−イル)−2−メトキシイミノア
セトアミド〕−3−(1,2−シバイドロー2−オキソ
−6−キメリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カル
ボキシレート(シン異性体)(69mg)を得た。
z)実施例37 実施例4及び5に準じて、7−〔2−メトキシイミノ−
2−(2−)リチルアミノチアゾールー4−イル)アセ
トアミド) −3−(1,2−ツノ)イドロー2−オキ
ソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸p−メトキシベンノル(シン異性体)(1,0
g)を脱保護基反応によってカリウム7−(2−(2−
7ミノチアゾールー4−イル)−2−メトキシイミノア
セトアミド〕−3−(1,2−シバイドロー2−オキソ
−6−キメリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カル
ボキシレート(シン異性体)(69mg)を得た。
NMRδ ppm (D M S O−d6):3.
80(3H,s)、4.85(LH,d、J=4Hz)
、 5.45(1,H,+a)。
80(3H,s)、4.85(LH,d、J=4Hz)
、 5.45(1,H,+a)。
6.40(IH,d、J=10Hz)、 6.68(
ltl、s)。
ltl、s)。
7.0−8.0(6tl1m)、9.30(IHld、
J=8Hz)実施例38 実施例6に準じて、6−メルカプ)−1,2−ツバイド
ロー2−オキソキノリン(840mg)と7−(2−(
2−プロピニルオキシイミノ゛)−2−(2−トリチル
アミノチアゾール−4−イル)アセトアミドツー3−ヨ
ードメチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−7トキ
シベンジルエステル(シン異性体)(2,5g)とから
、?−〔2−(2−プロピニルオキシイミノ)−2−(
2−)リチルアミ7チアゾールー4−イル)アセトアミ
ド) −3−(1,2−ツバイドロー2.−オキソ−6
−キメリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン
酸p−メトキシベンジルエステル(シン異性体)(2,
09g)を得た。
J=8Hz)実施例38 実施例6に準じて、6−メルカプ)−1,2−ツバイド
ロー2−オキソキノリン(840mg)と7−(2−(
2−プロピニルオキシイミノ゛)−2−(2−トリチル
アミノチアゾール−4−イル)アセトアミドツー3−ヨ
ードメチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−7トキ
シベンジルエステル(シン異性体)(2,5g)とから
、?−〔2−(2−プロピニルオキシイミノ)−2−(
2−)リチルアミ7チアゾールー4−イル)アセトアミ
ド) −3−(1,2−ツバイドロー2.−オキソ−6
−キメリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン
酸p−メトキシベンジルエステル(シン異性体)(2,
09g)を得た。
NMRδ ppm (D M S Odi):3.7
5(311,s)、 3.5−4.25(2H,m)
、 4.6(2H,brs)。
5(311,s)、 3.5−4.25(2H,m)
、 4.6(2H,brs)。
4.65−5.2(3H,m)、 5.8(18,m
)、 6.25〜8(25H−m)。
)、 6.25〜8(25H−m)。
8.8(IHts)t 9.5(IH,d、J=8H
z)実施例39 実施例4及v5に準じて、7−(2−(2−プロピニル
オキシイミノbrd−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド〕−3−(1,2−ツバイド
ロー2−オキソ−6−N/リルチオ)メチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(
1,05g)を脱保護基反応により、カリツム7−(2
−(2−アミ7チアゾールー4−イル)−2−(2−7
”ロペニルオキシイミノ)アセトアミド) −3−(1
,2−ジノ1イドロー2−オキソ−6−キ/リルチオ)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異
性体)(97輸g)を得た。
z)実施例39 実施例4及v5に準じて、7−(2−(2−プロピニル
オキシイミノbrd−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド〕−3−(1,2−ツバイド
ロー2−オキソ−6−N/リルチオ)メチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(
1,05g)を脱保護基反応により、カリツム7−(2
−(2−アミ7チアゾールー4−イル)−2−(2−7
”ロペニルオキシイミノ)アセトアミド) −3−(1
,2−ジノ1イドロー2−オキソ−6−キ/リルチオ)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異
性体)(97輸g)を得た。
NMRδ pps+ (D M S Odi)
:3.90(ill、brd、J= 12Hz)、 4
.40(IH,brd、J= 121tz)。
:3.90(ill、brd、J= 12Hz)、 4
.40(IH,brd、J= 121tz)。
4.60(2H,brs)、 4.85(IH,d、J
−511z)−5,45(ILm)t 6,40(IH
ld、J=10)1z)−6,72(1)Its)+7
、O〜8.0(6H,m)−9,45(IH,d、J=
8Hz)実施例40 実施例6に準じて、6−ヒドロキシ−1,2−シバイド
ロー2−オキソキノリン(800og)と7−(2−(
2−プロペニルオキシイミノ)−2−(2−トリチルア
ミ/チアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−ヨー
ドメチルー3−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシ
ベンノルエステル(シン異性体)(2,35g)とから
、7−[,2−(2−プロベニルオキシイミ/)−2−
(2−トリチルアミ/チアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−(1,2−シバイドロー2−オキソ−6−
キツリルオキシ)メチル−3−セフェム−4−カルボン
酸p−メトキシベンノルエステル(シン異性体H1,2
0g)を得た。
−511z)−5,45(ILm)t 6,40(IH
ld、J=10)1z)−6,72(1)Its)+7
、O〜8.0(6H,m)−9,45(IH,d、J=
8Hz)実施例40 実施例6に準じて、6−ヒドロキシ−1,2−シバイド
ロー2−オキソキノリン(800og)と7−(2−(
2−プロペニルオキシイミノ)−2−(2−トリチルア
ミ/チアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−ヨー
ドメチルー3−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシ
ベンノルエステル(シン異性体)(2,35g)とから
、7−[,2−(2−プロベニルオキシイミ/)−2−
(2−トリチルアミ/チアゾール−4−イル)アセトア
ミド〕−3−(1,2−シバイドロー2−オキソ−6−
キツリルオキシ)メチル−3−セフェム−4−カルボン
酸p−メトキシベンノルエステル(シン異性体H1,2
0g)を得た。
N M Rδ ppm (DMS○−d6):3.6
〜3.7(511,ll1)= 4.6(2H,lI)
、 5.0(IH,s)。
〜3.7(511,ll1)= 4.6(2H,lI)
、 5.0(IH,s)。
5.2−5.7(7H,m)、5.8−6.2(2H,
+a)+6.3(ltl、brd)、 6.4(lli
、m)、 6.8−7.9(2411,111)。
+a)+6.3(ltl、brd)、 6.4(lli
、m)、 6.8−7.9(2411,111)。
8.0(1)1.brs)、 8.5(1,1(、br
s)−8,7(LH,d、J=8,0Hz)、 10.
5(ill、brs)実施例41 実施例7に準じて、7−C2−<2−プロペニルオキシ
イミノ)−2−(2−)リチルアミノチアゾールー4−
イル)アセトアミド) −3−(1,2−ツバイドロー
2−オキソ−6−キツリルオキシ)メチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(シ
ン異性体)(1,19g)とIn−クロロ過安息香酸(
250mg)とから、’7−[2−(2−プロベニルオ
キシイミ/)−2−(2−)リチルアミ7チアゾールー
4−イル)アセトアミド]−3−(1,2−シバイドロ
ー2−オキソ−6−キメリルオキシ)メチル−3−セフ
ェム−1−オキシド−4−カルボン酸p−メトキシペン
シルエステル(シン異性体)(734+++g)を得た
。
s)−8,7(LH,d、J=8,0Hz)、 10.
5(ill、brs)実施例41 実施例7に準じて、7−C2−<2−プロペニルオキシ
イミノ)−2−(2−)リチルアミノチアゾールー4−
イル)アセトアミド) −3−(1,2−ツバイドロー
2−オキソ−6−キツリルオキシ)メチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル(シ
ン異性体)(1,19g)とIn−クロロ過安息香酸(
250mg)とから、’7−[2−(2−プロベニルオ
キシイミ/)−2−(2−)リチルアミ7チアゾールー
4−イル)アセトアミド]−3−(1,2−シバイドロ
ー2−オキソ−6−キメリルオキシ)メチル−3−セフ
ェム−1−オキシド−4−カルボン酸p−メトキシペン
シルエステル(シン異性体)(734+++g)を得た
。
NMRδ ppm、(DMS○−d6):3.3(2H
vQ)w 3.6(3H+S)y 4.8(211
,brs)。
vQ)w 3.6(3H+S)y 4.8(211
,brs)。
4.9−5.5(511,m)= 5.7−6.3(
2H,n+)−6,7−7,9(2811,m)、
8.2(111,brs)−8,4(IH,d、J=8
,0Hz)−10,4(I II、brs)実施例42 実施例8に準じて、?−(2−(2−プロペニルオキシ
イミノ)−2−(2−)リチル7ミノチアゾールー4−
イル)アセトアミド) −3−(1,2−シバイドロー
2−オキソ−6−J+7リルオキシ)メチル°−3−セ
フェムー1−オキシド−4−カルボン酸p−メトキシベ
ンジルエステル(シン異性体)(734B)と三臭化リ
ン(300μm)とかち、7−[2−(2−プロペニル
オキシイミノ)−2−(2−トリチルアミ/チアゾ、−
ルー4−イル)アセトアミド) −3−(1,2−シバ
イドロー′2−オキソー6−キ/リルオキシ)メチル−
3−セフェム−4−カルボン酸ρ−メトキンベンジルエ
ステル(シン異性体)(340a+g)を得た。
2H,n+)−6,7−7,9(2811,m)、
8.2(111,brs)−8,4(IH,d、J=8
,0Hz)−10,4(I II、brs)実施例42 実施例8に準じて、?−(2−(2−プロペニルオキシ
イミノ)−2−(2−)リチル7ミノチアゾールー4−
イル)アセトアミド) −3−(1,2−シバイドロー
2−オキソ−6−J+7リルオキシ)メチル°−3−セ
フェムー1−オキシド−4−カルボン酸p−メトキシベ
ンジルエステル(シン異性体)(734B)と三臭化リ
ン(300μm)とかち、7−[2−(2−プロペニル
オキシイミノ)−2−(2−トリチルアミ/チアゾ、−
ルー4−イル)アセトアミド) −3−(1,2−シバ
イドロー′2−オキソー6−キ/リルオキシ)メチル−
3−セフェム−4−カルボン酸ρ−メトキンベンジルエ
ステル(シン異性体)(340a+g)を得た。
N M Rδ ppm (D M S Ods):3
.40〜3.90(5tl、m)、 4.80(2H,
m)。
.40〜3.90(5tl、m)、 4.80(2H,
m)。
5.20〜5.70(7H,m)−5,80〜6.20
(2H,m)。
(2H,m)。
6.40(IH,m)、 6.60−8.1(2411
,m)、 8.10(LH,d)。
,m)、 8.10(LH,d)。
8.70(IH,d、J=8.0Hz)、 10.5(
IH,brd)実施例43 実施例4及び5に準じで、?−(2−プロペニルオキシ
イミノ−2−(2−)リチルアミノチアゾールー4−イ
ル)アセトアミド) −3−(1,2−シバイドロー2
−オキソ−6−キツリルオキシ)メチル−3−セフェム
−4−カルボン酸p−メトキシベンノルエステル(シン
異性体)(340mg)の脱保護基反応により、カリウ
ム7−(2−(2−7ミ7チアゾールー4−イル)−2
−(2−プロペニルオキシイミ/)アセトアミド) −
3−(1,2−ツバイドロー2−オキソ−6−キメリル
オキシ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート
(シン異性体)(230mg)を得た。
IH,brd)実施例43 実施例4及び5に準じで、?−(2−プロペニルオキシ
イミノ−2−(2−)リチルアミノチアゾールー4−イ
ル)アセトアミド) −3−(1,2−シバイドロー2
−オキソ−6−キツリルオキシ)メチル−3−セフェム
−4−カルボン酸p−メトキシベンノルエステル(シン
異性体)(340mg)の脱保護基反応により、カリウ
ム7−(2−(2−7ミ7チアゾールー4−イル)−2
−(2−プロペニルオキシイミ/)アセトアミド) −
3−(1,2−ツバイドロー2−オキソ−6−キメリル
オキシ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート
(シン異性体)(230mg)を得た。
NMRδppm (DMSO−d、):3.70(2
11,+++)、 4.70(2H,brd)、 5.
10(211,m)。
11,+++)、 4.70(2H,brd)、 5.
10(211,m)。
5.20(211,brs、s)、 5.60(111
9m)−5,70〜6.20(LH,m)、 6.50
(ltl、m)、 6.80(IH,s)。
9m)−5,70〜6.20(LH,m)、 6.50
(ltl、m)、 6.80(IH,s)。
7.10−7.50(4H1a+)+ 7.90(11
12m)−9,80(111,d、J=8,01lz)
、 10.2(III、brs、s)実施例44 実施例9に準じ、?−(2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−(2−7’ロペニルオキシイミノ)ア
セトアミド〕−3−クロルメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸(533+1)と6−71イドロキシ−1,
2−ツバイドロー2−オキソキノリン(400B)とか
ら、カリウム7−(2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−(2−7’ロペニルオキシイミノ)アセト
アミド) −3−(1,2−シバイドロー2−オキソ−
6−キツリルオキシ)メチル−3−セフェム−4−カル
ボキシレート(シン異性体(55B)を得た。
12m)−9,80(111,d、J=8,01lz)
、 10.2(III、brs、s)実施例44 実施例9に準じ、?−(2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−(2−7’ロペニルオキシイミノ)ア
セトアミド〕−3−クロルメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸(533+1)と6−71イドロキシ−1,
2−ツバイドロー2−オキソキノリン(400B)とか
ら、カリウム7−(2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−(2−7’ロペニルオキシイミノ)アセト
アミド) −3−(1,2−シバイドロー2−オキソ−
6−キツリルオキシ)メチル−3−セフェム−4−カル
ボキシレート(シン異性体(55B)を得た。
NMRδ ppm (DMSO−d6):3.7(2
H,s)、 4.7(2H,+e)、 5.1(2H,
d、J=5.511z)。
H,s)、 4.7(2H,+e)、 5.1(2H,
d、J=5.511z)。
5.2(2Hvm)+ 5.6(IHtlIl)+ 5
.7−6.2(2111111L6.5(111+s)
、6.8(Ift、s)、 7.1−7.5(4119
m)。
.7−6.2(2111111L6.5(111+s)
、6.8(Ift、s)、 7.1−7.5(4119
m)。
8゜08(ltl、m)、 9.3(ill、d、J=
8Hz)、 10.2(LH,brs)実施例45 CH。
8Hz)、 10.2(LH,brs)実施例45 CH。
実施例16に準じ、7−[2−(2−plIJ3級プト
キシカルボニルブロパノキシイミ/)−2−(2−トリ
チルアミ7チアゾールー4−イル)アセトアミド]−3
−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−メ
トキシベンノルエステル(シン異性体)(2,OOg)
と6−フルカプドー1,2−ツノ1イドロー2−オキツ
キ/リン(590n+g)とから、7−(2−(2−第
3級ブトキシ力ルポニルプロバノキシイミノ)−2−(
2−)グチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミ
ド) −3−(1,2−ジノ\イドロー2−オキソ−6
−キメリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン
酸p−メトキシベンジルエステル(シン異性体)(1,
96g)を得り。
キシカルボニルブロパノキシイミ/)−2−(2−トリ
チルアミ7チアゾールー4−イル)アセトアミド]−3
−ヨードメチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−メ
トキシベンノルエステル(シン異性体)(2,OOg)
と6−フルカプドー1,2−ツノ1イドロー2−オキツ
キ/リン(590n+g)とから、7−(2−(2−第
3級ブトキシ力ルポニルプロバノキシイミノ)−2−(
2−)グチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミ
ド) −3−(1,2−ジノ\イドロー2−オキソ−6
−キメリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン
酸p−メトキシベンジルエステル(シン異性体)(1,
96g)を得り。
NMRδ ppm (D M S Oda):1.2
6(6H,s)t 1,47(911,s)、 3
.66(211,s)。
6(6H,s)t 1,47(911,s)、 3
.66(211,s)。
3.77(3H,s)、 4.67−5.15(31
1,n)。
1,n)。
4.90(2H,s)、 5.88(ill、n)、
6.88(III、s)。
6.88(III、s)。
7.08(411,q)、 7.36(1511,s)
、 6.66−8.15(8Fl、m)実施例46 実施例17及び18に準じて、7−(2−(2−第3級
ブトキシ力ルポニルブロバノキシイミノ)−2−(2−
)グチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)
−3−(1,2−ツノ−イドロー2−オキソ−6−キ
メリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸p
−メトキシベンジルエステル(シン異性体)(100m
g)から、ジカリウム7−〔2−(2−アミ7チアゾー
ルー4−イル)−2−(2,2−ツメチルアセテートオ
キシイミノ)アセトアミド) −3−(1,2−ツバイ
ーロー2−オキソ−6−キ/リルチオ)メチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート(シン異性体)(21,
0m8)を得た。
、 6.66−8.15(8Fl、m)実施例46 実施例17及び18に準じて、7−(2−(2−第3級
ブトキシ力ルポニルブロバノキシイミノ)−2−(2−
)グチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)
−3−(1,2−ツノ−イドロー2−オキソ−6−キ
メリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸p
−メトキシベンジルエステル(シン異性体)(100m
g)から、ジカリウム7−〔2−(2−アミ7チアゾー
ルー4−イル)−2−(2,2−ツメチルアセテートオ
キシイミノ)アセトアミド) −3−(1,2−ツバイ
ーロー2−オキソ−6−キ/リルチオ)メチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート(シン異性体)(21,
0m8)を得た。
NMRδ pp艶 (・D M S O−cl、):1
.38(3H,s)、 1.49(3H,s)、 3.
66(2H,5)y4.76(20,q)、 4.96
(IH,d、J=5,0Hz)。
.38(3H,s)、 1.49(3H,s)、 3.
66(2H,5)y4.76(20,q)、 4.96
(IH,d、J=5,0Hz)。
5.57(IH,a+)、 6.59(IHts)、
7.09(2H,s)。
7.09(2H,s)。
7.18(4H,q)、 8.08(IH9s)。
11.94(ltl、d、J=8.01lz)、 12
.25(01,s)実施例47 実施例9に準じ、?−(2−(2−7ミ/チアゾール−
4−イル)−2−(2−7’ロベニルオキシイミノ)ア
セトアミドツー3−ヨードメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸(450mg)を塩化メチレン(10ml)
に溶解させ、ビストリメチルシリルアセトアミド(80
0μI)を加えて、40〜50℃で1時間加熱撹拌する
。次に溶媒を留去してアセトニトリル(10ml)を加
えて溶解させ、更に6−メルカブトー1,2−ツバイド
ロー2−オキツキ/リン(300mg)と酸化プロピレ
ン(200μm)を加えて室温にて3時間攪拌した。溶
媒を留去後、5%炭酸水素カリウム水溶液にて残渣を溶
解しセファデックスLH−20にて水で溶離させ、目的
物含有溶離物を集めて凍結乾燥して、カリツム?−(2
−(2−7ミノチアゾールー4−イル)−2−(2−プ
ロペニルオキシイミノ)アセトアミド] −3−(1,
2−シバイドロー2−オキソ−6−キメリルチオ)メチ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
)(53a+g)を得た。
.25(01,s)実施例47 実施例9に準じ、?−(2−(2−7ミ/チアゾール−
4−イル)−2−(2−7’ロベニルオキシイミノ)ア
セトアミドツー3−ヨードメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸(450mg)を塩化メチレン(10ml)
に溶解させ、ビストリメチルシリルアセトアミド(80
0μI)を加えて、40〜50℃で1時間加熱撹拌する
。次に溶媒を留去してアセトニトリル(10ml)を加
えて溶解させ、更に6−メルカブトー1,2−ツバイド
ロー2−オキツキ/リン(300mg)と酸化プロピレ
ン(200μm)を加えて室温にて3時間攪拌した。溶
媒を留去後、5%炭酸水素カリウム水溶液にて残渣を溶
解しセファデックスLH−20にて水で溶離させ、目的
物含有溶離物を集めて凍結乾燥して、カリツム?−(2
−(2−7ミノチアゾールー4−イル)−2−(2−プ
ロペニルオキシイミノ)アセトアミド] −3−(1,
2−シバイドロー2−オキソ−6−キメリルチオ)メチ
ル−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
)(53a+g)を得た。
NMRδ ppaa(D M S O−da):3.5
0(2H,s)、 4.50(2H9I11)。
0(2H,s)、 4.50(2H9I11)。
4、フ0(2H,d、J=5.5)1z)、 4.9
0(II、d、J=6,0Hz)。
0(II、d、J=6,0Hz)。
5.10〜5.30(2H,m)、 5.60(2Ht
m)v5.70−6.15(211,+*)、 6.
70(IHts)t 7,03(2H,s)。
m)v5.70−6.15(211,+*)、 6.
70(IHts)t 7,03(2H,s)。
7.20−7.50(4Htm)−7,70(IHtb
rs、s)。
rs、s)。
7.90(II、brs、s)+ 9.5(IH,d
、J=8.0Hz)*10.2(IH,brs、s) 実施例48 炭酸カリウム(1,2g)をN、N−ツメチルホルムア
ミド(40+++I)中に懸濁した溶液に6−メルカブ
トー1,2−ツバイドロー6−オキソキノリン(700
B)を加え室温にて30分間攪拌する。この溶液に水冷
下7−フェニルアセトアミド−3−ヨードメチル−3−
セフェム−4−カルボンミル−メトキシベンジルエステ
ル(1,82g)を加え撹拌する。更に室温にて3時間
攪拌した後、N、N−ジメチルホルムアミドを減圧留去
し、残留物を塩化メチレンにてシリカゾルカラムクロマ
トで溶離させ、目的物含有溶離物を集め減圧下溶媒を留
去することにより、7−フェニルアセトアミド−3−(
1,2−シバイドロー2−オキソ−6−キツリルチオ)
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシベ
ンノルエステル(2,20g)(Δ2とΔ3との混合物
)を得た。
、J=8.0Hz)*10.2(IH,brs、s) 実施例48 炭酸カリウム(1,2g)をN、N−ツメチルホルムア
ミド(40+++I)中に懸濁した溶液に6−メルカブ
トー1,2−ツバイドロー6−オキソキノリン(700
B)を加え室温にて30分間攪拌する。この溶液に水冷
下7−フェニルアセトアミド−3−ヨードメチル−3−
セフェム−4−カルボンミル−メトキシベンジルエステ
ル(1,82g)を加え撹拌する。更に室温にて3時間
攪拌した後、N、N−ジメチルホルムアミドを減圧留去
し、残留物を塩化メチレンにてシリカゾルカラムクロマ
トで溶離させ、目的物含有溶離物を集め減圧下溶媒を留
去することにより、7−フェニルアセトアミド−3−(
1,2−シバイドロー2−オキソ−6−キツリルチオ)
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシベ
ンノルエステル(2,20g)(Δ2とΔ3との混合物
)を得た。
NMR6ppm (DMSO−da):3.6−3.
9(SLIIl)、 4.6(2Hts)、 4.7(
111,brs)−5,1(2Hrddj=4.0Hz
、J=2.0Hz)。
9(SLIIl)、 4.6(2Hts)、 4.7(
111,brs)−5,1(2Hrddj=4.0Hz
、J=2.0Hz)。
5、4(ILdd、J = 6.01lz、J = 2
.0Hz)−5,6(IH,brs)、 6.5(IH
,+4.、j=8,0Hz)。
.0Hz)−5,6(IH,brs)、 6.5(IH
,+4.、j=8,0Hz)。
6.6〜7.5(1311,鴨)。
7.8(IH,dd、J= 8.0Hz、J= 2,0
l(z)。
l(z)。
9.2(11(、m)、IQ、5(111,brs)実
施例49 7−フェニルアセトアミド−3−(1,2−シバイドロ
ー2−オキソ−6−キノ+/ルチオ)メチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸p−メトキシベンノルエステル(
2,10g)を塩化メチレン(10ml)に溶解した溶
液に水冷下、■−クロロ過安息香酸(650+og)の
塩化メチレン(5ω1)溶液を滴下し、さらに水冷下1
時間撹拌した。この溶液を5%炭酸水素ナト11ウム溶
液(10ml)及ゾ飽和食塩水(10ml)で洗浄し、
有機相を無水硫酸マグネシウムで脱水後、溶媒を留去す
ることにより、粉末状の7−7二二ルアセトアミドー3
−(1,2−シバイドロー2−オキソ−6−キツリルチ
オ)メチル−3−セフェム−1−オキシド−4−カルボ
ン酸p−7トキシベンジルエステル(1,85g)を得
り。
施例49 7−フェニルアセトアミド−3−(1,2−シバイドロ
ー2−オキソ−6−キノ+/ルチオ)メチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸p−メトキシベンノルエステル(
2,10g)を塩化メチレン(10ml)に溶解した溶
液に水冷下、■−クロロ過安息香酸(650+og)の
塩化メチレン(5ω1)溶液を滴下し、さらに水冷下1
時間撹拌した。この溶液を5%炭酸水素ナト11ウム溶
液(10ml)及ゾ飽和食塩水(10ml)で洗浄し、
有機相を無水硫酸マグネシウムで脱水後、溶媒を留去す
ることにより、粉末状の7−7二二ルアセトアミドー3
−(1,2−シバイドロー2−オキソ−6−キツリルチ
オ)メチル−3−セフェム−1−オキシド−4−カルボ
ン酸p−7トキシベンジルエステル(1,85g)を得
り。
NMRδ ppm (D M S Oda):3.
2(2H,q、J= 12Hz)、 3.5(3H,
s)、 4.7(IH,brs)。
2(2H,q、J= 12Hz)、 3.5(3H,
s)、 4.7(IH,brs)。
5.2(211,dd、J= 4.0llz、J= 2
,0Hz)。
,0Hz)。
5.5(Ill、cld、J= 6,0tlz、J=
2,0Hz)。
2,0Hz)。
5.6(ILbrs)、 6.5(111,d、J=
8,0)Iz)。
8,0)Iz)。
6.7−8.0(13H,m)。
7.7(IH,dd、、T−8,OHz、J = 6,
0Hz)。
0Hz)。
9.0(11,d、J=6.0Hz)、 10.4(
IH,brs)実施例50 7−フェニルアセトアミド−3−(1,2−ツバイドr
y −2−オキソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セ
フェム−1−オキシド−4−カルボン酸p−メトキシベ
ンジルエステル(1,83g)をア七トン(20m l
)に溶解させ、−40℃に保ちながら三臭化ワン(2
00μm)を滴下撹拌した後、さらに2時間この温度に
て撹拌した。この混合溶液に炭酸ナトリウム(1,3g
)水溶液(5ml)を加え撹拌した後、室温にもどし酢
酸エチル(100ml)と水(50wl)とからなる混
合液中に撹拌分散させた後、分離した有機相を無水硫酸
マグネシウムにて脱水後溶媒を留去することにより、7
−フェニルアセトアミド−3−(1,2−シバイドロー
2−オキソ−6−キ/リルチオ)メチル−3−セフェム
−4−カルボン酸p−メトキシベンノルエステル(1,
53g)を得り。
IH,brs)実施例50 7−フェニルアセトアミド−3−(1,2−ツバイドr
y −2−オキソ−6−キツリルチオ)メチル−3−セ
フェム−1−オキシド−4−カルボン酸p−メトキシベ
ンジルエステル(1,83g)をア七トン(20m l
)に溶解させ、−40℃に保ちながら三臭化ワン(2
00μm)を滴下撹拌した後、さらに2時間この温度に
て撹拌した。この混合溶液に炭酸ナトリウム(1,3g
)水溶液(5ml)を加え撹拌した後、室温にもどし酢
酸エチル(100ml)と水(50wl)とからなる混
合液中に撹拌分散させた後、分離した有機相を無水硫酸
マグネシウムにて脱水後溶媒を留去することにより、7
−フェニルアセトアミド−3−(1,2−シバイドロー
2−オキソ−6−キ/リルチオ)メチル−3−セフェム
−4−カルボン酸p−メトキシベンノルエステル(1,
53g)を得り。
NMRδ ppm (D M S O−ds):3.
3−3.9(511,m)−4,7(111,brs)
−5,2(2H,dd、J=4.0HztJ=2.0H
z)+5.5(1)1.d、J=6.01lz、J=2
,0Hz)。
3−3.9(511,m)−4,7(111,brs)
−5,2(2H,dd、J=4.0HztJ=2.0H
z)+5.5(1)1.d、J=6.01lz、J=2
,0Hz)。
5.6(IH,brs)、 6.5(1)1.d、J=
8.0Hz)+6.7〜8.0(13H,瞳)。
8.0Hz)+6.7〜8.0(13H,瞳)。
7.7(IH,dd、J=8.OHz、J=8.0Hz
)−9,0(IHtdtJ=6.0llz)t 10.
4(11,brs)実施例51 公知のイミノエーテル法により7−フェニルアセトアミ
ド−3−(1,2−シバイドロー2−オキソ−6−キツ
リルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボンFIR
p−メトキシベンジルエステルから得られた7−7ミノ
ー3−(1,2−ツバイドロー2−オキソ−6−キツリ
ルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸(0,
48B)を乾燥酢酸エチル(10ml)に懸濁した液に
ビス(+リメチルシリル)アセトアミド(1,1g)を
加え、室温で撹拌する(A液)。
)−9,0(IHtdtJ=6.0llz)t 10.
4(11,brs)実施例51 公知のイミノエーテル法により7−フェニルアセトアミ
ド−3−(1,2−シバイドロー2−オキソ−6−キツ
リルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボンFIR
p−メトキシベンジルエステルから得られた7−7ミノ
ー3−(1,2−ツバイドロー2−オキソ−6−キツリ
ルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボン酸(0,
48B)を乾燥酢酸エチル(10ml)に懸濁した液に
ビス(+リメチルシリル)アセトアミド(1,1g)を
加え、室温で撹拌する(A液)。
一方オキシ塩化リン(0,3g)を水冷下、乾燥N、N
−ツメチルホルムアミド(0,15g)に加えて40°
Cにて1時間撹拌した溶液に乾燥酢酸エチル(1,5m
1)を加えた溶液に水冷下2−メトキシイミノ−2−(
2−7ミノチアゾールー4−イル)酢酸(シン異性体)
(0,25g)を加、え20分間攪拌する(B液)。
−ツメチルホルムアミド(0,15g)に加えて40°
Cにて1時間撹拌した溶液に乾燥酢酸エチル(1,5m
1)を加えた溶液に水冷下2−メトキシイミノ−2−(
2−7ミノチアゾールー4−イル)酢酸(シン異性体)
(0,25g)を加、え20分間攪拌する(B液)。
次にA液にB液を一20°Cにて滴下し、さらに−10
〜−20℃で1時間30分撹拌する。この反応溶液ニー
20−−30’Cノ冷却下、氷水(25ml)ヲ加え、
更に酢酸エチル(30+e I )を加え撹拌し、析出
不溶物を口去し有機相を分離する。この有機相に飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液を加えpHを7.5とする。水
層を分離し塩化メチレンで洗浄後、水層を10%塩酸で
pH2とし析出物を口取、乾燥させた後、5%炭酸水素
カリウム水溶液にて溶解させた後、セファデックスLH
−20にて目的物含有物を溶離させ凍結乾燥させること
により実施例37で得たカリウム7−(2−(2−7ミ
/チアゾール−4−イル)−2−メトキシゴミ/アセト
アミド〕−3−(1,2−シバイドロー2−オキソ−6
−キメリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキ
シレート(シン異性体)と同一化合物(0,11g)を
得た。
〜−20℃で1時間30分撹拌する。この反応溶液ニー
20−−30’Cノ冷却下、氷水(25ml)ヲ加え、
更に酢酸エチル(30+e I )を加え撹拌し、析出
不溶物を口去し有機相を分離する。この有機相に飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液を加えpHを7.5とする。水
層を分離し塩化メチレンで洗浄後、水層を10%塩酸で
pH2とし析出物を口取、乾燥させた後、5%炭酸水素
カリウム水溶液にて溶解させた後、セファデックスLH
−20にて目的物含有物を溶離させ凍結乾燥させること
により実施例37で得たカリウム7−(2−(2−7ミ
/チアゾール−4−イル)−2−メトキシゴミ/アセト
アミド〕−3−(1,2−シバイドロー2−オキソ−6
−キメリルチオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキ
シレート(シン異性体)と同一化合物(0,11g)を
得た。
犬に本発明化合物(1)の有泪性を示すために本発明化
合物(1)の代表的な化合物についての試験管内抗菌活
性の試験データーを下記に示す。
合物(1)の代表的な化合物についての試験管内抗菌活
性の試験データーを下記に示す。
試 験: 試験管内抗菌活性
試験化合物:
A: 実施例5の化合物
B: 実施例13の化合物
C: 実施例1日の化合物
D: 実施例27の化合物
E: 実施例33の化合物
F: 実施例35の化合物
G: 実施例46の化合物
試験法
下記の2倍寒天平板希釈法により試験管内抗菌活性を求
めた。各試験菌種を感受性測定用ブイヨン中で20時間
培養した試験菌f!l(生存細菌数:約10”/a+I
)の0.005m1を、各種濃度の抗菌剤を含有する感
受性測定用寒天培地に接種し、37℃で20時間培!!
後、最低発育阻止濃度(MIC)をμg/mlの単位で
測定した。結果を第1表に示す。
めた。各試験菌種を感受性測定用ブイヨン中で20時間
培養した試験菌f!l(生存細菌数:約10”/a+I
)の0.005m1を、各種濃度の抗菌剤を含有する感
受性測定用寒天培地に接種し、37℃で20時間培!!
後、最低発育阻止濃度(MIC)をμg/mlの単位で
測定した。結果を第1表に示す。
手続補正書(自発)
昭和60年9113日
特許庁長官殿
、1.71、事件の表示 昭和60年特許11i 173527号2、発明の名称 セファ0スポリン化合物の新規誘導体、その製造方法及
び該誘導体を含有する医薬組成物3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 大塚化学株式会社 4、代理人 〒530大阪市北区曽根崎1丁目2番8号マルビル 電
語06 (365) 0170自 発 6、補正の対象 (以 上) 補 正 の 内 容 1.特許請求の範囲を別紙の通り訂正します。
、1.71、事件の表示 昭和60年特許11i 173527号2、発明の名称 セファ0スポリン化合物の新規誘導体、その製造方法及
び該誘導体を含有する医薬組成物3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 大塚化学株式会社 4、代理人 〒530大阪市北区曽根崎1丁目2番8号マルビル 電
語06 (365) 0170自 発 6、補正の対象 (以 上) 補 正 の 内 容 1.特許請求の範囲を別紙の通り訂正します。
2、明細書中の記載を以下の通り訂正します。
(1)第14頁第7行1カルボキシル基、」を削除。
(2)第16頁第4行
(3)第71頁第10〜11行、同第13〜14行、第
72真下からff14行、第74頁第2行、同第8〜9
行、@75頁第6行、第97頁第3行、同第9〜10行
及び第98頁18行「プロパ7キシ」を[プロプ−2−
オキシ」に。
72真下からff14行、第74頁第2行、同第8〜9
行、@75頁第6行、第97頁第3行、同第9〜10行
及び第98頁18行「プロパ7キシ」を[プロプ−2−
オキシ」に。
(4)@73頁第2〜3行「プロパノオシ」を[プロプ
−2−オキシ」に。
−2−オキシ」に。
(以 上)
特許請求の範囲
(1)一般式
(式中、R1はβ−ラクタム抗生物質において知られて
いる有機残基、R2は水素原子またはメトキシ基を表わ
し、R″は水素原子、金属原子、エステル残基、塩形成
陽イオン又はCOO−が陽イオン対と分子内又は分子性
塩を形成するときは陰イオン電荷を示す。nは0または
1、A及びBは硫黄原子または酸素原子を表わし、カル
ボスチリル骨格は置換基を有していても良い。)で示さ
れるセファロスポリン化合物及びその薬理上許容される
塩。
いる有機残基、R2は水素原子またはメトキシ基を表わ
し、R″は水素原子、金属原子、エステル残基、塩形成
陽イオン又はCOO−が陽イオン対と分子内又は分子性
塩を形成するときは陰イオン電荷を示す。nは0または
1、A及びBは硫黄原子または酸素原子を表わし、カル
ボスチリル骨格は置換基を有していても良い。)で示さ
れるセファロスポリン化合物及びその薬理上許容される
塩。
(2)R’が4〜6R環の複素環(硫黄、窒素及び酸素
の各原子をその構成原子として1〜4個を含む)を有す
る有機残基である特許請求の範囲第1項記載のセファロ
スポリン化合物。
の各原子をその構成原子として1〜4個を含む)を有す
る有機残基である特許請求の範囲第1項記載のセファロ
スポリン化合物。
(3)R1が有機残基中に−C−をその構成因子とN−
OR’ する場合は、R4は水素、置換又は非置換C2〜C6の
直鎖若しくは分枝アルキル基、置換または非置換C3〜
C6の直鎖若しくは分枝アルケニル基、置換又は非置換
02〜C6の直鎖若しくは分枝アルキニル基、置換また
は非置換C5〜C2のシクロアルキル基、置換または非
置換C1〜C2のシクロアルケニル基または R5 −C−CO2Rフ (式中、R5及びR6は同−又は異って水素原子、メチ
ル又はエチル基、R)は水素原子、アルカリ金属、アル
カリ土類金属、有機アミン塩基又はカルボキシル基の通
常の保護基)または置換または非置換の4〜6員環の複
素環(硫黄、窒素及び酸素の各原子をその構成原子とし
て1〜4個を含む)である特許請求の範囲第1項又は第
2項記載のセファロスポリン化合物や (4)R’が有機残基中に−C−をそのvt戊戊子子す
る場合は、R9は置換もしくは非置換の飽和もしくは不
飽和低級アルキル基、シクロアルキル基、複素環基、エ
ステル化されてもよいカルポキンル工二ル基またはベン
ジル基である特許請求の範囲第1項又は第2項記載のセ
ファロスポリン化合物。
OR’ する場合は、R4は水素、置換又は非置換C2〜C6の
直鎖若しくは分枝アルキル基、置換または非置換C3〜
C6の直鎖若しくは分枝アルケニル基、置換又は非置換
02〜C6の直鎖若しくは分枝アルキニル基、置換また
は非置換C5〜C2のシクロアルキル基、置換または非
置換C1〜C2のシクロアルケニル基または R5 −C−CO2Rフ (式中、R5及びR6は同−又は異って水素原子、メチ
ル又はエチル基、R)は水素原子、アルカリ金属、アル
カリ土類金属、有機アミン塩基又はカルボキシル基の通
常の保護基)または置換または非置換の4〜6員環の複
素環(硫黄、窒素及び酸素の各原子をその構成原子とし
て1〜4個を含む)である特許請求の範囲第1項又は第
2項記載のセファロスポリン化合物や (4)R’が有機残基中に−C−をそのvt戊戊子子す
る場合は、R9は置換もしくは非置換の飽和もしくは不
飽和低級アルキル基、シクロアルキル基、複素環基、エ
ステル化されてもよいカルポキンル工二ル基またはベン
ジル基である特許請求の範囲第1項又は第2項記載のセ
ファロスポリン化合物。
(5)R1が置換または非置換芳香族フェニル基を有す
る有機残基である特許請求の範囲第1項記載のセファロ
スポリン化合物。
る有機残基である特許請求の範囲第1項記載のセファロ
スポリン化合物。
(6)R1が置換または非置換アルキル基を有する有機
残基である特許請求の範囲第1項記載のセ7アロスポリ
ン化合物。
残基である特許請求の範囲第1項記載のセ7アロスポリ
ン化合物。
(7)R’が置換*たけ非置換脂環式炭化水素基を有す
る有機残基である特許請求の範囲第1項記載のセファ0
スポリン化合物。
る有機残基である特許請求の範囲第1項記載のセファ0
スポリン化合物。
(8)一般式(n)
Co2Rコ
(式中R1,R2およびR3はそれぞれ上記と同じ意味
、nはOまたは1及びXは置換または非置換カルボスチ
リル化合物(1)によって置換可能な基である)で示さ
れる化合物と一般式(III)(式中、A及びBはそれ
ぞれ上記と同じ意味であり、カルボスチリル骨格は置換
基を有していても良い)で示される置換または非置換カ
ルボスチリル化合物とを反応させ一般式(IV) (式中R’、R2,R3,A、B及びnはそれぞれ上記
と同じ意味)で示されるセファロスポリン化合物又はそ
の塩類を得、さらに一般式(IV)で示されるセファ0
スポリン化合物又はその塩類を必要に応じて還元若しく
は脱保護基反応等に付すことを特徴とする一般式(1) (式中R’、R2,R′3.A、B及びnはそれぞれ上
記と同じ意味であり、カルボスチリル骨格は置換基を有
していても良い)で示されるセファロスポリン化合物ま
たはその塩類の製造方法。
、nはOまたは1及びXは置換または非置換カルボスチ
リル化合物(1)によって置換可能な基である)で示さ
れる化合物と一般式(III)(式中、A及びBはそれ
ぞれ上記と同じ意味であり、カルボスチリル骨格は置換
基を有していても良い)で示される置換または非置換カ
ルボスチリル化合物とを反応させ一般式(IV) (式中R’、R2,R3,A、B及びnはそれぞれ上記
と同じ意味)で示されるセファロスポリン化合物又はそ
の塩類を得、さらに一般式(IV)で示されるセファ0
スポリン化合物又はその塩類を必要に応じて還元若しく
は脱保護基反応等に付すことを特徴とする一般式(1) (式中R’、R2,R′3.A、B及びnはそれぞれ上
記と同じ意味であり、カルボスチリル骨格は置換基を有
していても良い)で示されるセファロスポリン化合物ま
たはその塩類の製造方法。
(9)一般式(V)
(式中R2,R’、A、B及びnはそれぞれ上記と同じ
意味であり、カルボスチリル骨格は置換基を有していて
も良い)で示されるセファロスポリン化合物と一般式(
■) R’C0OH(■) (式中Rゝは上記と同じ意味)で示される化合物とを反
応させ一般式(iV) (式中R’、R2,R3,八、B及びnはそれぞれ上記
と同じ意味であり、カルボスチリル骨格は置換基を有し
ていても良い)で示されるセフTelスポリン化合物又
はその塩類を得、さらに一般式(IV)で示されるセフ
ァロスポリン化合物又はその塩類を必要に応じて還元若
しくは脱保護基反応等に付すことを特徴とする一般式(
1) (式中R’、R2,Rコ、A、B及び口はそれぞれ上記
と同じ意味であり、カルボスチリル骨格は置換基を有し
ていても良い)で示されるセファロスポリン化合物又は
その塩類の製造方法。
意味であり、カルボスチリル骨格は置換基を有していて
も良い)で示されるセファロスポリン化合物と一般式(
■) R’C0OH(■) (式中Rゝは上記と同じ意味)で示される化合物とを反
応させ一般式(iV) (式中R’、R2,R3,八、B及びnはそれぞれ上記
と同じ意味であり、カルボスチリル骨格は置換基を有し
ていても良い)で示されるセフTelスポリン化合物又
はその塩類を得、さらに一般式(IV)で示されるセフ
ァロスポリン化合物又はその塩類を必要に応じて還元若
しくは脱保護基反応等に付すことを特徴とする一般式(
1) (式中R’、R2,Rコ、A、B及び口はそれぞれ上記
と同じ意味であり、カルボスチリル骨格は置換基を有し
ていても良い)で示されるセファロスポリン化合物又は
その塩類の製造方法。
(10)一般式(1)
(0)n
(式中R’、R2,R’、A、B及びnはそれぞれ上記
と同じ意味であり、カルボスチリル骨格は置換基を有し
ていても良い)で示されるセファロスポリン化合物又は
その塩類を含有する細菌感染症予防治療剤。
と同じ意味であり、カルボスチリル骨格は置換基を有し
ていても良い)で示されるセファロスポリン化合物又は
その塩類を含有する細菌感染症予防治療剤。
Claims (10)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1はβ−ラクタム抗生物質において知られ
ている有機残基、R^2は水素原子またはメトキシ基を
表わし、R^3は水素原子、金属原子、エステル残基、
塩形成陽イオン又はCOO^−が陽イオン対と分子内又
は分子外塩を形成するときは陰イオン電荷を示す。nは
0または1、A及びBは硫黄原子または酸素原子を表わ
し、カルボスチリル骨格は置換基を有していても良い。 )で示されるセファロスポリン化合物及びその薬理上許
容される塩。 - (2)R^1が4〜6員環の複素環(硫黄、窒素及び酸
素の各原子をその構成原子として1〜4個を含む)を有
する有機残基である特許請求の範囲第1項記載のセファ
ロスポリン化合物。 - (3)R^1が有機残基中に▲数式、化学式、表等があ
ります▼をその構成因子とする場合は、R^4は水素、
置換又は非置換C_2〜C_6の直鎖若しくは分枝アル
キル基、置換または非置換C_2〜C_6の直鎖若しく
は分枝アルケニル基、置換又は非置換C_2〜C_6の
直鎖若しくは分枝アルキニル基、置換または非置換C_
3〜C_7のシクロアルキル基、置換または非置換C_
4〜C_7のシクロアルケニル基または ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^5及びR^6は同一又は異つて水素原子、
メチル又はエチル基、R^7は水素原子、アルカリ金属
、アルカリ土類金属、有機アミン塩基又はカルボキシル
基の通常の保護基)または置換または非置換の4〜6員
環の複素環(硫黄、窒素及び酸素の各原子をその構成原
子として1〜4個を含む)である特許請求の範囲第1項
又は第2項記載のセファロスポリン化合物。 - (4)R^1が有機残基中に▲数式、化学式、表等があ
ります▼をその構成因子とする場合は、R^9は置換も
しくは非置換の飽和もしくは不飽和低級アルキル基、シ
クロアルキル基、複素環基、エステル化されてもよいカ
ルボキシル基またはハロゲン原子である特許請求の範囲
第1項又は第2項記載のセファロスポリン化合物。 - (5)R^1が置換または非置換芳香族フェニル基を有
する有機残基である特許請求の範囲第1項記載のセファ
ロスポリン化合物。 - (6)R^1が置換または非置換アルキル基を有する有
機残基である特許請求の範囲第1項記載のセファロスポ
リン化合物。 - (7)R^1が置換または非置換脂環式炭化水素基を有
する有機残基である特許請求の範囲第1項記載のセファ
ロスポリン化合物。 - (8)一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中R^1、R^2およびR^3はそれぞれ上記と同
じ意味、nは0または1及びXは置換または非置換カル
ボスチリル化合物(III)によつて置換可能な基である
)で示される化合物と一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、A及びBはそれぞれ上記と同じ意味であり、カ
ルボスチリル骨格は置換基を有していても良い)で示さ
れる置換または非置換カルボスチリル化合物とを反応さ
せ一般式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中R^1、R^2、R^3、A、B及びnはそれぞ
れ上記と同じ意味)で示されるセファロスポリン化合物
又はその塩類を得、さらに一般式(IV)で示されるセフ
ァロスポリン化合物又はその塩類を必要に応じて還元若
しくは脱保護基反応等に付すことを特徴とする一般式(
I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1、R^2、R^3、A、B及びnはそれぞ
れ上記と同じ意味であり、カルボスチリル骨格は置換基
を有していても良い)で示されるセファロスポリン化合
物またはその塩類の製造方法。 - (9)一般式(V) ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中R^2、R^3、A、B及びnはそれぞれ上記と
同じ意味であり、カルボスチリル骨格は置換基を有して
いても良い)で示されるセファロスポリン化合物と一般
式(VI) ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (式中R^1は上記と同じ意味)で示される化合物とを
反応させ一般式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中R^1、R^2、R^3、A、B及びnはそれぞ
れ上記と同じ意味であり、カルボスチリル骨格は置換基
を有していても良い)で示されるセファロスポリン化合
物又はその塩類を得、さらに一般式(IV)で示されるセ
ファロスポリン化合物又はその塩類を必要に応じて還元
若しくは脱保護基反応等に付すことを特徴とする一般式
( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1、R^2、R^3、A、B及びnはそれぞ
れ上記と同じ意味であり、カルボスチリル骨格は置換基
を有していても良い)で示されるセファロスポリン化合
物は又はその塩類の製造方法。 - (10)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1、R^2、R^3、A、B及びnはそれぞ
れ上記と同じ意味であり、カルボスチリル骨格は置換基
を有していても良い)で示されるセファロスポリン化合
物又はその塩類を含有する細菌感染症予防治療剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60173527A JPS6233185A (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | セフアロスポリン化合物の新規誘導体、その製造方法及び該誘導体を含有する医薬組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60173527A JPS6233185A (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | セフアロスポリン化合物の新規誘導体、その製造方法及び該誘導体を含有する医薬組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6233185A true JPS6233185A (ja) | 1987-02-13 |
Family
ID=15962175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60173527A Pending JPS6233185A (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | セフアロスポリン化合物の新規誘導体、その製造方法及び該誘導体を含有する医薬組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6233185A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0363223A3 (en) * | 1988-10-07 | 1991-11-13 | Sankyo Company Limited | 3-aryloxymethyl-cephalosporin derivatives, their preparation and their medical use |
| JP2012515745A (ja) * | 2009-01-21 | 2012-07-12 | バジリア ファルマスーチカ アーゲー | 新規二環式抗生物質 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5088088A (ja) * | 1973-11-29 | 1975-07-15 | ||
| JPS51127092A (en) * | 1975-04-22 | 1976-11-05 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | A process for preparing 7-acylamino-3- heterocyclic oxymethyl-3-cephem -4- carboxylic acid derivatives. |
| JPS54138593A (en) * | 1978-04-19 | 1979-10-27 | Toyama Chem Co Ltd | Penicillin and cephalosporin derivatives |
-
1985
- 1985-08-06 JP JP60173527A patent/JPS6233185A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5088088A (ja) * | 1973-11-29 | 1975-07-15 | ||
| JPS51127092A (en) * | 1975-04-22 | 1976-11-05 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | A process for preparing 7-acylamino-3- heterocyclic oxymethyl-3-cephem -4- carboxylic acid derivatives. |
| JPS54138593A (en) * | 1978-04-19 | 1979-10-27 | Toyama Chem Co Ltd | Penicillin and cephalosporin derivatives |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0363223A3 (en) * | 1988-10-07 | 1991-11-13 | Sankyo Company Limited | 3-aryloxymethyl-cephalosporin derivatives, their preparation and their medical use |
| US5389626A (en) * | 1988-10-07 | 1995-02-14 | Sankyo Company, Limited | 3-aryloxmethyl-cephalosporin derivatives, and their medical use |
| JP2012515745A (ja) * | 2009-01-21 | 2012-07-12 | バジリア ファルマスーチカ アーゲー | 新規二環式抗生物質 |
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