JPS6233405A - 磁性材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば薄膜磁気ヘッドに用いられる磁性材に
関するものである。

〔従来技術とその問題点〕

例えば、フェライト、センダスト合金等の磁性材料を磁
気ヘッドの構成材として用いるには、バルクな形又は薄
膜の形で利用されている。

このうち、バルクな形で利用される場合にあっては、磁
性材料自体が磁気ヘッドに必要な特性を満足していなけ
ればならないので、その使用範囲が限定されている。

これに対して、薄膜の形で利用される場合にあっては、
基板と磁性薄膜との組み合わせにより、目的に適した特
性を備えさせることができるので、その使用範囲は広い
ものとなっている。

ところが、基板の上に磁性薄膜層を直接設けた簾膜タイ
プの磁性材は、基板の結晶状態、表面特性等によってそ
の磁気特性が大きく左右され、優れた磁気特性のものに
なっていない欠点がある。

〔発明の開示〕

本発明者は、特にＭｎ、Ｎｉ　　を主成分として含むセ
ラミック製の基板に軟磁性薄膜を設けたタイプの磁性材
について研究を進めた結果、この基板と軟磁性薄膜との
間に非晶質薄膜を設けておくと、このサンドイッチ型の
磁性材は、例えば初透磁率等の磁気特性を大巾に向上さ
せることが出来ることを見い出した。

すなわち、基板としてＭｎ、Ｎｉを主成分として含むセ
ラミック製のものを用いた場合に、この基板上に例えば
５ｉＯｙ、Ａム０３等の非磁性材料を用いて高周波スパ
ック法や熱酸化法ν；よって非晶質薄膜を設け、この非
晶質薄膜上に、例えばセンダスト谷金、パーマロイ等を
用いて軟磁性膜を設けた磁性材は、Ｍｎ、Ｎｉを主成分
として含むセラミック材料と非晶質薄膜との組み合わせ
による効果によるせいか、非晶質薄膜を設けないで、す
なわちＭｎ５Ｎｉを主成分として含むセラミック製の基
板上に直接軟磁性膜を設けたタイプの磁性材よりも、初
透磁率の磁気特性が大巾に優れていたのである。

尚、Ｍｎ、Ｎｉを主成分として含むセラミック製の基板
上に設ける非晶質薄膜は、その厚さが約０．５μｍ以下
で０．１μｍ以上、さらに望ましくは約０．１５〜０゜
２５μｍのものであることが好ましい。すなわち、非晶
質薄膜をＭｎ、Ｎｉを主成分として含むセラミック製の
基板上に設け、この非晶質薄膜上に軟磁性薄膜を設けた
場合において、非晶質薄膜の厚みが薄すぎる場合には磁
気特性の向上効果は弱く、実用上充分大きな効果が認め
られ始めるのは非晶質薄膜の厚みが約０．１μｍ以上、
より一層望ましくは約０．１５μｍ以上の場合であるか
らであり、そして非晶質薄膜の厚みが厚くなりすぎると
軟磁性薄膜の付着強度が低下することになり、又、非晶
質薄膜を厚く形成するには、それだけ時間もかかり、製
造能率も悪くなることより、非晶質薄膜の厚みは約０．
５ｔｔｍ以下、より一層望ましくは約０．２５μｍ以下
であることが好ましいのである。

又、非晶質薄膜上に形成される軟磁性薄膜については、
その厚みが約０．１〜６０μｍの場合には磁気特性向上
効果は充分に認められるが、通常の形態においては軟磁
性薄膜の厚みは約５〜２０／Ｉｍのものである。

〔実施例〕

第１図は本発明に係る磁性材の１実施例の一部断面図、
第２図はこの磁性材の磁気特性、すなわち初透磁率を示
すグラフである。

同図中、１は、Ｍｎ、Ｎｉを主成分として含むセラミッ
ク製、例えば日立金属■製のＭＮ　　１３０よりなるセ
ラミック製の外径１０闘、内径６ｍｍ、厚さ０．７朋の
トロイダルリング状の基板であり、この基板１の表面は
鏡面研磨されている。

２は、この基板１の鏡面研磨面上にＳｉＯｘを高周波ス
パッタ法によって設けた厚さ０．２５μｍの非晶質薄膜
である。

３は、この非晶質薄膜２上にセンダスト合金を高周波ス
パッタ法によって設けた厚さ１０μｍの軟磁性薄膜であ
る。

上記のように構成された磁性材について、０．１〜１０
ＭＨｚの領域において初透磁率を測定すると第２図に示
す通りである。

尚、第２図中、実線Ａは上記実施例に係るもの、点線Ｂ
は上記実施例の構成において非晶質薄膜２を設けなかっ
た磁性材に係るものであり、そして縦軸の単位は非晶質
薄膜２を設けなかった磁性材において１００ＫＨｚにお
ける初透磁率を１として表わしている。

これによれば、Ｍｎ、Ｎｉを主成分として含むセラミッ
ク材料を磁性材の基板として用いる場合には、この基板
上に直接軟磁性薄膜を設けるのではなく、この基板上に
は非晶質薄膜を設け、この非晶質薄膜上に軟磁性薄膜を
設けるようにすると、初透磁率の大巾な向上が図れるこ
とがわかる。

又、軟磁性薄膜として例えばセンダスト合金を用いて多
層形成する場合にあっても、基板側の最下層の軟磁性薄
膜と基板との間に絶縁性の非晶質薄膜が設けられている
ことより、最下層の軟磁性薄膜の磁気特性の改善が大き
いことより、積層膜全体の磁気特性は一段と良いものに
なる。

〔効果〕

本発明に係る磁性材は、Ｍｎ、Ｎｉを主成分として含む
セラミックの基板層と磁性層との間に非晶質薄膜を介在
させたものであるから、初透磁率等の磁気特性が大巾に
向上し、又、バルクな形態ではなく薄膜タイプのもので
あるから磁性層が有してν心ない物理的特性をＭｎ、Ｎ
ｉを主成分として含むセラミックの基板層で補えるもの
であり、従ってこの磁性材の応用範囲は広いものである
等の特長を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る磁性材の１実施例を示す一部の断
面図、第２図はこの実施例による磁性材および非晶質薄
膜を設けない磁性材の各初透磁率を示すグラフである。 １・・・基板、２・・・非晶質薄膜、３・・・軟磁性薄
膜。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　Ｍｎ、Ｎｉを主成分として含むセラミックの基板層と
   磁性層との間に非晶質薄膜を介在させたことを特徴とす
   る磁性材。