JPS6244552B2 - - Google Patents
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- JPS6244552B2 JPS6244552B2 JP54008303A JP830379A JPS6244552B2 JP S6244552 B2 JPS6244552 B2 JP S6244552B2 JP 54008303 A JP54008303 A JP 54008303A JP 830379 A JP830379 A JP 830379A JP S6244552 B2 JPS6244552 B2 JP S6244552B2
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- JP
- Japan
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- formula
- compound
- lower alkyl
- methyl
- alkali metal
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
- C07C309/63—Esters of sulfonic acids
- C07C309/64—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C309/65—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of a saturated carbon skeleton
- C07C309/66—Methanesulfonates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
- C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D311/04—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
- C07D311/58—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4
- C07D311/66—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring other than with oxygen or sulphur atoms in position 2 or 4 with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/16—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring the ring being unsaturated
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式
式中、Ｒ，R1，R2及びR3は水素または低級ア
ルキルであり、そしてR4は低級アルキルであ
る、 の化合物の新規な製造方法に関する。
ルキルであり、そしてR4は低級アルキルであ
る、 の化合物の新規な製造方法に関する。
米国特許第3947473号明細書には、なかでも、
一般式 式中、R1，R2，R3及びR4は上記の意味を有す
る、 の化合物並びにこれらの化合物の２種の異性体
型、 即ち 及び 式中、R1，R2，R3及びR4は上記の意味を有す
る、 への分割方法を明らかにしている。
一般式 式中、R1，R2，R3及びR4は上記の意味を有す
る、 の化合物並びにこれらの化合物の２種の異性体
型、 即ち 及び 式中、R1，R2，R3及びR4は上記の意味を有す
る、 への分割方法を明らかにしている。
多くの場合、その2S型における式′の化合
物、即ち式―Ｂの化合物を用いることが望まし
い。このことは、この化合物が天然の光学的活性
α―トコフエロール、即ち2R，4′R及び8′R配置
を有するα―トコフエロールに対する中間体であ
るので、R1，R2，R3及びR4がメチルである場合
に特にあてはまる。従つて、式―Ａの化合物は
望ましくない異性体であり、光学的に純粋な2S
型への転化が望ましい。
物、即ち式―Ｂの化合物を用いることが望まし
い。このことは、この化合物が天然の光学的活性
α―トコフエロール、即ち2R，4′R及び8′R配置
を有するα―トコフエロールに対する中間体であ
るので、R1，R2，R3及びR4がメチルである場合
に特にあてはまる。従つて、式―Ａの化合物は
望ましくない異性体であり、光学的に純粋な2S
型への転化が望ましい。
本発明に従えば、今回、式―Ａの光学的に純
粋な2R化合物を転化させて、光学的純粋な2S化
合物を生成し得ることがわかつた。従つて、本発
明は2R，4′R，8′R―α―トコフエロールを製造
する際の不必要な2R―異性体を利用する方法を
提供するものである。本方法において、式′の
異性体の双方を用いることができ、これによつて
2R，4′R，8′R―α―トコフエロール（天然のビ
タミンＥ）の全合成の経済性が改善される。更
に、改善された経済性を以つて、その光学的に活
性な2S―配置における式′の酸化防止剤を生成
せしめる方法を提供する。
粋な2R化合物を転化させて、光学的純粋な2S化
合物を生成し得ることがわかつた。従つて、本発
明は2R，4′R，8′R―α―トコフエロールを製造
する際の不必要な2R―異性体を利用する方法を
提供するものである。本方法において、式′の
異性体の双方を用いることができ、これによつて
2R，4′R，8′R―α―トコフエロール（天然のビ
タミンＥ）の全合成の経済性が改善される。更
に、改善された経済性を以つて、その光学的に活
性な2S―配置における式′の酸化防止剤を生成
せしめる方法を提供する。
本明細書に示した構造式において、分子の平面
より上で該分子に結合した置換基は〓によつて表
わし、分子の平面より下で該分子に結合した置換
基は〓によつて示す。式′の化合物におけるク
ロマン環の番号は便宜上の目的で示した。
より上で該分子に結合した置換基は〓によつて表
わし、分子の平面より下で該分子に結合した置換
基は〓によつて示す。式′の化合物におけるク
ロマン環の番号は便宜上の目的で示した。
本明細書において用いる低級アルキルなる語
は、炭素原子１〜７個を含む直鎖状及び分枝鎖状
の脂肪族飽和炭化水素基、例えばメチル、エチ
ル、ｎ―プロピル、イソプロピル、tert―ブチ
ル、イソブチル等を示す。ハロゲンなる語には４
種の全てのハロゲン、即ち塩素、臭素、フツ素及
びヨウ素が含まれる。
は、炭素原子１〜７個を含む直鎖状及び分枝鎖状
の脂肪族飽和炭化水素基、例えばメチル、エチ
ル、ｎ―プロピル、イソプロピル、tert―ブチ
ル、イソブチル等を示す。ハロゲンなる語には４
種の全てのハロゲン、即ち塩素、臭素、フツ素及
びヨウ素が含まれる。
上記式の化合物の製造方法は、一般式
式中、R′及びR5は低級アルキルであり、そし
てR1，R2，R3及びR4は上記の意味を有する、 の化合物を、有極性溶媒中にて、塩基の存在下に
おいて還元するか或いは還元した後に塩基を添加
し、そして必要に応じて、かくして得られるＲが
低級アルキルである式の化合物を加水分解する
ことを特徴とする。
てR1，R2，R3及びR4は上記の意味を有する、 の化合物を、有極性溶媒中にて、塩基の存在下に
おいて還元するか或いは還元した後に塩基を添加
し、そして必要に応じて、かくして得られるＲが
低級アルキルである式の化合物を加水分解する
ことを特徴とする。
本発明に従えば、上記の還元は立体配置の完全
な転化を伴なつて起こることがわかつた。この反
応は式の化合物を塩基の存在下において還元剤
で処理することにより行うことができる。本発明
の方法を行う際に、キノンをハイドロキノンに還
元するために用いられる通常の任意の還元剤を用
いることができる。好適なキノン還元剤の中に
は、アルカリ金属ヒドロ亜硫酸塩、アルカリ金属
水素化ホウ素化物または接触水素添加等が含まれ
る。アルカリ金属水素化ホウ素化物を用いる場合
には、好適な水素化ホウ素化物は水素化ホウ素化
ナトリウム、水素化ホウ素化カリウム及び水素化
ホウ素化リチウムである。好適なアルカリ金属ヒ
ドロ亜硫酸塩は、ヒドロ亜硫酸ナトリウム及びカ
リウムである。接触水素添加に用いる際の好適な
触媒は、パラジウム及び白金、並びに接触水素添
加に通常用いられる他の金属である。これらの触
媒は単独でまたは木炭もしくは炭素の如き通常の
担体上に担持させて用いることができる。
な転化を伴なつて起こることがわかつた。この反
応は式の化合物を塩基の存在下において還元剤
で処理することにより行うことができる。本発明
の方法を行う際に、キノンをハイドロキノンに還
元するために用いられる通常の任意の還元剤を用
いることができる。好適なキノン還元剤の中に
は、アルカリ金属ヒドロ亜硫酸塩、アルカリ金属
水素化ホウ素化物または接触水素添加等が含まれ
る。アルカリ金属水素化ホウ素化物を用いる場合
には、好適な水素化ホウ素化物は水素化ホウ素化
ナトリウム、水素化ホウ素化カリウム及び水素化
ホウ素化リチウムである。好適なアルカリ金属ヒ
ドロ亜硫酸塩は、ヒドロ亜硫酸ナトリウム及びカ
リウムである。接触水素添加に用いる際の好適な
触媒は、パラジウム及び白金、並びに接触水素添
加に通常用いられる他の金属である。これらの触
媒は単独でまたは木炭もしくは炭素の如き通常の
担体上に担持させて用いることができる。
式の化合物の還元剤による処理中の反応にお
いて、通常の任意の塩基が存在していてもよい。
一方、塩基を、還元を行つた後に用いることがで
き、またこの際にも通常の任意の塩基を用いるこ
とができる。好適な塩基の中には、無機塩基例え
ばアルカリ金属水酸化物並びに有機塩基例えばア
ルカリ金属低級アルコキシド、ピリジン及び低級
アルキルアミンがある。好適なアミンの中には、
トリ―（低級アルキル）アミン、例えばメチルジ
エチルアミン、トリエチルアミン、トリメチルア
ミン等が含まれる。
いて、通常の任意の塩基が存在していてもよい。
一方、塩基を、還元を行つた後に用いることがで
き、またこの際にも通常の任意の塩基を用いるこ
とができる。好適な塩基の中には、無機塩基例え
ばアルカリ金属水酸化物並びに有機塩基例えばア
ルカリ金属低級アルコキシド、ピリジン及び低級
アルキルアミンがある。好適なアミンの中には、
トリ―（低級アルキル）アミン、例えばメチルジ
エチルアミン、トリエチルアミン、トリメチルア
ミン等が含まれる。
一般に本反応は有極性溶媒中で行われる。本反
応を行う際に通常の任意の有極性溶媒を用いるこ
とができる。通常の有極性溶媒の中には低級アル
カノールまたはエーテル例えばジエチルエーテル
もしくはテトラヒドロフラン等が含まれる。この
反応を行う際に、温度及び圧力は臨界的ではな
く、この反応は室温乃至大気圧下で行うことがで
きる。一方、昇温または低温を用いることができ
る。一般にこの反応を約０℃〜70℃の温度で行う
ことが好ましい。
応を行う際に通常の任意の有極性溶媒を用いるこ
とができる。通常の有極性溶媒の中には低級アル
カノールまたはエーテル例えばジエチルエーテル
もしくはテトラヒドロフラン等が含まれる。この
反応を行う際に、温度及び圧力は臨界的ではな
く、この反応は室温乃至大気圧下で行うことがで
きる。一方、昇温または低温を用いることができ
る。一般にこの反応を約０℃〜70℃の温度で行う
ことが好ましい。
Ｒが低級アルキルである式の化合物の任意の
加水分解はエステル加水分解の普通の方法に従つ
て行うことができる。
加水分解はエステル加水分解の普通の方法に従つ
て行うことができる。
本発明の方法に出発物質として用いる上記式
の化合物は新規な化合物であり、このものはまた
本発明の一部を構成するものである。
の化合物は新規な化合物であり、このものはまた
本発明の一部を構成するものである。
式の新規な化合物は次の中間体
式中、R′，R1，R2，R3及びR4は上記の意味を
有する、 を介して、式―Ａの化合物から出発して製造す
ることができる。
有する、 を介して、式―Ａの化合物から出発して製造す
ることができる。
式―Ａの化合物の式の化合物への転化は低
級アルカノールによるエステル化によつて行うこ
とができる。この反応を行うために、有機酸を低
級アルカノールでエステル化する通常の任意の方
法を用いることができる。エステル化に対する好
適な方法の中では、式―Ａの化合物を有機酸例
えばｐ―トルエンスルホン酸の存在下において、
メタノールの如き低級アルカノールと反応させる
ことである。一般に低級アルカノールは溶媒媒質
として作用し得る。
級アルカノールによるエステル化によつて行うこ
とができる。この反応を行うために、有機酸を低
級アルカノールでエステル化する通常の任意の方
法を用いることができる。エステル化に対する好
適な方法の中では、式―Ａの化合物を有機酸例
えばｐ―トルエンスルホン酸の存在下において、
メタノールの如き低級アルカノールと反応させる
ことである。一般に低級アルカノールは溶媒媒質
として作用し得る。
式の化合物の式の化合物への転化は酸化剤
で処理して行うことができる。使用し得る酸化剤
は、ヒドロキノンをベンゾキノンに転化する通常
の任意の酸化剤であることができる。好適な酸化
剤の中には、塩化第二鉄、硝酸、硫酸セリウム等
が含まれる。この反応を行う際に、この酸化剤を
用いる際の通常の任意の条件を用いることができ
る。
で処理して行うことができる。使用し得る酸化剤
は、ヒドロキノンをベンゾキノンに転化する通常
の任意の酸化剤であることができる。好適な酸化
剤の中には、塩化第二鉄、硝酸、硫酸セリウム等
が含まれる。この反応を行う際に、この酸化剤を
用いる際の通常の任意の条件を用いることができ
る。
式の化合物は式
R5SO2X Ｖ
式中、R5は上記の意味を有し、そしてＸはハ
ロゲンである、 の化合物で処理して式の化合物に転化すること
ができる。
ロゲンである、 の化合物で処理して式の化合物に転化すること
ができる。
式の化合物において、R5は低級アルキル基
であることができる。式の好適な化合物はメタ
ンスルホニルクロライドである。
であることができる。式の好適な化合物はメタ
ンスルホニルクロライドである。
一般に、式の化合物と式の化合物との反応
による式の化合物の生成は有機アミン塩基の存
在下において行われる。この反応を行う際に、通
常の任意の有機アミン塩基を用いることができ
る。好適な塩基の中には、トリ（低級アルキル）
アミン及びピリジンが含まれる。この反応を行う
際に、通常の任意のトリ（低級アルキル）アミ
ン、例えばメチルジエチルアミン、トリエチルア
ミン、トリメチルアミン等を用いることができ
る。一般にこの反応は不活性有機溶媒の存在下に
おいて行われる。通常の任意の不活性有機溶媒を
用いることができる。好適な不活性有機溶媒の中
には、ハロゲン化された炭化水素例えばジクロロ
メタン等がある。この反応を行う際に、約−20℃
〜＋10℃の温度が一般に用いられる。
による式の化合物の生成は有機アミン塩基の存
在下において行われる。この反応を行う際に、通
常の任意の有機アミン塩基を用いることができ
る。好適な塩基の中には、トリ（低級アルキル）
アミン及びピリジンが含まれる。この反応を行う
際に、通常の任意のトリ（低級アルキル）アミ
ン、例えばメチルジエチルアミン、トリエチルア
ミン、トリメチルアミン等を用いることができ
る。一般にこの反応は不活性有機溶媒の存在下に
おいて行われる。通常の任意の不活性有機溶媒を
用いることができる。好適な不活性有機溶媒の中
には、ハロゲン化された炭化水素例えばジクロロ
メタン等がある。この反応を行う際に、約−20℃
〜＋10℃の温度が一般に用いられる。
以下の実施例は本発明をさらに説明するもので
あるが、本発明を限定するものではない。実施例
中、エーテルはジエチルエーテルである。更に、
「普通の処理」には特定の溶媒による３回の抽出
が含まれる。次に有機抽出液を水及び飽和塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、過
し、そしてアスピレーターによる減圧下にて40〜
50℃で濃縮する。残渣を高真空下で一定重量にな
るまで乾燥する。特記せぬ限り、反応はアルゴン
雰囲気下で行つた。カラムクロマトグラフイはシ
リカゲルを用いて行つた。全ての温度は摂氏度
（℃）である。
あるが、本発明を限定するものではない。実施例
中、エーテルはジエチルエーテルである。更に、
「普通の処理」には特定の溶媒による３回の抽出
が含まれる。次に有機抽出液を水及び飽和塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、過
し、そしてアスピレーターによる減圧下にて40〜
50℃で濃縮する。残渣を高真空下で一定重量にな
るまで乾燥する。特記せぬ限り、反応はアルゴン
雰囲気下で行つた。カラムクロマトグラフイはシ
リカゲルを用いて行つた。全ての温度は摂氏度
（℃）である。
実施例 １
（Ｓ）―（−）―３，４―ジヒドロ―６―ヒド
ロキシ―２，５，７，８―テトラメチル―2H―
１―ベンゾピラン―２―カルボン酸メチルエステ
ル メタノール５ml中の（Ｒ）―（−）―メチル―
２―メチル―２―〔（メチルスルホニル）オキ
シ〕―４―（２，４，５―トリメチル―３，６―
ジオキソ―１，４―シクロヘキサジエン―１―イ
ル）―ブタノエート0.358ｇ（１ミリモル）のス
ラリを室温で速かに撹拌し、一方1N水酸化ナト
リウム水溶液３ml中の二チオン酸ナトリウム
0.261ｇ（1.5ミリモル）の溶液を５分間にわたつ
て滴下した。生じた混合物を室温で20分間撹拌
し、次に５分間還流させた。冷却後、水20mlを加
え、無色のスラリを吸引過した。固体分を水で
洗浄し、次に高真空下で乾燥し、無色の固体とし
て（Ｓ）―（−）―３，４―ジヒドロ―６―ヒド
ロキシ―２，５，７，８―テトラメチル―2H―
１―ベンゾピラン―２―カルボン酸メチルエステ
ル0.246ｇ（93.2％）を得た；融点132.5〜135゜；
〔α〕２５ Ｄ―60.62゜（c3.09，CH3OH）。
ロキシ―２，５，７，８―テトラメチル―2H―
１―ベンゾピラン―２―カルボン酸メチルエステ
ル メタノール５ml中の（Ｒ）―（−）―メチル―
２―メチル―２―〔（メチルスルホニル）オキ
シ〕―４―（２，４，５―トリメチル―３，６―
ジオキソ―１，４―シクロヘキサジエン―１―イ
ル）―ブタノエート0.358ｇ（１ミリモル）のス
ラリを室温で速かに撹拌し、一方1N水酸化ナト
リウム水溶液３ml中の二チオン酸ナトリウム
0.261ｇ（1.5ミリモル）の溶液を５分間にわたつ
て滴下した。生じた混合物を室温で20分間撹拌
し、次に５分間還流させた。冷却後、水20mlを加
え、無色のスラリを吸引過した。固体分を水で
洗浄し、次に高真空下で乾燥し、無色の固体とし
て（Ｓ）―（−）―３，４―ジヒドロ―６―ヒド
ロキシ―２，５，７，８―テトラメチル―2H―
１―ベンゾピラン―２―カルボン酸メチルエステ
ル0.246ｇ（93.2％）を得た；融点132.5〜135゜；
〔α〕２５ Ｄ―60.62゜（c3.09，CH3OH）。
出発物質として用いた（Ｒ）―（−）―メチル
―２―メチル―２―〔（メチルスルホニル）オキ
シ〕―４―（２，４，５―トリメチル―３，６―
ジオキソ―１，４―シクロヘキサジエン―１―イ
ル）―ブタノエートは次の如くして製造した： Ａ （Ｒ）―（＋）―３，４―ジヒドロ―６―ヒ
ドロキシ―２，５，７，８―テトラメチル―
2H―１―ベンゾピラン―２―カルボン酸メチ
ルエステル メタノール40ml中の光学的に純粋な（Ｒ）―
（＋）―３，４―ジヒドロ―６―ヒドロキシ―
２，５，７，８―テトラメチル―2H―１―ベ
ンゾピラン―２―カルボン酸｛〔α〕２５ Ｄ＋65.84
゜（c1.18，C2H5OH）｝２ｇ（８ミリモル）及
びｐ―トルエンスルホン酸―水和物0.1ｇの溶
液を撹拌し、3.75時間還流させた。冷却後、こ
の溶液を水で希釈し、常法にてエーテルで処理
し（エーテル抽出液を追加的に飽和重炭酸ナト
リウム水溶液で洗浄した）、無色の固体として
（Ｒ）―（＋）―３，４―ジヒドロ―６―ヒド
ロキシ―２，５，７，８―テトラメチル―2H
―１―ベンゾピラン―２―カルボン酸メチルエ
ステル２ｇ（94.7％）を得た；融点132〜134.5
゜；〔α〕２５ Ｄ＋61.4゜（c4.91、CH3OH）。一部
試料を水性メタノールから再結晶して、無色の
固体として分析用試料を得た；融点133.5―135
゜；〔α〕２５ Ｄ＋61.85゜（c5.07、CH3OH）。
―２―メチル―２―〔（メチルスルホニル）オキ
シ〕―４―（２，４，５―トリメチル―３，６―
ジオキソ―１，４―シクロヘキサジエン―１―イ
ル）―ブタノエートは次の如くして製造した： Ａ （Ｒ）―（＋）―３，４―ジヒドロ―６―ヒ
ドロキシ―２，５，７，８―テトラメチル―
2H―１―ベンゾピラン―２―カルボン酸メチ
ルエステル メタノール40ml中の光学的に純粋な（Ｒ）―
（＋）―３，４―ジヒドロ―６―ヒドロキシ―
２，５，７，８―テトラメチル―2H―１―ベ
ンゾピラン―２―カルボン酸｛〔α〕２５ Ｄ＋65.84
゜（c1.18，C2H5OH）｝２ｇ（８ミリモル）及
びｐ―トルエンスルホン酸―水和物0.1ｇの溶
液を撹拌し、3.75時間還流させた。冷却後、こ
の溶液を水で希釈し、常法にてエーテルで処理
し（エーテル抽出液を追加的に飽和重炭酸ナト
リウム水溶液で洗浄した）、無色の固体として
（Ｒ）―（＋）―３，４―ジヒドロ―６―ヒド
ロキシ―２，５，７，８―テトラメチル―2H
―１―ベンゾピラン―２―カルボン酸メチルエ
ステル２ｇ（94.7％）を得た；融点132〜134.5
゜；〔α〕２５ Ｄ＋61.4゜（c4.91、CH3OH）。一部
試料を水性メタノールから再結晶して、無色の
固体として分析用試料を得た；融点133.5―135
゜；〔α〕２５ Ｄ＋61.85゜（c5.07、CH3OH）。
B1 （Ｒ）―（−）―メチル２―ヒドロキシ―
２―メチル―４―（２，４，５―トリメチル―
３，６―ジオキソ―１，４―シクロヘキサジエ
ン―１―イル）―ブタノエート エーテル22ml中の（Ｒ）―（＋）―３，４―
ジヒドロ―６―ヒドロキシ―２，５，７，８―
テトラメチル―2H―１―ベンゾピラン―２―
カルボン酸メチルエステル1.5ｇ（5.68ミリモ
ル）の撹拌された溶液に、水17ml及びメタノー
ル17ml中の塩化第二鉄・６水和物4.5ｇ（16.6
ミリモル）の溶液を加えた。この添加は0.5時
間間隔でほぼ６mlづつ行つた。最後の添加後30
分目に、エーテル層を分離し、水相を更に常法
でエーテル抽出した。黄色の油1.5ｇが得ら
れ、このものをシリカゲル75ｇ上でクロマトグ
ラフイにかけた。トルエン／酢酸エチル９：１
容量部及び４：１容量部で溶離し、黄色油とし
て（Ｒ）―（−）―メチル２―ヒドロキシ―２
―メチル―４―（２，４，５―トリメチル―
３，６―ジオキソ―１，４―シクロヘキサジエ
ン―１―イル）―ブタノエート1.35ｇ（84..9
％）が得られた；〔α〕２５ Ｄ―21.01゜（c0.96、
CHCl3）。
２―メチル―４―（２，４，５―トリメチル―
３，６―ジオキソ―１，４―シクロヘキサジエ
ン―１―イル）―ブタノエート エーテル22ml中の（Ｒ）―（＋）―３，４―
ジヒドロ―６―ヒドロキシ―２，５，７，８―
テトラメチル―2H―１―ベンゾピラン―２―
カルボン酸メチルエステル1.5ｇ（5.68ミリモ
ル）の撹拌された溶液に、水17ml及びメタノー
ル17ml中の塩化第二鉄・６水和物4.5ｇ（16.6
ミリモル）の溶液を加えた。この添加は0.5時
間間隔でほぼ６mlづつ行つた。最後の添加後30
分目に、エーテル層を分離し、水相を更に常法
でエーテル抽出した。黄色の油1.5ｇが得ら
れ、このものをシリカゲル75ｇ上でクロマトグ
ラフイにかけた。トルエン／酢酸エチル９：１
容量部及び４：１容量部で溶離し、黄色油とし
て（Ｒ）―（−）―メチル２―ヒドロキシ―２
―メチル―４―（２，４，５―トリメチル―
３，６―ジオキソ―１，４―シクロヘキサジエ
ン―１―イル）―ブタノエート1.35ｇ（84..9
％）が得られた；〔α〕２５ Ｄ―21.01゜（c0.96、
CHCl3）。
B2 エーテル25ml中の（Ｒ）―（＋）―３，４
―ジヒドロ―６―ヒドロキシ―２，５，７，８
―テトラメチル―2H―１―ベンゾピラン―２
―カルボン酸メチルエステル｛〔α〕２５ Ｄ＋61.00
゜（c3.05、CH3OH）｝2.64ｇ（10ミリモル）
の懸濁液を氷浴で冷却しながらはげしく撹拌
し、一方、70重量％水性硝酸５ml（80ミリモ
ル）を15分間にわたつて滴下した。生じた鮮や
かな黄色溶液を過剰量の飽和重炭酸ナトリウム
水溶液に注意して注いだ。常法にてエーテルで
処理し、黄色油として（Ｒ）―（−）―メチル
２―ヒドロキシ―２―メチル―４―（２，４，
５―トリメチル―３，６―ジオキソ―１，４―
シクロヘキサジエン―１―イル）―ブタノエー
ト2.78ｇ（99.5％）を得た。この物質は上記の
B1における如くして製造したものと同一であ
つた。
―ジヒドロ―６―ヒドロキシ―２，５，７，８
―テトラメチル―2H―１―ベンゾピラン―２
―カルボン酸メチルエステル｛〔α〕２５ Ｄ＋61.00
゜（c3.05、CH3OH）｝2.64ｇ（10ミリモル）
の懸濁液を氷浴で冷却しながらはげしく撹拌
し、一方、70重量％水性硝酸５ml（80ミリモ
ル）を15分間にわたつて滴下した。生じた鮮や
かな黄色溶液を過剰量の飽和重炭酸ナトリウム
水溶液に注意して注いだ。常法にてエーテルで
処理し、黄色油として（Ｒ）―（−）―メチル
２―ヒドロキシ―２―メチル―４―（２，４，
５―トリメチル―３，６―ジオキソ―１，４―
シクロヘキサジエン―１―イル）―ブタノエー
ト2.78ｇ（99.5％）を得た。この物質は上記の
B1における如くして製造したものと同一であ
つた。
Ｃ （Ｒ）―（−）―メチル２―メチル―２―
〔（メチルスルホニル）オキシ〕―４―（２，
４，５―トリメチル―３，６―ジオキソ―１，
４―シクロヘキサジエン―１―イル）―ブタノ
エート 氷浴中で冷却したジクロロメタン18ml中の
（Ｒ）―（−）―メチル２―ヒドロキシ―２―
メチル―４―（２，４，５―トリメチル―３，
６―ジオキソ―１，４―シクロヘキサジエン―
１―イル）―ブタノエート0.746ｇ（2.66ミリ
モル）の撹拌された溶液に、トリエチルアミン
2.43ml（1.77ｇ；17.5ミリモル）、次いでメタン
スルホニルクロライド1.35ml（2.01ｇ；17.5ミ
リモル）を加えた。この混合物を０℃に64時間
保持し、次に水で処理した。このジクロロメタ
ン溶液を常法で処理し、油状の生成物1.45ｇが
得られ、このものをシリカゲル75ｇ上でクロマ
トグラフイにかけた。トルエン／酢酸エチル
９；１容量部で溶離し、黄色固体として（Ｒ）
―（−）―メチル２―メチル―２―〔（メチル
スルホニル）オキシ〕―４―（２，４，５―ト
リメチル―３，６―ジオキソ―１，４―シクロ
ヘキサジエン―１―イル）―ブタノエート0.69
ｇ（72.5％）を得た。この試料をヘキサン／酢
酸エチルから再結晶し、黄色の結晶を得た；融
点112―114゜；〔α〕２５ Ｄ−5.24゜（c1.05、
CHCl3）。
〔（メチルスルホニル）オキシ〕―４―（２，
４，５―トリメチル―３，６―ジオキソ―１，
４―シクロヘキサジエン―１―イル）―ブタノ
エート 氷浴中で冷却したジクロロメタン18ml中の
（Ｒ）―（−）―メチル２―ヒドロキシ―２―
メチル―４―（２，４，５―トリメチル―３，
６―ジオキソ―１，４―シクロヘキサジエン―
１―イル）―ブタノエート0.746ｇ（2.66ミリ
モル）の撹拌された溶液に、トリエチルアミン
2.43ml（1.77ｇ；17.5ミリモル）、次いでメタン
スルホニルクロライド1.35ml（2.01ｇ；17.5ミ
リモル）を加えた。この混合物を０℃に64時間
保持し、次に水で処理した。このジクロロメタ
ン溶液を常法で処理し、油状の生成物1.45ｇが
得られ、このものをシリカゲル75ｇ上でクロマ
トグラフイにかけた。トルエン／酢酸エチル
９；１容量部で溶離し、黄色固体として（Ｒ）
―（−）―メチル２―メチル―２―〔（メチル
スルホニル）オキシ〕―４―（２，４，５―ト
リメチル―３，６―ジオキソ―１，４―シクロ
ヘキサジエン―１―イル）―ブタノエート0.69
ｇ（72.5％）を得た。この試料をヘキサン／酢
酸エチルから再結晶し、黄色の結晶を得た；融
点112―114゜；〔α〕２５ Ｄ−5.24゜（c1.05、
CHCl3）。
実施例 ２
（Ｒ）―（−）―メチル２―メチル―２―
〔（メチルスルホニル）オキシ〕―４―（２，４，
５―トリメチル―３，６―ジオキソ―１，４―シ
クロヘキサジエン―１―イル）ブタノエート（実
施例１に従つて製造したもの）１ｇ（2.76ミリモ
ル）、木炭に担持させた５％パラジウム0.2ｇ及び
メタノール125mlの混合物を、ガスの吸収が終了
するまで、水素雰囲気下で撹拌した。触媒をセラ
イトのパツド上で吸引過し、液を1.34Mメタ
ノール性ナトリウムメチレート8.3ml（11.16ミリ
モル）で直ちに処理した。室温で１時間撹拌した
後、この溶液を3N塩酸で酸性にし、飽和塩水中
に注いだ。常法においてエーテルで処理し、黄褐
色の固体0.638ｇを生じ、このものをシリカゲル
25ｇ上でクロマトグラフイにかけた。トルエン／
酢酸エチル19：１容量部及び９：１容量部で溶離
し、無色の固体として（Ｓ）―（−）―３，４―
ジヒドロ―６―ヒドロキシ―２，５，６，８―テ
トラメチル―2H―１―ベンゾピラン―２―カル
ボン酸メチルエステル0.491ｇ（66.7％）を得
た；〔α〕２５ Ｄ−59.93゜（c3.01、CH3OH）。
〔（メチルスルホニル）オキシ〕―４―（２，４，
５―トリメチル―３，６―ジオキソ―１，４―シ
クロヘキサジエン―１―イル）ブタノエート（実
施例１に従つて製造したもの）１ｇ（2.76ミリモ
ル）、木炭に担持させた５％パラジウム0.2ｇ及び
メタノール125mlの混合物を、ガスの吸収が終了
するまで、水素雰囲気下で撹拌した。触媒をセラ
イトのパツド上で吸引過し、液を1.34Mメタ
ノール性ナトリウムメチレート8.3ml（11.16ミリ
モル）で直ちに処理した。室温で１時間撹拌した
後、この溶液を3N塩酸で酸性にし、飽和塩水中
に注いだ。常法においてエーテルで処理し、黄褐
色の固体0.638ｇを生じ、このものをシリカゲル
25ｇ上でクロマトグラフイにかけた。トルエン／
酢酸エチル19：１容量部及び９：１容量部で溶離
し、無色の固体として（Ｓ）―（−）―３，４―
ジヒドロ―６―ヒドロキシ―２，５，６，８―テ
トラメチル―2H―１―ベンゾピラン―２―カル
ボン酸メチルエステル0.491ｇ（66.7％）を得
た；〔α〕２５ Ｄ−59.93゜（c3.01、CH3OH）。
実施例 ３
メタノール30ml中の（Ｒ）―（−）―メチル２
―メチル―２―〔（メチルスルホニル）オキシ〕
―４―（２，４，５―トリメチル―３，６―ジオ
キソ―１，４―シクロヘキサジエン―１―イル）
―ブタノエート（実施例１に従つて製造したも
の）0.5ｇ（1.4ミリモル）の溶液に室温で撹拌し
ながら、メタノール10ml中の水素化ホウ素ナトリ
ウム20.2mg（0.53ミリモル）の溶液を滴下した。
室温で50分間撹拌した後、1.34Mメタノール性ナ
トリウムメチレート5.77ml（7.73ミリモル）を加
え、撹拌を室温で２時間続けた。生じた溶液を
1N塩酸で酸性にし、次に飽和塩水中に注ぎ、常
法においてエーテルで処理した。粗製の結晶性生
成物（0.34ｇ）をシリカゲル20ｇ上でクロマトグ
ラフイにかけた。トルエン／酢酸エチル19：１容
量部で溶離し、無色の固体として（Ｓ）―（−）
―３，４―ジヒドロ―６―ヒドロキシ―２，５，
７，８―テトラメチル―2H―１―ベンゾピラン
―２―カルボン酸メチルエステル0.311ｇ（84.1
％）を得た；融点131〜134゜；〔α〕２５ Ｄ−60.46゜
（c3.88、CH3OH）。
―メチル―２―〔（メチルスルホニル）オキシ〕
―４―（２，４，５―トリメチル―３，６―ジオ
キソ―１，４―シクロヘキサジエン―１―イル）
―ブタノエート（実施例１に従つて製造したも
の）0.5ｇ（1.4ミリモル）の溶液に室温で撹拌し
ながら、メタノール10ml中の水素化ホウ素ナトリ
ウム20.2mg（0.53ミリモル）の溶液を滴下した。
室温で50分間撹拌した後、1.34Mメタノール性ナ
トリウムメチレート5.77ml（7.73ミリモル）を加
え、撹拌を室温で２時間続けた。生じた溶液を
1N塩酸で酸性にし、次に飽和塩水中に注ぎ、常
法においてエーテルで処理した。粗製の結晶性生
成物（0.34ｇ）をシリカゲル20ｇ上でクロマトグ
ラフイにかけた。トルエン／酢酸エチル19：１容
量部で溶離し、無色の固体として（Ｓ）―（−）
―３，４―ジヒドロ―６―ヒドロキシ―２，５，
７，８―テトラメチル―2H―１―ベンゾピラン
―２―カルボン酸メチルエステル0.311ｇ（84.1
％）を得た；融点131〜134゜；〔α〕２５ Ｄ−60.46゜
（c3.88、CH3OH）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 式中、Ｒ，R1，R2及びR3は水素または低級ア
ルキルであり、そしてR4は低級アルキルであ
る、 のクロマン誘導体を製造するにあたり、一般式 式中、R′及びR5は低級アルキルであり、そし
てR1，R2，R3及びR4は上記の意味を有する、 の化合物を、有極性溶媒中にて、塩基の存在下に
おいて還元するか或いは還元した後に塩基を添加
し、そして必要に応じて、かくして得られるＲが
低級アルキルである式の化合物を加水分解する
ことを特徴とする上記一般式のクロマン誘導体
の製造方法。 ２ 塩基としてアルカリ金属水酸化物、アルカリ
金属アルコキシド、トリ（低級アルキル）アミン
またはピリジンを用いる特許請求の範囲第１項記
載の方法。 ３ 該還元を接触水素添加によつて行う特許請求
の範囲第１または第２項記載の方法。 ４ 該還元をアルカリ金属水素化ホウ素化物また
はアルカリ金属ヒドロ亜硫酸塩を用いて行う特許
請求の範囲第１または２項記載の方法。 ５ R1，R2，R3及びR4がメチルである式の出
発物質を用いる特許請求の範囲第１〜４項のいず
れかに記載の方法。 ６ R5がメチルである式の出発物質を用いる
特許請求の範囲第１〜５項のいずれかに記載の方
法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/873,185 US4150050A (en) | 1978-01-30 | 1978-01-30 | 3,6-Dioxo-1,4-cyclohexadien-1-yl-butandate esters |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54109979A JPS54109979A (en) | 1979-08-29 |
| JPS6244552B2 true JPS6244552B2 (ja) | 1987-09-21 |
Family
ID=25361135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP830379A Granted JPS54109979A (en) | 1978-01-30 | 1979-01-29 | Method of manufacturing chroman derivative |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4150050A (ja) |
| EP (1) | EP0003221B1 (ja) |
| JP (1) | JPS54109979A (ja) |
| DE (1) | DE2861758D1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01107247U (ja) * | 1988-01-08 | 1989-07-19 | ||
| JPH0265551A (ja) * | 1988-08-31 | 1990-03-06 | Sharp Corp | 自動ダイヤル装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3010505A1 (de) * | 1980-03-19 | 1981-10-01 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Chromanderivate, verfahren zu ihrer herstellung, ihre verwendung als stabilisatoren von organischen materialien sowie diese stabilisatoren enthaltende organische materialien |
| ZA844519B (en) * | 1983-06-24 | 1985-02-27 | Hoffmann La Roche | Dihydrobenzopyran derivatives |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ZA739471B (en) * | 1972-12-22 | 1974-08-28 | Hoffmann La Roche | Chromane derivatives |
| US3947473A (en) * | 1972-12-22 | 1976-03-30 | Hoffman-La Roche Inc. | Antioxidant chroman compounds |
-
1978
- 1978-01-30 US US05/873,185 patent/US4150050A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-12-12 EP EP78101641A patent/EP0003221B1/en not_active Expired
- 1978-12-12 DE DE7878101641T patent/DE2861758D1/de not_active Expired
-
1979
- 1979-01-29 JP JP830379A patent/JPS54109979A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01107247U (ja) * | 1988-01-08 | 1989-07-19 | ||
| JPH0265551A (ja) * | 1988-08-31 | 1990-03-06 | Sharp Corp | 自動ダイヤル装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0003221A2 (en) | 1979-08-08 |
| EP0003221B1 (en) | 1982-04-21 |
| JPS54109979A (en) | 1979-08-29 |
| EP0003221A3 (en) | 1979-08-22 |
| US4150050A (en) | 1979-04-17 |
| DE2861758D1 (en) | 1982-06-03 |
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