JPS6245269B2 - - Google Patents

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JPS6245269B2
JPS6245269B2 JP58127874A JP12787483A JPS6245269B2 JP S6245269 B2 JPS6245269 B2 JP S6245269B2 JP 58127874 A JP58127874 A JP 58127874A JP 12787483 A JP12787483 A JP 12787483A JP S6245269 B2 JPS6245269 B2 JP S6245269B2
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JP
Japan
Prior art keywords
polymer
aromatic
conductivity
thermal decomposition
heat treatment
Prior art date
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Expired
Application number
JP58127874A
Other languages
English (en)
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JPS6020944A (ja
Inventor
Yoshitsugu Isamoto
Mutsuaki Murakami
Susumu Yoshimura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Shingijutsu Kaihatsu Jigyodan
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Shingijutsu Kaihatsu Jigyodan
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd, Shingijutsu Kaihatsu Jigyodan, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP58127874A priority Critical patent/JPS6020944A/ja
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
a 産業上の利用分野 本発明は高分子よりなる新規な電導体に関す
る。特に本発明は電子回路素子用電導体、各種セ
ンサー材料などに利用される熱的および化学的安
定性が高くかつ可撓性を有する高電導性高分子電
導体に関する。 b 従来例の構成とその問題点 従来絶縁体として知られている高分子材料に電
気伝導性を付与し、新規な機能を発現させようと
いう動きが最近活発に行なわれているが、その手
法としては大きく分けて2つの方法がある。その
第一はポリアセチレン、ポリパラフエニレンなど
に代表される線状の共役高分子に不純物を多量に
添加するいわゆる化学的ドーピングによる方法で
ある。この方法ではポリアセチレンで最高
4000S/cmの電導度が実現されており、一見最良
の方法であるように思われる。しかしながら、高
電導度を達成するには、添加物として5フツ化ヒ
素のような超強酸あるいはヨウ素のようなハロゲ
ンン分子を用いることが必須で、このようにして
得られた電導体は空気中での安定性に劣り、エレ
クトロニクス部分等の高度の信頼性を要求される
分野で使用することはほとんど不可能である。高
電導性高分子を実現する第二の方法として、高分
子の熱分解がある。この方法は高分子を真空中ま
たは不活性気体中で熱処理し、分解および重縮合
反応を経て、炭素質物を形成させる方法である
が、どのような高分子を出発材料として用いても
高電導性生成物が得られるのではない。たとえば
従来知られている高分子で比較的高い電導度を与
えるものは、ポリアクリロニトリル(以下PAN
と記載する)とポリイミド(以下PIと記載する)
のみである。PANでは900℃の熱分解で20S/cm
の電導度が(N.GrassieおよびJ.C.McHeil氏、
Journal of Polymer Science誌27巻707頁(1958
年))またPIでは800℃48時間の熱分解で100S/
cmの電導度が(H.B.Brom氏等、Solid State
Communications誌35巻135頁(1980年))得られ
ている。このような熱分解高分子は耐熱性および
化学的安定性に優れ、また、出発高分子の性質に
従い、皮膜、粉末、繊維など任意の形状で得られ
るという利点があるため、工業的な利用を考える
場合は、化学ドーピングによつて得られる電導性
高分子より遥かに重要な材料であると言える。し
かしながら、この様な高分子の熱分解法をもちい
て高い電導度を得るためには800℃以上の高温が
必要である事、又せつかく得られた生成物に可撓
性がなく、可撓性の要求される様な利用は出来な
い事、の2つの欠点を有している。すなわち、比
較的低温で上記の様な高電導性が実現出来れば、
製造コストの面で大きなメリツトとなり、さらに
生成物が可撓性を有しているならば、その応用の
範囲は大きく広がるものと考えられる。 c 発明の目的 本発明は以上のような電導性高分子に関するい
くつかの問題点を解決するためになされたもの
で、200〜650℃の特定条件による熱分解法と化学
的ドーピング法を組み合せる事により、従来の熱
処理温度に比べて、より低温で安定性と高電導性
をかねそなえた電導性高分子を提供する事を目的
とする。さらに本発明は上記熱処理温度を限定す
る事によつて安定性と高電導性に加えて可撓性を
もそなえた電導性高分子を提供する事を目的とす
る。 d 発明の構成 熱分解により高電導体となる高分子が従来
PANとPIに限られていたことは、一方ではその
ような高分子を設計および合成することの難しさ
を意味し、他方では高分子構造が電導性と密接に
関係している事を示している。すなわち、真空中
又は不活性ガス中の熱処理によつて高い電導性を
得るためには、出発高分子は次の2つの条件を具
備していなければならない。(1)熱分解反応におい
て単に高分子が低分子に分解しして反応系から揮
発するだけではなく、同時に再結合反応が進行す
る事。(2)その再結合反応によつてベンゼン環など
が縮合した多環構造が発達する事。 しかしながら、この(2)の条件が進行する事は同
時に高分子の可撓性が減少する事を意味してお
り、可撓性を保つためには縮合芳香族環の発達を
適当な段階で止める必要がある。むろんそれは高
い電導性が表われない事を意味しているが、我々
はこの様な芳香族環未発達の構造の物質において
も、未発達の縮合芳香族環同志の間に適当な電導
パスを作る事が出来れば高い電導度が得られるの
ではないかと考えた。そしてその様な電導パスを
化学的なドーピングによつて作り出そうと考え
た。 したがつて、本発明の最も基本的な構造は高分
子を200℃以上で、最高で、その高分子の可撓性
が失われる直前の温度の650℃の間で加熱し、そ
の後その材料に化学的なドーピングを行なつて高
電導性を付与する、と言う2段階の処理によつて
成り立つている。 上記の様な考察にもとずき我々は数多くの高分
子を検討した。その結果、多くの高分子は、上記
(1)、(2)の条件を満足しなかつたが、芳香族ポリア
ミド類、芳香族ポリイミド類、芳香族ポリアミド
イミド類、芳香族ポリオキサジアゾール類、芳香
族ポリチアジアゾール、ポリパラフエニレン、ポ
リパラフエニレンサルフアイド、ポリベンゾイミ
ダゾール、ポリベンゾイミダフエナトロリン等の
加熱により熱分解と再結合により芳香族多環構造
を形成する各高分子においては200〜650℃で熱処
理し処理し、Li、Na、K、Rb及びCsから選ばれ
たアルカリ金属のナフタレン、ビフエニルまたは
アントラセン化合物の溶液で化学的ドーピングを
行えばすぐれた電導性、熱的安定性、可撓性の条
件がみたされる事が分つた。 一般にこれらの高分子は200〜650℃の間で減量
反応(分解反応)が起こる。この反応の終了と共
に高分子の可撓性は急激に失われて行く。したが
つて、本発明における熱処理温度の上限はこの様
な減量反応の終了前の650℃の温度を意味する。
又、この熱処理が空気中又は酸素の存在下中で行
われた場合には酸化反応が進行する場合が多い。
したがつて本発明による熱処理は真空中またはア
ルゴン、ヘリウム、窒素などの不活性ガス中で行
う必要がある。一方、本発明に使用する高分子は
耐熱性高分子と言われるものであり、一般に200
℃以下の温度では長時間の熱処理によつても高分
子はほとんど変化しない事が知られている。した
がつて本発明による熱処理温度範囲の下限は通常
200℃以上である。 次に本発明の第2段階の処理である化学的ドー
ピング課程について述べる。我々は上記の様な熱
処理の後に行われる化学的ドーピングについても
多くの検討を行つた。その結果本発明における高
分子類の場合には、Li、Na、K、Rb及びCsのア
ルカリ金属のナフタレン、ビフエニルまたはアン
トラセン化合物の溶液に浸漬することにより容易
に化学的にドーピングされることが分つた。 ナトリウムナフタレン溶液によるドーピングは
最も効果が大きく、最高12桁の電導度の向上がみ
られた。次いで、リチウムナフタレン、カリウム
ナフタレンでは6〜7桁の電導度の向上がみら
れ、リチウムビフエニル、ナトリウムビフエニ
ル、カリウムビフエニル、リチウムアントラセ
ン、ナトリウムアントラセン、カリウムアントラ
センでは3〜5桁の電導度の向上が見られた。 e 実施例 実施例 1 代表例として次の式に表す化学構造式を有する
5種類の高分子膜を選択した。 ただし、nは重合度を表わす整数である。 これらの高分子皮膜(25ミクロン)をアルミナ
基板でサンドイツチし、アルゴン気流中で、毎分
10℃の速度で昇温し、所望の温度TPで1時間処
理し、毎分40℃の速度で降温させた。温度TP
各高分子皮膜を毎分10℃の速度でTGAを測定し
た場合の第一次減量反応の終了点よりも20℃低い
温度に設定した。この様にして得られた高分子皮
膜は黒色に変色していたがまだ十分な可撓性を有
していた。得られた皮膜に銀ペーストを用いて4
端子電極を付与し、定電流電源およびデイジタル
ボルトメータを用いて電気伝導度を測定した。そ
の後試料をガラス反応容器内にて、ナトリウムナ
フタレンの脱水及び脱酸素処理したテトラヒドロ
フラン溶液中に24時間浸漬した。次いで24時間浸
漬後の試料を脱水及び脱酸素処理したテトラヒド
ロフランで、5〜6回洗浄して真空乾燥した。第
1表には、各試料の熱処理後及びナトリウムナフ
タレンドーピング後の電導度を示す。
【表】 第1表から明らかな様に、PI−A、PI−B、
PAI、PA、PODのいずれの場合にも、103〜106
倍にもおよぶ電導度変化が観察された。又これら
の皮膜はいずれも優れた可撓性を有していた。 実施例 2 代表例としてPODを使用し、種々の熱処理温
度で1時間熱処理し(アルゴン中)、その後実施
例1と同じ方法で、ナトリウムナフタレンのドー
ピングを行ない、電導度を測定した。その結果を
第2表に示す。200℃、300℃、400℃で熱処理を
行なつた試料をドーピングした場合には、最高12
桁にも及ぶ大きな電導度変化が見られ、10-3のオ
ーダーの電導度を示した。このように、ナトリウ
ムナフタレンは有効なドーパントである。一方
700℃以上の温度で熱処理した試料に対しては、
ドーピングによる電導度
【表】 の向上は認められず、むしろ電導度の低下を招い
ており、さらに試料の可撓性も失われた。500〜
520℃付近での電導度の低下が認められるが、こ
れは熱分解反応による電導度の向上と熱分解反応
の進行に伴うドーピング効果の減少とのバランス
によつて生じるものである。 実施例 3 下記の高分子皮膜を用い、実施例1と同様にし
て第3表に示す温度で熱処理し、ナトリウムナフ
タレンのドーピングを行つた。得られたものの電
導度の測定結果は第3表に示す通りであつた。
【表】 これらの高分子皮膜はいずれも優れた可撓性を
有していた。 f 発明の効果 本発明の製造法によると、従来の高分子電導体
の製造法における欠点、すなわち、800℃以上の
高温熱処理を必要としたり、得られる高分子電導
体が空気中で不安定であり、また可撓性がない等
の欠点をことごとく無くし得られ、200〜650℃の
比較的低温熱処理でよいため経済的に容易に製造
し得られ、また得られる高分子電導体は空気中で
も極めて安定で且つ可撓性を保持するうえ、高電
導性を有する優れた効果を有する。 本発明の電導体を用いれば、温度センサー、風
流センサーなどの各種センサーが製造し得られ、
また高電導性を利用して太陽熱吸収体あるいは微
小回路用抵抗体、更には電磁シールド材料などが
製造し得られる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 芳香族ポリアミド、芳香族ポリアミドイミ
    ド、芳香族ポリイミド、芳香族ポリオキサジアゾ
    ール、芳香族ポリチアジアゾール、ポリパラフエ
    ニレン、ポリパラフエニレンサルフアイド、ポリ
    ベンゾイミダゾール及びポリベンゾイミダゾフエ
    ナトロリンから選ばれた加熱により熱分解と再結
    合による芳香族多環構造を形成する耐熱性高分子
    を、真空中または不活性気体中で200〜650℃に加
    熱して熱分解と再結合による芳香族多環構造とな
    し、これをLi、Na、K、Rb及びCsから選ばれた
    アルカリ金属のナフタレン、ビフエニルまたはア
    ントラセンの溶液に接触させて化学的にドープす
    ることを特徴とする高分子電導体の製造方法。
JP58127874A 1983-07-15 1983-07-15 高分子電導体の製造方法 Granted JPS6020944A (ja)

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JPS6020944A JPS6020944A (ja) 1985-02-02
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