JPS6265295A - ダイナミツクメモリ - Google Patents

ダイナミツクメモリ

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Publication number
JPS6265295A
JPS6265295A JP60204087A JP20408785A JPS6265295A JP S6265295 A JPS6265295 A JP S6265295A JP 60204087 A JP60204087 A JP 60204087A JP 20408785 A JP20408785 A JP 20408785A JP S6265295 A JPS6265295 A JP S6265295A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sense
bit lines
sense amplifier
memory cell
input terminal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60204087A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshio Wada
和田 俊男
Takashi Takesono
竹園 隆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP60204087A priority Critical patent/JPS6265295A/ja
Publication of JPS6265295A publication Critical patent/JPS6265295A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は、互いに平行でかつ近接して配置されたビット
線間の信号をセンスアンプによって検出するダイナミッ
クメモリに関し、特に1大容量化及び高集積化に関する
ものである。
(ロ)従来の技術 一般罠、コンデンサとMOSFETから成るメモリセル
な使用するダイナミックメモリでは、複数対のビット線
BL及び11と交叉する複数のワード線Wの交点に各々
メモリセルが配置され、各対のビット、[n L及び1
1はゲーテイ・Iドフリノプフロノプ型あるいは差動型
のセンスアンプに各々接続され、選択されたワード線W
に接続されたメモリセルによって生じろビット線BL及
びハ1゜の微小電位差がセンスアンプによって増幅され
る。
このようなダイナミックメモリは、一対のビットaBL
及び11に対して一つのセンスアンプが必要であるため
合理的でなかった、。
そこで、従来は、特開昭60−90491号公報に示さ
れる如きダイナミックメモリが提案された。このダイナ
ミックメモリは、2対のビット線B L及びBLに対し
て一つのセンスアンプを設け、該センスアンプの一対の
センス入力端と2対のビット線nL及び11とをMOS
FETを介して接続し、異なるタイミングでMOSFE
Tを制御して選択的に2対のビット線BL及び1tの一
方の対を接続するものである。
←→ 発明が解決しようとする問題点 しかしながら、従来のダイナミックメモリではビット線
BL及び「1の本数に対するセンスアンプの数は減少す
るのであるカー、ビット線BL及びBLの本数は変わら
ないため、ビット線BL及びBLが延在される半導体領
域に於けるビット線BL及びnLの占める面積は豐わら
ず、集積度も変化しない欠点があった。
に)問題点を解決するための手段 本発明は、上述した点に鑑みて為されたものであり、複
数のワード線Wtと交叉する複数のビット線B L t
を設け、該ビット線B L tとワード線w8との交点
に2トランジスタ型のメモリセルを配置し、前記ビット
線BLLの各々の間にセンスアンプを設ける。更に、各
ビット線BLjはMOSFETを介してセンスアンプの
センス入力端ニ各々接続され、隣接するセンスアンプの
センス動作及びセンス入力端に接続されたMOSFET
のスイッチングは互いに異なるタイミングで制御される
ものである。
(ホ)作用 上述の手段によれば、奇数番目のワード線W2..−7
が選択された場合には、奇数番目のセンスアンプS A
、、S−1が選ばれ、該センスアンプSA、、%−3の
センス入力端に接続されたMOSFETがオンとなって
、ビット線BL、、−,とBL、、とがセンスアンプS
 A、n、のセンス入力端に接続される。そして、奇数
番目のセンスアンプSA!3−1のセンス動作が為され
ることにより、2トランジスタ型のメモリセル罠蓄積さ
れた電圧が増幅される。
一方、偶数番目のワード線W7.が選択された場合には
、偶数番目のセンスアンプ5Atfiが選ばれ、該セン
スアンプS A、、%のセンス入力端に接続されたMO
SFETがオンとなって、ビット線BL、%とB L 
t、、−+とがセンスアンプSA、、に接続される。
そしテ、偶数番目のセンスアンプS A、、%のセンス
動作が為される。
即ち、従来のセンスアンプの各々に接続された一対のビ
ット線BL及び11に於いて、隣接するビット線のBL
と11とを共通としたものである。
(へ)実施例 第1図は本発明の実施例を示す回路図である。
ローアドレスによって択一的に選択されるワード線mと
複数のビット線(2)は互いに交叉して設けられ、その
交点にはメモリセル(3)が配置される。このメモリセ
ル(3)は、コンデンサ(4)とコンデンサ(4)の両
端に接続されたM OS F E T+51(6)とか
ら成り、MOS F E T+5)+6)の他端はビッ
ト線(2)K各々接続され、ゲートは共にワード線(1
)に接続される。即ち、メモリセル(3)は2トランジ
スタ型のメモリセルである。ここで、W!、、−1と表
わされる奇数番目のワード#J(11に接続されるメモ
リセル(3)は、BL雪−!と表わされる奇数番目のビ
ット線(2)とBL、、。
と表わされる偶数番目のビット線(2)の間に接続され
、−力、Wl、と表わされる偶数番目のワード線(1)
に接続されろメモリセル(3)は、BL、、と表わされ
る偶数番目のビット線(2)とBL、□、と表わされる
奇数番目のビット線(2)の間に接続される。
更に、隣接するビット線(2)間には、ゲーテイツトフ
リップフロップ型のセンスアンプ(7)が各々設ケラれ
、各センスアンプ(7)の一対のセンス入力端と各ビッ
ト線(2)とはMOS F E T+8119)を介し
て接続される。このセンスアンプ(7)の5ち、S A
、、。
と表わされる奇数番目のセンスアンプ(力は各々共通接
続され、センス動作を制御するクロックパルスφ8.が
印加されるMO8FETαOに接続される。
一方、S A、、と表わされる偶数i目のセンスアンプ
(力も共通接続され、センス動作を制御するクロックパ
ルスφ。が印加されるMO3FETα1)に接続される
。また、奇数番目SA、、%−2のセンスアンプ(7)
とビット線(2)を接続するMOS F E T(81
のゲートには、W、、、と表わされたワード線fl)が
選択されたとき出力されるクロックパルスφ□が印加さ
れ、一方、偶数番目S A、、のセンスアンプ(力とビ
ット線(2)を接続するMOS F E T+9+のゲ
ートには偶数番目W7.Iのワード線(1)が選択され
たとき出力されるクロックパルスφ。が印加される。
第1図の如く構成された実施例に於いて、第2図+al
の如く奇数番目W、、&−,を指定するローアドレスデ
ータAD(ln−1)、及び、ローアドレス制御信号「
VSが印加されると、タイミング発生回路(図示せず)
から出力されるプリチャージクロックによって、各ビッ
ト線(2)のプリチャージが為されろ。
その攪、タイミング発生回路から出力されるクロックパ
ルスφ21により、M OS F ETf8)がオンと
なり、奇数番目SA2□1のセンスアンプ(力とBLL
12びBL、、のビット線(2)とが接続され、続いて
出力され乙クロックパルスφ、1により奇数番目S A
2.、のセンスアンプ(7)のセンス動作が開始すれろ
。よって、この場合には奇数番目W、□1のワード線(
1)に接1つ℃されたメモリセル(3)に蓄積された情
報がSA2,1−1のセンスアンプ(刀に読み出される
一方、第2図(b)の如く、偶数番目W、1を指定する
ローアドレスADUtn、、及び、ローアドレス制御イ
、す号「TSが印加されろと、41■述と逆にクロック
パルスφ82に、よりMOS F ETf9)がオンと
なって、偶数番目S A、nのセンスアンプ(7)トB
 Lt、及ヒBL2.ヤ、のビット線(2)とが接続さ
れ、タロツクパルスφs7により4山数番目SA、、の
センスアンプ(力のセンス動作が開始されて、W2.%
のワード@(1)に接続されたメモリセル(3)の情報
がSA、のセンスアンプ(7)に読み出される。
従って、第1図に示された実施例では、各ピッ)@f2
1間罠メモリセル(3)が配雪されるため、メモリセル
(3)の個数に対してビット線(2)の本数が従来に比
べて大幅に少なくなる。よって、半導体チップ上に於け
るメモリセル(3)の形成領域での集噴度が向上する。
(ト)発明の効果 上述の如く本発明によれば、メモリセル形成領域でのビ
ット線BLの本数が城少するため、集積度が向上し記憶
容素の大きなダイナミックメモリが得られる利点を有し
ている。
【図面の簡単な説明】
頁1図は本発明の実施例を示す回路図、第2図(a)及
び(b)は第1図に示された実施例の動作ケ示すタイミ
ング図である。 主な図番の説明 (1)・・・ワード線、  (2)・・・ビット線、 
 (3)・・・メモリセル、(力・・・センスアンプ、
  +8)f91(11αυ・・・MO3ET0 出頭式 三洋電磯株式会社 外1名 代理人 弁理士  佐 野 静 夫 第1図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、複数のセンスアンプと、該複数のセンスアンプのセ
    ンス入力端に接続されたビット線と、該ビット線と交叉
    する複数のワード線と、前記ビット線とワード線の交点
    に設けられた2トランジスタ型のメモリセルとを備えた
    ダイナミックメモリに於いて、前記複数形成されたビッ
    ト線の各々の間に異なるタイミングでオンするMOSF
    ETを介して前記センスアンプが接続され、隣接するセ
    ンスアンプは異なるタイミングでセンス動作が制御され
    ることを特徴とするダイナミックメモリ。
JP60204087A 1985-09-13 1985-09-13 ダイナミツクメモリ Pending JPS6265295A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60204087A JPS6265295A (ja) 1985-09-13 1985-09-13 ダイナミツクメモリ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60204087A JPS6265295A (ja) 1985-09-13 1985-09-13 ダイナミツクメモリ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6265295A true JPS6265295A (ja) 1987-03-24

Family

ID=16484569

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60204087A Pending JPS6265295A (ja) 1985-09-13 1985-09-13 ダイナミツクメモリ

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JP (1) JPS6265295A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5943279A (en) * 1998-02-10 1999-08-24 Nippon Foundry, Inc. Semiconductor memory integrated circuit
US6198151B1 (en) 1997-10-24 2001-03-06 Nippon Steel Semiconductor Corp. Semiconductor device, semiconductor integrated circuit device, and method of manufacturing same

Cited By (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6198151B1 (en) 1997-10-24 2001-03-06 Nippon Steel Semiconductor Corp. Semiconductor device, semiconductor integrated circuit device, and method of manufacturing same
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