JPS6266410A - 薄膜バルク複合磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 磁気テープ装置用薄膜インダクティブ磁気ヘッドに係り
、磁気ギャップを含めた媒体対向部をコアブロックにて
形成したバルクヘッドとし、その磁気ギャップとの反対
部を薄膜プロセスで、コイル及び磁性層、或いはＭＲ素
子を形成し閉磁路とした薄膜バルク複合磁気ヘッド。

〔産業上の利用分野〕

本発明は薄膜インダクティブ磁気ヘッドに係り、特に媒
体対向面を形成している複合部材のズレ等をなくし、信
頼性を上げる薄膜バルク複合磁気ヘッドに関する。

従来磁気テープ装置用薄膜インダクティプ磁気ヘッドは
テープ摺動域を確保する為に、基板に薄膜プロセスによ
り薄膜磁気ヘッドを形成した基板に、さらに板を有機接
着、或いは無機接着を行った後、Ｒ研磨を行いテープ摺
動域を形成している。

このテープ摺動面はテープと接してるので、平滑でない
とゴミ等が溜り易く特性上問題となる。そこでゴミが溜
らないような平滑なテープ摺動面が要望される。

〔従来の技術〕

従来磁気テープ装置用薄膜磁気ヘッドは、例えば第４図
に示すようなものがある。第４図は薄膜磁気ヘッドの断
面図である。

図に′おいて、薄膜磁気ヘッドＡはアルチック（アルミ
ナチタン・カーバイト）等のセラミック基板１上に蒸着
、スパッタ、メッキ等薄膜プロセスを用い、保護膜２を
介し下部磁性層３、ギャップ層４、コイル５、上部磁性
層６及び絶縁層７を積層している。さらにテープ摺動域
を確保する為に、上面にアルチック等の保護板８を有機
接着或いは無機接着を行っている。９は接着層を示し、
その後先端のテープ摺動面のＲは研削、研磨で所定寸法
まで仕上げられる。

上記薄膜磁気ヘッドＡを第５図に示すように金属等でで
きたハウジング１０に固定し、その２つを合体しリード
ヘッド／ライトヘッドを備えたテープ用ヘッド１１を形
成している。一方磁気テープ１２は薄膜磁気ヘッドＡに
摺動せしめられ、そこで電磁変換が行われる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

従来薄膜磁気ヘッドは基板１に薄膜プロセスにより薄膜
磁気ヘッドを形成後、保護板を有機、或いは無機接着し
た後テープ摺動域を形成している。

ところが、有機接着は温湿度に対して弱く、経時的にズ
レが発生し、叉接着剤そのものの盛り上りも発生し、ス
ペース損失的にリード／ライト特性に重大なる損失を与
え、信頼性に欠けている。叉一方無機接着はガラス接着
等に代表されるように、作業温度が５００度程度が要求
されており、磁気特性の劣化或いは各プロセスによって
構成される各層間の密着性の問題等多くの問題点を有し
ている。

〔問題点を解決するための手段〕

第１図は本発明の詳細な説明する図である。

本発明においては、第１図（イ）に示すようにガラス融
着による磁気ギャップＧを含め、従来のバルクヘッドに
て構成する。つまり１３．１４はフェライトコア、１５
はセラミックブロックで、１６にはガラス゛が充填され
、Ｄ平面が作られる。

このＤ平面上に第１図（ロ）に示すように、薄膜プロセ
スにより絶縁層１７、コイル１８、磁性層１９が形成さ
れ、ここでは図示しないが保護層がさらにその上に形成
される。その後Ｃ面のＲ加工がなされる。

或いは第１図Ｕ）に示すように、上記り平面上に薄膜プ
ロセスにより絶縁層２０、ＭＲ素子２１、窓あき磁性層
２２、そしてここでは図示しないが、保護層が更にその
上に形成される。その後Ｃ面のＲ加工がなされる。

〔作用〕

即ち、ガラス融着による磁気ギャップＧを含め、従来の
バルクヘッドにて構成し、それとは反対部（Ｄ平面上）
を閉磁路とし、薄膜プロセス形成面を作り、そこにコイ
ル１８及び磁性層１９を、或いはｌ素子２１、窓あき磁
性層２２を薄膜プロセスにより形成して薄膜バルク複合
ヘッドとしている。薄膜プロセスであるので、従来のよ
うな無機、有機接着を用いていないので、有機接着の経
時的なズレや無機接着の磁気特性の劣化、各層間の密着
性の問題が解決される。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を図面によって説明する。

第２図は本発明の詳細な説明する図で、多トラツクヘッ
ドを示す。なお、全図を通じ同一符合は同一対象物を示
す。

図（イ）において、フェライトコア１３．１４をガラス
融着により接着、同時に磁気ギャップＧを構成後、セラ
ミックブロック１５を低融点ガラスにより接着、同時に
同じガラスにてガラス充填部１６を形成、次ぎに図（ロ
）に示すようにセラミックブロック１５に達する溝１７
を、所望のトラック幅、トラックピッチに対応してカッ
タにて切り、そこに再びガラスを充填し、最後に図（ハ
）に示すように必要な高さｈに切断、薄膜形成面りを鏡
面ラップして仕上げる。

このバルクヘッドで構成したＤ平面上に、図（ニ）に示
すように薄膜プロセスにより、絶縁層１７、コイル１８
、磁性層１９が形成され、ここでは図示しないが、保護
層がさらにその上に形成される。その後Ｃ面のＲ加工が
なされ構成する。

第３図は本発明の別の実施例を説明する図で、薄膜ＭＲ
（磁気抵抗効果型）の多トラツクヘッドを示す。

図（イ）〜（ハ）に示すバルクヘッドの製造法は第２図
で説明したと同じであり、説明は省略する。

図（ハ）の鏡面に仕上げられた０面上に図（ニ）に示す
ように、薄膜プロセスにより絶縁層２０、ＭＲ素子２１
、窓あき磁性層２２、そしてここでは図示しないが、保
護層がさらにその上に形成される。

その後Ｃ面のＲ加工がなされ構成する。

なお、本発明は実施例で説明した磁気テープ用磁気ヘッ
ドに限らず、同様の形態をとる磁気記憶装置用磁気ヘッ
ドにも適用出来ることは言うまでもない。叉実施例とし
て多トランク用のヘッドについて説明したが、単一トラ
ンクのヘッドでもよいと言うことは言うまでもない。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明によれば、磁気ギャップを含
めた媒体対向部をバルクヘッドで、それとは反対部を薄
膜プロセス形成面のヘッドとしたことで、薄膜磁気特性
の劣化、密着性の悪化をなくし、信頼性の向上が図れる
。

【図面の簡単な説明】

第１図（イ）〜（ハ）は本発明の詳細な説明する図、 第２［（イ）〜（ニ）は本発明の詳細な説明する図、 第３図（イ）〜（ニ）は本発明の別の実施例を説明する
図、 第４図は従来の磁気テープ用薄膜磁気ヘッドをである。 図において、 １３．１４はフェライトコア、 １５はセラミックブロック、 １６はガラス充填部、 １７は溝、 １８はコイル、 １９は磁性層、 ２０は絶縁層、 ２１はＭＲ素子、 ２２は窓あき磁性層を示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １対の磁性材（１３、１４）で開磁路のギャップ（Ｇ）
   を形成したブロックを、セラミック基板（１５）上に接
   着し、 前記ギャップ（Ｇ）の反対側に薄膜プロセスによってコ
   イル（１８）及び磁性層（１９）、或いはＭＲ素子（２
   １）を形成して閉磁路を構成したことを特徴とする薄膜
   バルク複合磁気ヘッド。