JPS627703A - 光重合開始剤組成物 - Google Patents

光重合開始剤組成物

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JPS627703A
JPS627703A JP14482485A JP14482485A JPS627703A JP S627703 A JPS627703 A JP S627703A JP 14482485 A JP14482485 A JP 14482485A JP 14482485 A JP14482485 A JP 14482485A JP S627703 A JPS627703 A JP S627703A
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photopolymerization
benzalacetophenone
photopolymerization initiator
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後藤 義隆
Kenichi Fujii
健一 藤井
Toshiya Yazawa
矢澤 俊也
Eiichi Yamada
栄一 山田
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Nippon Oil and Fats Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、不飽和化合物重合用の光重合開始剤組成物に
関するものである。
不飽和結合を分子中に含むモノマー、オリゴマー、及び
ポリマーは光重合開始剤の存在下で光重合することは曳
く知られている。またこの現象は、印刷版やプリント基
板、■C等を作製する時に用いられるフォトポリマーや
フォトレジストとして広く利用されている。
〔従来の技術〕
これらに使用する光重合開始剤としては、従来から種々
の物質が報告され、実際に使用されている。例えば、ベ
ンゾイン系化合物としてペンゾイン、ヘンジインメチル
エーテル等、カルボニル化合物としてベンジル、ぺ/シ
フエノン、アセトフェノン、ミヘラーズケトン等、アゾ
化合物としてアゾビスイソブチロニトリル、アゾジベン
ゾイル等、また硫黄化合物としてジベンゾチアゾリルス
ルフィド、テシルフェニルスルフイド、テトラエチルナ
ララムジスルフィド等、ハロゲン化合物とL テ四〇 
化炭2 、トリブロムフェニルスルホン等、その他に1
,2−ベンズアントラキノンなどがある。
しかしながら、これらの光重合開始剤は未だ充分満足で
;生るものではなく、種々の不飽和化合物との光重合組
成物はフォトポリマーとして必ずしも良好な感度を有し
ているとはいえず、さらに高感度でしかも貯蔵安定性の
良好々光重合開始剤が強く要望されている。
°また、過酸化結合を分子中に有する有機過酸化物はヒ
ドロペルオキシド類、ジアルキルペルオキシド類、ジア
シルペルオキシド類、ペルオキシケタール類、ペルオキ
シエステル類、ペルオキシカーボネート類、等々多くの
種類、化合物があり、これらは熱によシ分解して活性な
ラジカル種を生成することは周知である。このことより
有機過酸化物は不飽和化合物の熱重合開始剤、熱重合触
媒、熱重合硬化剤、熱重合架橋剤などとして広く用いら
れている0さらに有機過酸化物は光エネルギーによって
も分解し同様に活性なラジカル81を生成することが報
告されCいる。ところがこれらは不飽和化合物の光重合
開始剤として用いるには光重合開始能が低く到底実用に
適するものではない。
したがって重合型のフォトポリマーの光重合開始剤とし
て有機過酸化物を使用した例に従来からほとんどみられ
ない。
〔問題を解決するための手段〕
このような背景から本発明者らは鋭意研究した結果、特
定構造を有するベンザルアセトフェノン類と有機過酸化
物とを組合せたものが、極めて良好な光重合開始能を有
してお)、不飽和化合物の光重合において初期重合速度
を増大させ、これを汐゛ 用いることによ)高感度な感光性樹脂l得られることを
見出して本発明に到達した。
すなわち本発明は一般式(夏) で表わされるベンザルアセトフェノン類と有機過酸化物
とを組み合わせてなる光重合開始剤組成物を提供するも
のである。
本発明に用いる一般式(1)でとわされるぺ/ザルアセ
トフェノ7類の例としては、ベンザルアセトフェノン、
ベンザルメチルアセトフェノ/、メチルベンザルメチル
アセトフェノン、メチルベンザルエチルアセトフェノ/
、メチルベンザルメトキシアセトフェノ/、エチルベン
ザルブトキシアセトフェノン、メトキシベンザルメトキ
シアセトフェノン、メトキシベンザルエチルアセトフェ
ノ/、エチルベンザルフェノキンアセトフェノ/、メチ
ルペンザルメトキシアセトフエノン、ベンザルジメチル
アミノアセトフェノン、ジメチルアミノベンザルジメチ
ルアミノアセトフェノン、メトキシベンザルジメチルア
ミノアセトフェノン、アミンベンザルアミノアセトフェ
ノン、ジメチルアミノベンザルメトキシアセトフェノン
、ベンザルジエチルアミノアセトフェノン、ジメチルア
ミノベンザルアセトフェノ:/、ブトキシベンザルジメ
チルアミノアセトフェノン、クロルベンザルメチルアセ
トフェノン、メチルベンザルニトロアセトフェノン、ベ
ンザルニトロアセトフェノン、ニトロベンザルアセトフ
ェノン等があり、これらを1種または2種以上混合して
使用できる。
また本発明で使用される有機過酸化物は特にその構造に
限定はしないが、例えばメチルエチルケトンペルオキシ
ド、シクロヘキサノンペルオキシド% 3.3.5− 
トリメチル7クロヘキサノンペルオキシド、メチルフク
ロヘキサノンペルオキシド。
アセチルアセトンペルオキシド、1,1−ビス(を−プ
チルペルオキク)−3,3,5−)リメチルシクロへキ
サン、1.I−ビス(t−ブチルペルオキシ)シクロヘ
キサン、  n−7’チル−4,4−ビス(t−ブチル
ペルオキシ)ノくレラート、2.2−ビス(4−ブチル
ペルオキシ)ブタン、t−プチルノーイドロペルオキシ
ド、クメンハイドロペルオキシド、ジインプロピルベン
ゼンハイドロベルオキシド、パラーメンタンハイドロベ
ルオキシド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハ
イドロベルオキシド。
1、1.3.3−テトラメチルブチルハイドロペルオキ
シド、ジt−ブチルペルオキシド、L−ブチルクミルペ
ルオキシド、ジクミルペルオキシド、α、α′−ヒス(
t−7’チルベルオキシイソグロビル)ぺクメン、2.
5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘ
キサン、2.5−ジメチル−2,5−シ(t−7”チル
ペルオキシ)ヘキシン−3、アセチルペルオキシド、イ
ソブチリルペルオキ’=dド、オクタノイルペルオキシ
ド、デカメイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド
、3,5.5−トリメチルヘキサノイルベルオ午7ド、
過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2.4−ジクロロ
ベンゾイルペルオキシド、メタートルオイルペルオキシ
ドジインプロビルペルオキシジカーボネート、ジー2−
エチルへキシルペルオキシジカーボネート、ジノルマル
プロビルベルオキシジカーボネート、ジー2−エトキシ
エチルペルオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロ
ビルベルオ中ジカーボネート、ジ(3−メチル−3−メ
トキシプナル)ペルオキシジカーボネート、t−ブチル
ペルオキシアセテート、t−ブチルペルオキシインブチ
レート、を−プテルペルオキシビノ8レー)、t−;y
”チルペルオキシネオデカノエート、t−ブチルペルオ
キシオクタノエート、t−ブチルペルオキシ3.5.5
−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシラ
ウレート、t−プテルベルオ中ジペンゾエート、ジt−
ジペルオキシイソフタレート、2.5−ジメチル−2,
5−ジ(ベンゾイルペルオキシ)へ中サン、t−ブチル
過酸化マレイン酸、t−ブチルペルオキシイソプロビル
カーボネート、3.3?4゜4′−テトラ−(1−ブチ
ルベルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3.3; 
4.4’−テトラ−(t−アミルペルオキシカルボニル
)ぺ/シフエノン、3.3:4り4−テトラ(t−へキ
シルベルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3.3?
 4.4’−テトラ(t−オクチルペルオキシカルボニ
ル)ベンゾフェノン、a、 3? 4.4′−テトラ(
クミルベルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3.3
? 4.4′−テトラ(p−イソプロピルクミルベルオ
キシカルボニル)ベンゾフェノン等があり、これらを1
種または2種以上混合して使用できる。
本発明の光重合開始剤組成物は、前記の(イ)特定構造
のベンザルアセトフェノンと上記(B)有機過酸化物と
を有効成分として含有するものであり1両者の配合割合
は重量比で(4)=(B)が1〜99:99〜1であシ
、さらに好ましくは3〜95:97〜5である。この範
囲外の組成では優れた光重合開始性能が得られない。
本発明の光重合開始剤組成物はほとんどすべての不飽和
化合物を光重合することができる。すな−であり、例え
ばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸
及びその無水物、フタル酸及びその無水物、フマル酸等
の不飽和酸や(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アク
リル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)ア
クリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエ
チル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル。
フマル酸ジメチル、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等の
不飽和酸エステル化合物、及びスチレン、アクリルアミ
ド、アクリロニトリル、N−ビニルビはリドン、酢酸ビ
ニル等の単量体、さらに不飽和ポリエステル、不飽和ポ
リエーテル、不飽和ポリウレタンやエボキン(メタ)ア
クリ レート1ヒ金物等がある。
これらの不飽和化合物の単独かもしくは二植以上の混合
物に本発明の光重合開始剤組成物を添加し必要に応じて
適当な希釈溶媒を加えて光重合組放物とする。
光重合開始剤組成物の添加址は不飽和化合物100重量
部に対して01〜30重量部、好ましくは0.5〜20
重値部である。
また適当な希釈溶媒とは本発明の光重合開始剤組成物及
び不飽和化合物を溶解するものならすべて使用できる゛
。例えば、水、メタノール、エタノール、プロパノール
、ブタノール、アセトン、メチルエテルケトン、メチル
イソブチルケト/、トルエン、キシレン、酢酸エチル、
mmプ+ル、セロソルブ、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジクロルメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ト
リクロルエチレン、ジメチルホルムアミド、ツメチルス
ルホキシド、等である。
このようにして得られた光重合組成物は紫外線または可
視光線のごとき活性光&!を照射することラング、カー
ボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライドランプ、螢
光灯、タングステン灯、太陽光為ヒ各種レーザーランプ
等が使用できる。
〔発明の効果〕
本発明の光重合開始剤組成物は、ベンザルアセトフェノ
ン、類と有機過酸化物とを組み合わせて用いている丸め
、従来の光重合開始剤よりも著しく高感度であり、弱い
光源でも十分に感光するため作業性や経済性の点でも優
れている。
本発明の光重合開始剤組成物社通常の光重合反応に使用
できる他、光硬化壓の塗料、印刷インキ、接着剤や、印
刷版作製、さらにフォトレジスト等多方面に適用するこ
とが可能で6D、またその効果も非常に良好で、最高感
度のものを得ることができる。
〔実施例〕 以下実施例および比較例により本発明をさらに詳しく説
明する。なお例中の部はit部である。
実施例1〜1/ メタクリル酸メチルとメタクリル酸の共重合体(分子量
70000、駿1ifli120)100部、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート(新中村化学@製、A−
TMM−3L)120部に表−IK示す本発明の光重合
開始剤組成物を表−1に示す割合で添加し、さらにこれ
らを1000部のメチルセロソルブに均一にfrIyl
Iシて感光液とした。。
これらの感光液を陽極酸化処理したアルミ板上に乾燥塗
膜厚が1μmとなるようにスピンナーを用いて塗布し、
さらにポリビニルアルコール(@クラレ製、PVA−5
os )ノt oil+t%水浴液感光性試験は21;
*の超扁圧水銀灯を用い、グレイスケール(コダックス
テップダプレソトA2)を密着して650の距離から1
秒間4尤した後、20M址%のインプロパノールを含む
3チのメタケイ酸す) IJクム水溶液で現像して残存
している硬化膜のステップ段数をLJ’f、みとること
で感度を副室した。結果を表−1に示−ro なおステ
ップ段数は、2段差があると感度が2倍になることを示
し、数値が大きいほど高感度である。
比較例1〜8 市販の光重合開始剤、及びベンザルアセトフェノン、有
機過酸化物の各々単独の場合など表−2に示す光重合開
始剤を用いて実施例と同様な方法i−1および表−2の
結果から明らかなようK、本発明のものはいずれも比較
例のものよりステップ段数に大きな差があり、著しく高
感度であることが認められる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼……( I ) 〔式中R_1およびR_2は各々独立に、水素原子、炭
    素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基
    、フェニル基、フェノキシ基ニトロ基、アミノ基または
    ハロゲン原子を表わす。〕 で表わされるベンザルアセトフェノン類と有機過酸化物
    とを組み合わせてなる光重合開始剤組成物。
  2. (2)ベンザルアセトフェノン類が、ベンザルアセトフ
    ェノン、ジメチルアミノベンザルジメチルアセトフェノ
    ン、メトキシベンザルジメチルアミノアセトフェノン、
    ベンザルジメチルアミノアセトフェノン、ジメチルアミ
    ノベンザルアセトフェノン、ブトキシベンザルメチルア
    セトフェノン、クロルベンザルアセトフェノンおよびベ
    ンザルニトロアセトフェノンから選ばれる1種以上のも
    のである特許請求の範囲第1項記載の光重合開始剤組成
    物。
JP14482485A 1985-07-03 1985-07-03 光重合開始剤組成物 Granted JPS627703A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63206741A (ja) * 1987-02-24 1988-08-26 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 感光性の重合体組成物
US5436178A (en) * 1991-01-21 1995-07-25 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Method of making semiconductor device including MOS type field effect transistor

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63206741A (ja) * 1987-02-24 1988-08-26 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 感光性の重合体組成物
US5436178A (en) * 1991-01-21 1995-07-25 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Method of making semiconductor device including MOS type field effect transistor

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