JPS627703A - 光重合開始剤組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、不飽和化合物重合用の光重合開始剤組成物に
関するものである。
関するものである。
不飽和結合を分子中に含むモノマー、オリゴマー、及び
ポリマーは光重合開始剤の存在下で光重合することは曳
く知られている。またこの現象は、印刷版やプリント基
板、■C等を作製する時に用いられるフォトポリマーや
フォトレジストとして広く利用されている。
ポリマーは光重合開始剤の存在下で光重合することは曳
く知られている。またこの現象は、印刷版やプリント基
板、■C等を作製する時に用いられるフォトポリマーや
フォトレジストとして広く利用されている。
これらに使用する光重合開始剤としては、従来から種々
の物質が報告され、実際に使用されている。例えば、ベ
ンゾイン系化合物としてペンゾイン、ヘンジインメチル
エーテル等、カルボニル化合物としてベンジル、ぺ/シ
フエノン、アセトフェノン、ミヘラーズケトン等、アゾ
化合物としてアゾビスイソブチロニトリル、アゾジベン
ゾイル等、また硫黄化合物としてジベンゾチアゾリルス
ルフィド、テシルフェニルスルフイド、テトラエチルナ
ララムジスルフィド等、ハロゲン化合物とL テ四〇
化炭2 、トリブロムフェニルスルホン等、その他に1
,2−ベンズアントラキノンなどがある。
の物質が報告され、実際に使用されている。例えば、ベ
ンゾイン系化合物としてペンゾイン、ヘンジインメチル
エーテル等、カルボニル化合物としてベンジル、ぺ/シ
フエノン、アセトフェノン、ミヘラーズケトン等、アゾ
化合物としてアゾビスイソブチロニトリル、アゾジベン
ゾイル等、また硫黄化合物としてジベンゾチアゾリルス
ルフィド、テシルフェニルスルフイド、テトラエチルナ
ララムジスルフィド等、ハロゲン化合物とL テ四〇
化炭2 、トリブロムフェニルスルホン等、その他に1
,2−ベンズアントラキノンなどがある。
しかしながら、これらの光重合開始剤は未だ充分満足で
;生るものではなく、種々の不飽和化合物との光重合組
成物はフォトポリマーとして必ずしも良好な感度を有し
ているとはいえず、さらに高感度でしかも貯蔵安定性の
良好々光重合開始剤が強く要望されている。
;生るものではなく、種々の不飽和化合物との光重合組
成物はフォトポリマーとして必ずしも良好な感度を有し
ているとはいえず、さらに高感度でしかも貯蔵安定性の
良好々光重合開始剤が強く要望されている。
°また、過酸化結合を分子中に有する有機過酸化物はヒ
ドロペルオキシド類、ジアルキルペルオキシド類、ジア
シルペルオキシド類、ペルオキシケタール類、ペルオキ
シエステル類、ペルオキシカーボネート類、等々多くの
種類、化合物があり、これらは熱によシ分解して活性な
ラジカル種を生成することは周知である。このことより
有機過酸化物は不飽和化合物の熱重合開始剤、熱重合触
媒、熱重合硬化剤、熱重合架橋剤などとして広く用いら
れている0さらに有機過酸化物は光エネルギーによって
も分解し同様に活性なラジカル81を生成することが報
告されCいる。ところがこれらは不飽和化合物の光重合
開始剤として用いるには光重合開始能が低く到底実用に
適するものではない。
ドロペルオキシド類、ジアルキルペルオキシド類、ジア
シルペルオキシド類、ペルオキシケタール類、ペルオキ
シエステル類、ペルオキシカーボネート類、等々多くの
種類、化合物があり、これらは熱によシ分解して活性な
ラジカル種を生成することは周知である。このことより
有機過酸化物は不飽和化合物の熱重合開始剤、熱重合触
媒、熱重合硬化剤、熱重合架橋剤などとして広く用いら
れている0さらに有機過酸化物は光エネルギーによって
も分解し同様に活性なラジカル81を生成することが報
告されCいる。ところがこれらは不飽和化合物の光重合
開始剤として用いるには光重合開始能が低く到底実用に
適するものではない。
したがって重合型のフォトポリマーの光重合開始剤とし
て有機過酸化物を使用した例に従来からほとんどみられ
ない。
て有機過酸化物を使用した例に従来からほとんどみられ
ない。
このような背景から本発明者らは鋭意研究した結果、特
定構造を有するベンザルアセトフェノン類と有機過酸化
物とを組合せたものが、極めて良好な光重合開始能を有
してお)、不飽和化合物の光重合において初期重合速度
を増大させ、これを汐゛ 用いることによ)高感度な感光性樹脂l得られることを
見出して本発明に到達した。
定構造を有するベンザルアセトフェノン類と有機過酸化
物とを組合せたものが、極めて良好な光重合開始能を有
してお)、不飽和化合物の光重合において初期重合速度
を増大させ、これを汐゛ 用いることによ)高感度な感光性樹脂l得られることを
見出して本発明に到達した。
すなわち本発明は一般式(夏)
で表わされるベンザルアセトフェノン類と有機過酸化物
とを組み合わせてなる光重合開始剤組成物を提供するも
のである。
とを組み合わせてなる光重合開始剤組成物を提供するも
のである。
本発明に用いる一般式(1)でとわされるぺ/ザルアセ
トフェノ7類の例としては、ベンザルアセトフェノン、
ベンザルメチルアセトフェノ/、メチルベンザルメチル
アセトフェノン、メチルベンザルエチルアセトフェノ/
、メチルベンザルメトキシアセトフェノ/、エチルベン
ザルブトキシアセトフェノン、メトキシベンザルメトキ
シアセトフェノン、メトキシベンザルエチルアセトフェ
ノ/、エチルベンザルフェノキンアセトフェノ/、メチ
ルペンザルメトキシアセトフエノン、ベンザルジメチル
アミノアセトフェノン、ジメチルアミノベンザルジメチ
ルアミノアセトフェノン、メトキシベンザルジメチルア
ミノアセトフェノン、アミンベンザルアミノアセトフェ
ノン、ジメチルアミノベンザルメトキシアセトフェノン
、ベンザルジエチルアミノアセトフェノン、ジメチルア
ミノベンザルアセトフェノ:/、ブトキシベンザルジメ
チルアミノアセトフェノン、クロルベンザルメチルアセ
トフェノン、メチルベンザルニトロアセトフェノン、ベ
ンザルニトロアセトフェノン、ニトロベンザルアセトフ
ェノン等があり、これらを1種または2種以上混合して
使用できる。
トフェノ7類の例としては、ベンザルアセトフェノン、
ベンザルメチルアセトフェノ/、メチルベンザルメチル
アセトフェノン、メチルベンザルエチルアセトフェノ/
、メチルベンザルメトキシアセトフェノ/、エチルベン
ザルブトキシアセトフェノン、メトキシベンザルメトキ
シアセトフェノン、メトキシベンザルエチルアセトフェ
ノ/、エチルベンザルフェノキンアセトフェノ/、メチ
ルペンザルメトキシアセトフエノン、ベンザルジメチル
アミノアセトフェノン、ジメチルアミノベンザルジメチ
ルアミノアセトフェノン、メトキシベンザルジメチルア
ミノアセトフェノン、アミンベンザルアミノアセトフェ
ノン、ジメチルアミノベンザルメトキシアセトフェノン
、ベンザルジエチルアミノアセトフェノン、ジメチルア
ミノベンザルアセトフェノ:/、ブトキシベンザルジメ
チルアミノアセトフェノン、クロルベンザルメチルアセ
トフェノン、メチルベンザルニトロアセトフェノン、ベ
ンザルニトロアセトフェノン、ニトロベンザルアセトフ
ェノン等があり、これらを1種または2種以上混合して
使用できる。
また本発明で使用される有機過酸化物は特にその構造に
限定はしないが、例えばメチルエチルケトンペルオキシ
ド、シクロヘキサノンペルオキシド% 3.3.5−
トリメチル7クロヘキサノンペルオキシド、メチルフク
ロヘキサノンペルオキシド。
限定はしないが、例えばメチルエチルケトンペルオキシ
ド、シクロヘキサノンペルオキシド% 3.3.5−
トリメチル7クロヘキサノンペルオキシド、メチルフク
ロヘキサノンペルオキシド。
アセチルアセトンペルオキシド、1,1−ビス(を−プ
チルペルオキク)−3,3,5−)リメチルシクロへキ
サン、1.I−ビス(t−ブチルペルオキシ)シクロヘ
キサン、 n−7’チル−4,4−ビス(t−ブチル
ペルオキシ)ノくレラート、2.2−ビス(4−ブチル
ペルオキシ)ブタン、t−プチルノーイドロペルオキシ
ド、クメンハイドロペルオキシド、ジインプロピルベン
ゼンハイドロベルオキシド、パラーメンタンハイドロベ
ルオキシド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハ
イドロベルオキシド。
チルペルオキク)−3,3,5−)リメチルシクロへキ
サン、1.I−ビス(t−ブチルペルオキシ)シクロヘ
キサン、 n−7’チル−4,4−ビス(t−ブチル
ペルオキシ)ノくレラート、2.2−ビス(4−ブチル
ペルオキシ)ブタン、t−プチルノーイドロペルオキシ
ド、クメンハイドロペルオキシド、ジインプロピルベン
ゼンハイドロベルオキシド、パラーメンタンハイドロベ
ルオキシド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハ
イドロベルオキシド。
1、1.3.3−テトラメチルブチルハイドロペルオキ
シド、ジt−ブチルペルオキシド、L−ブチルクミルペ
ルオキシド、ジクミルペルオキシド、α、α′−ヒス(
t−7’チルベルオキシイソグロビル)ぺクメン、2.
5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘ
キサン、2.5−ジメチル−2,5−シ(t−7”チル
ペルオキシ)ヘキシン−3、アセチルペルオキシド、イ
ソブチリルペルオキ’=dド、オクタノイルペルオキシ
ド、デカメイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド
、3,5.5−トリメチルヘキサノイルベルオ午7ド、
過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2.4−ジクロロ
ベンゾイルペルオキシド、メタートルオイルペルオキシ
ドジインプロビルペルオキシジカーボネート、ジー2−
エチルへキシルペルオキシジカーボネート、ジノルマル
プロビルベルオキシジカーボネート、ジー2−エトキシ
エチルペルオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロ
ビルベルオ中ジカーボネート、ジ(3−メチル−3−メ
トキシプナル)ペルオキシジカーボネート、t−ブチル
ペルオキシアセテート、t−ブチルペルオキシインブチ
レート、を−プテルペルオキシビノ8レー)、t−;y
”チルペルオキシネオデカノエート、t−ブチルペルオ
キシオクタノエート、t−ブチルペルオキシ3.5.5
−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシラ
ウレート、t−プテルベルオ中ジペンゾエート、ジt−
ジペルオキシイソフタレート、2.5−ジメチル−2,
5−ジ(ベンゾイルペルオキシ)へ中サン、t−ブチル
過酸化マレイン酸、t−ブチルペルオキシイソプロビル
カーボネート、3.3?4゜4′−テトラ−(1−ブチ
ルベルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3.3;
4.4’−テトラ−(t−アミルペルオキシカルボニル
)ぺ/シフエノン、3.3:4り4−テトラ(t−へキ
シルベルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3.3?
4.4’−テトラ(t−オクチルペルオキシカルボニ
ル)ベンゾフェノン、a、 3? 4.4′−テトラ(
クミルベルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3.3
? 4.4′−テトラ(p−イソプロピルクミルベルオ
キシカルボニル)ベンゾフェノン等があり、これらを1
種または2種以上混合して使用できる。
シド、ジt−ブチルペルオキシド、L−ブチルクミルペ
ルオキシド、ジクミルペルオキシド、α、α′−ヒス(
t−7’チルベルオキシイソグロビル)ぺクメン、2.
5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘ
キサン、2.5−ジメチル−2,5−シ(t−7”チル
ペルオキシ)ヘキシン−3、アセチルペルオキシド、イ
ソブチリルペルオキ’=dド、オクタノイルペルオキシ
ド、デカメイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド
、3,5.5−トリメチルヘキサノイルベルオ午7ド、
過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2.4−ジクロロ
ベンゾイルペルオキシド、メタートルオイルペルオキシ
ドジインプロビルペルオキシジカーボネート、ジー2−
エチルへキシルペルオキシジカーボネート、ジノルマル
プロビルベルオキシジカーボネート、ジー2−エトキシ
エチルペルオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロ
ビルベルオ中ジカーボネート、ジ(3−メチル−3−メ
トキシプナル)ペルオキシジカーボネート、t−ブチル
ペルオキシアセテート、t−ブチルペルオキシインブチ
レート、を−プテルペルオキシビノ8レー)、t−;y
”チルペルオキシネオデカノエート、t−ブチルペルオ
キシオクタノエート、t−ブチルペルオキシ3.5.5
−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルペルオキシラ
ウレート、t−プテルベルオ中ジペンゾエート、ジt−
ジペルオキシイソフタレート、2.5−ジメチル−2,
5−ジ(ベンゾイルペルオキシ)へ中サン、t−ブチル
過酸化マレイン酸、t−ブチルペルオキシイソプロビル
カーボネート、3.3?4゜4′−テトラ−(1−ブチ
ルベルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3.3;
4.4’−テトラ−(t−アミルペルオキシカルボニル
)ぺ/シフエノン、3.3:4り4−テトラ(t−へキ
シルベルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3.3?
4.4’−テトラ(t−オクチルペルオキシカルボニ
ル)ベンゾフェノン、a、 3? 4.4′−テトラ(
クミルベルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3.3
? 4.4′−テトラ(p−イソプロピルクミルベルオ
キシカルボニル)ベンゾフェノン等があり、これらを1
種または2種以上混合して使用できる。
本発明の光重合開始剤組成物は、前記の(イ)特定構造
のベンザルアセトフェノンと上記(B)有機過酸化物と
を有効成分として含有するものであり1両者の配合割合
は重量比で(4)=(B)が1〜99:99〜1であシ
、さらに好ましくは3〜95:97〜5である。この範
囲外の組成では優れた光重合開始性能が得られない。
のベンザルアセトフェノンと上記(B)有機過酸化物と
を有効成分として含有するものであり1両者の配合割合
は重量比で(4)=(B)が1〜99:99〜1であシ
、さらに好ましくは3〜95:97〜5である。この範
囲外の組成では優れた光重合開始性能が得られない。
本発明の光重合開始剤組成物はほとんどすべての不飽和
化合物を光重合することができる。すな−であり、例え
ばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸
及びその無水物、フタル酸及びその無水物、フマル酸等
の不飽和酸や(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アク
リル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)ア
クリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエ
チル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル。
化合物を光重合することができる。すな−であり、例え
ばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸
及びその無水物、フタル酸及びその無水物、フマル酸等
の不飽和酸や(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アク
リル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)ア
クリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエ
チル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル。
フマル酸ジメチル、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等の
不飽和酸エステル化合物、及びスチレン、アクリルアミ
ド、アクリロニトリル、N−ビニルビはリドン、酢酸ビ
ニル等の単量体、さらに不飽和ポリエステル、不飽和ポ
リエーテル、不飽和ポリウレタンやエボキン(メタ)ア
クリ レート1ヒ金物等がある。
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等の
不飽和酸エステル化合物、及びスチレン、アクリルアミ
ド、アクリロニトリル、N−ビニルビはリドン、酢酸ビ
ニル等の単量体、さらに不飽和ポリエステル、不飽和ポ
リエーテル、不飽和ポリウレタンやエボキン(メタ)ア
クリ レート1ヒ金物等がある。
これらの不飽和化合物の単独かもしくは二植以上の混合
物に本発明の光重合開始剤組成物を添加し必要に応じて
適当な希釈溶媒を加えて光重合組放物とする。
物に本発明の光重合開始剤組成物を添加し必要に応じて
適当な希釈溶媒を加えて光重合組放物とする。
光重合開始剤組成物の添加址は不飽和化合物100重量
部に対して01〜30重量部、好ましくは0.5〜20
重値部である。
部に対して01〜30重量部、好ましくは0.5〜20
重値部である。
また適当な希釈溶媒とは本発明の光重合開始剤組成物及
び不飽和化合物を溶解するものならすべて使用できる゛
。例えば、水、メタノール、エタノール、プロパノール
、ブタノール、アセトン、メチルエテルケトン、メチル
イソブチルケト/、トルエン、キシレン、酢酸エチル、
mmプ+ル、セロソルブ、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジクロルメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ト
リクロルエチレン、ジメチルホルムアミド、ツメチルス
ルホキシド、等である。
び不飽和化合物を溶解するものならすべて使用できる゛
。例えば、水、メタノール、エタノール、プロパノール
、ブタノール、アセトン、メチルエテルケトン、メチル
イソブチルケト/、トルエン、キシレン、酢酸エチル、
mmプ+ル、セロソルブ、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジクロルメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ト
リクロルエチレン、ジメチルホルムアミド、ツメチルス
ルホキシド、等である。
このようにして得られた光重合組成物は紫外線または可
視光線のごとき活性光&!を照射することラング、カー
ボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライドランプ、螢
光灯、タングステン灯、太陽光為ヒ各種レーザーランプ
等が使用できる。
視光線のごとき活性光&!を照射することラング、カー
ボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライドランプ、螢
光灯、タングステン灯、太陽光為ヒ各種レーザーランプ
等が使用できる。
本発明の光重合開始剤組成物は、ベンザルアセトフェノ
ン、類と有機過酸化物とを組み合わせて用いている丸め
、従来の光重合開始剤よりも著しく高感度であり、弱い
光源でも十分に感光するため作業性や経済性の点でも優
れている。
ン、類と有機過酸化物とを組み合わせて用いている丸め
、従来の光重合開始剤よりも著しく高感度であり、弱い
光源でも十分に感光するため作業性や経済性の点でも優
れている。
本発明の光重合開始剤組成物社通常の光重合反応に使用
できる他、光硬化壓の塗料、印刷インキ、接着剤や、印
刷版作製、さらにフォトレジスト等多方面に適用するこ
とが可能で6D、またその効果も非常に良好で、最高感
度のものを得ることができる。
できる他、光硬化壓の塗料、印刷インキ、接着剤や、印
刷版作製、さらにフォトレジスト等多方面に適用するこ
とが可能で6D、またその効果も非常に良好で、最高感
度のものを得ることができる。
〔実施例〕
以下実施例および比較例により本発明をさらに詳しく説
明する。なお例中の部はit部である。
明する。なお例中の部はit部である。
実施例1〜1/
メタクリル酸メチルとメタクリル酸の共重合体(分子量
70000、駿1ifli120)100部、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート(新中村化学@製、A−
TMM−3L)120部に表−IK示す本発明の光重合
開始剤組成物を表−1に示す割合で添加し、さらにこれ
らを1000部のメチルセロソルブに均一にfrIyl
Iシて感光液とした。。
70000、駿1ifli120)100部、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート(新中村化学@製、A−
TMM−3L)120部に表−IK示す本発明の光重合
開始剤組成物を表−1に示す割合で添加し、さらにこれ
らを1000部のメチルセロソルブに均一にfrIyl
Iシて感光液とした。。
これらの感光液を陽極酸化処理したアルミ板上に乾燥塗
膜厚が1μmとなるようにスピンナーを用いて塗布し、
さらにポリビニルアルコール(@クラレ製、PVA−5
os )ノt oil+t%水浴液感光性試験は21;
*の超扁圧水銀灯を用い、グレイスケール(コダックス
テップダプレソトA2)を密着して650の距離から1
秒間4尤した後、20M址%のインプロパノールを含む
3チのメタケイ酸す) IJクム水溶液で現像して残存
している硬化膜のステップ段数をLJ’f、みとること
で感度を副室した。結果を表−1に示−ro なおステ
ップ段数は、2段差があると感度が2倍になることを示
し、数値が大きいほど高感度である。
膜厚が1μmとなるようにスピンナーを用いて塗布し、
さらにポリビニルアルコール(@クラレ製、PVA−5
os )ノt oil+t%水浴液感光性試験は21;
*の超扁圧水銀灯を用い、グレイスケール(コダックス
テップダプレソトA2)を密着して650の距離から1
秒間4尤した後、20M址%のインプロパノールを含む
3チのメタケイ酸す) IJクム水溶液で現像して残存
している硬化膜のステップ段数をLJ’f、みとること
で感度を副室した。結果を表−1に示−ro なおステ
ップ段数は、2段差があると感度が2倍になることを示
し、数値が大きいほど高感度である。
比較例1〜8
市販の光重合開始剤、及びベンザルアセトフェノン、有
機過酸化物の各々単独の場合など表−2に示す光重合開
始剤を用いて実施例と同様な方法i−1および表−2の
結果から明らかなようK、本発明のものはいずれも比較
例のものよりステップ段数に大きな差があり、著しく高
感度であることが認められる。
機過酸化物の各々単独の場合など表−2に示す光重合開
始剤を用いて実施例と同様な方法i−1および表−2の
結果から明らかなようK、本発明のものはいずれも比較
例のものよりステップ段数に大きな差があり、著しく高
感度であることが認められる。
Claims (2)
- (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼……( I ) 〔式中R_1およびR_2は各々独立に、水素原子、炭
素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基
、フェニル基、フェノキシ基ニトロ基、アミノ基または
ハロゲン原子を表わす。〕 で表わされるベンザルアセトフェノン類と有機過酸化物
とを組み合わせてなる光重合開始剤組成物。 - (2)ベンザルアセトフェノン類が、ベンザルアセトフ
ェノン、ジメチルアミノベンザルジメチルアセトフェノ
ン、メトキシベンザルジメチルアミノアセトフェノン、
ベンザルジメチルアミノアセトフェノン、ジメチルアミ
ノベンザルアセトフェノン、ブトキシベンザルメチルア
セトフェノン、クロルベンザルアセトフェノンおよびベ
ンザルニトロアセトフェノンから選ばれる1種以上のも
のである特許請求の範囲第1項記載の光重合開始剤組成
物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14482485A JPS627703A (ja) | 1985-07-03 | 1985-07-03 | 光重合開始剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14482485A JPS627703A (ja) | 1985-07-03 | 1985-07-03 | 光重合開始剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS627703A true JPS627703A (ja) | 1987-01-14 |
| JPH0554841B2 JPH0554841B2 (ja) | 1993-08-13 |
Family
ID=15371305
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14482485A Granted JPS627703A (ja) | 1985-07-03 | 1985-07-03 | 光重合開始剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS627703A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63206741A (ja) * | 1987-02-24 | 1988-08-26 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 感光性の重合体組成物 |
| US5436178A (en) * | 1991-01-21 | 1995-07-25 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of making semiconductor device including MOS type field effect transistor |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9624649B2 (en) * | 2012-10-19 | 2017-04-18 | Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. | Wheel type working vehicle |
-
1985
- 1985-07-03 JP JP14482485A patent/JPS627703A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63206741A (ja) * | 1987-02-24 | 1988-08-26 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 感光性の重合体組成物 |
| US5436178A (en) * | 1991-01-21 | 1995-07-25 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of making semiconductor device including MOS type field effect transistor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0554841B2 (ja) | 1993-08-13 |
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