JPS6280277A - 恒透磁率に優れた非晶質合金薄帯 - Google Patents
恒透磁率に優れた非晶質合金薄帯Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
- C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
- C23C18/1216—Metal oxides
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
恒透磁率に優れた非晶質合金薄帯に関して、この明細書
で述べる技術内容は、非晶質合金薄帯の表面に、該薄帯
に対して圧縮力を付与し得る絶縁被膜を被成することに
よって、恒透磁率範囲の有利な拡大を図るところにある
。
で述べる技術内容は、非晶質合金薄帯の表面に、該薄帯
に対して圧縮力を付与し得る絶縁被膜を被成することに
よって、恒透磁率範囲の有利な拡大を図るところにある
。
磁化曲線において、磁束密度Ｂが磁界の強さＨに対して
直線的に変化し、透磁率μが加える磁界の強さＨの大き
さに依存せずほぼ一定な材料を、恒透磁率材料と呼び、
通信機器用ろ波器や、装荷線輪、サイリスタの保護回路
およびパルス変圧器などに使用されている。
直線的に変化し、透磁率μが加える磁界の強さＨの大き
さに依存せずほぼ一定な材料を、恒透磁率材料と呼び、
通信機器用ろ波器や、装荷線輪、サイリスタの保護回路
およびパルス変圧器などに使用されている。
（従来の技術）
恒透磁率材料としては、従来、４５％Ｎ＋ −３０％Ｆ
ｅ−２５％Ｃｏバーミンバーや５０％Ｎｉ −５０％Ｆ
ｅイソバームなどが知られているが、これらはいずれも
恒透磁率範囲が５〜１００ｅまでという狭い範囲に限ら
れていた。
ｅ−２５％Ｃｏバーミンバーや５０％Ｎｉ −５０％Ｆ
ｅイソバームなどが知られているが、これらはいずれも
恒透磁率範囲が５〜１００ｅまでという狭い範囲に限ら
れていた。
この点、広い範囲にわたって恒透磁率を示す材料の製造
方法として、特開昭５７−１６９２０７号公報において
、Ｆｅ基非晶質合金薄帯の表面に酸化膜を形成させる方
法が、また特開昭５７−１６９２０８号公報においては
、含Ａβ・Ｆｅ基非晶質合金簿帯の表面にＡ１の酸化膜
を形成させる方法がそれぞれ提案された。
方法として、特開昭５７−１６９２０７号公報において
、Ｆｅ基非晶質合金薄帯の表面に酸化膜を形成させる方
法が、また特開昭５７−１６９２０８号公報においては
、含Ａβ・Ｆｅ基非晶質合金簿帯の表面にＡ１の酸化膜
を形成させる方法がそれぞれ提案された。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら非晶質合金は多くの場合焼鈍によって脆く
なることから、上記した方法によって恒透磁率の範囲を
広げる場合には、磁心を構成したあとに酸化膜形成のた
めの熱処理を施す必要があるところ、たとえば磁心とし
て巻鉄心を作る場合においては、薄帯の巻回し状態に応
じて、酸化反応の進行具合や酸化膜厚に違いが出てくる
ため、製品特性にばらつきが生じるところに問題を残し
ていた。
なることから、上記した方法によって恒透磁率の範囲を
広げる場合には、磁心を構成したあとに酸化膜形成のた
めの熱処理を施す必要があるところ、たとえば磁心とし
て巻鉄心を作る場合においては、薄帯の巻回し状態に応
じて、酸化反応の進行具合や酸化膜厚に違いが出てくる
ため、製品特性にばらつきが生じるところに問題を残し
ていた。
この発明は、上記の問題を有利に解決するもので、恒透
磁率を広い範囲にわたってしかも安定して発揮し得る非
晶質合金薄帯を提案することを目的とする。
磁率を広い範囲にわたってしかも安定して発揮し得る非
晶質合金薄帯を提案することを目的とする。
（問題点を解決するための手段）
さて発明者らは、単軸磁気異方性をもつ材料を磁化困難
軸の方向に磁化したときに恒透磁率が現われること、な
らびに非晶質磁性合金は誘導磁気異方性が大きいことに
着目し、非晶質合金薄帯に外部力を作用させることによ
って、その長手方向を磁化困難軸とすべく、種々の実験
を行った。
軸の方向に磁化したときに恒透磁率が現われること、な
らびに非晶質磁性合金は誘導磁気異方性が大きいことに
着目し、非晶質合金薄帯に外部力を作用させることによ
って、その長手方向を磁化困難軸とすべく、種々の実験
を行った。
その結果、１８０度磁壁をそなえ、薄帯長手方向に磁化
容易軸を有し、かつ正の磁歪常数をもつ非晶質合金薄帯
につき、その長手方向に圧縮力を付加した場合、９０度
磁壁が形成されてリボン長手方向は磁化困難軸となるこ
とが見出された。この点、ＣＯ基非晶質合金のような磁
歪が零の合金においては、上記したような外部応力によ
る磁壁の変化はなかった。
容易軸を有し、かつ正の磁歪常数をもつ非晶質合金薄帯
につき、その長手方向に圧縮力を付加した場合、９０度
磁壁が形成されてリボン長手方向は磁化困難軸となるこ
とが見出された。この点、ＣＯ基非晶質合金のような磁
歪が零の合金においては、上記したような外部応力によ
る磁壁の変化はなかった。
従って正の磁歪常数をもつ非晶質合金薄帯に対し、何ら
かの手段でリボンの長手方向に圧縮力を加えることがで
きるならば、リボン長手方向に磁化した場合に恒透磁率
が得られるはずである。
かの手段でリボンの長手方向に圧縮力を加えることがで
きるならば、リボン長手方向に磁化した場合に恒透磁率
が得られるはずである。
そこで発明者らは次に、薄帯に圧縮力を加える手段につ
いて種々検討したところ、かような手段としては、薄帯
表面に圧縮力付与型の絶縁被膜を被成させることが極め
て有効であることの知見を得た。
いて種々検討したところ、かような手段としては、薄帯
表面に圧縮力付与型の絶縁被膜を被成させることが極め
て有効であることの知見を得た。
この発明は、上記の知見に立脚するものである。
すなわちこの発明は、正の磁歪常数をもつ非晶質合金薄
帯の表面に、圧縮力付与型の絶縁被膜をそなえて成る、
恒透磁率に優れた非晶質合金薄帯である。
帯の表面に、圧縮力付与型の絶縁被膜をそなえて成る、
恒透磁率に優れた非晶質合金薄帯である。
この発明において、薄帯表面に被成すべき絶縁被膜とし
ては、ＳｉＯ２／Ｌｉ２Ｏのモル比が３〜４の範囲を満
足するけい酸リチウム水溶液を、基地薄帯の表面に塗布
、焼付けたのち、２５０℃以上、結晶化温度以下の温度
域における熱処理を経て得られた、膜厚：１．０〜５．
０μｍの圧縮力付与型の絶縁被膜がとりわけ有利に適合
する。
ては、ＳｉＯ２／Ｌｉ２Ｏのモル比が３〜４の範囲を満
足するけい酸リチウム水溶液を、基地薄帯の表面に塗布
、焼付けたのち、２５０℃以上、結晶化温度以下の温度
域における熱処理を経て得られた、膜厚：１．０〜５．
０μｍの圧縮力付与型の絶縁被膜がとりわけ有利に適合
する。
またこの発明において好適に用いることができる正の磁
歪常数をもつ非晶質合金薄帯としては、次のようなもの
がある。
歪常数をもつ非晶質合金薄帯としては、次のようなもの
がある。
Ｆｅを主成分とし、Ｂ、ＳｉおよびＣなどの一種または
二種以上を１５〜２０ａｔ％の範囲において含有するも
のであって、代表組成としては、Ｆｅ７ｓＢｓＳｉ ＋
２Ｃ＋＋ Ｆｅ７ｓＢ＋ 。
二種以上を１５〜２０ａｔ％の範囲において含有するも
のであって、代表組成としては、Ｆｅ７ｓＢｓＳｉ ＋
２Ｃ＋＋ Ｆｅ７ｓＢ＋ 。
５ｉ１２およびＦｅ ７７ ａｔ ２ Ｓｉ ＋ ｏｃ
＋などが挙げられる。なおこの種合金において磁歪常数
の大きさは合金中のＦｅｉにほぼ比例する。
＋などが挙げられる。なおこの種合金において磁歪常数
の大きさは合金中のＦｅｉにほぼ比例する。
以下、この発明を具体的に説明する。
まずこの発明の基礎となった実験結果について説明する
。
。
ｆｉｌ Ｏ−）’ｖ法によッテ、ｌ”ｅ ７８Ｂ１ ｏ
ｓｉ ＋ ２の組成になる幅： ｓｏｍｍ、厚み２２７
μｍの非晶質合金薄帯を作成した。
ｓｉ ＋ ２の組成になる幅： ｓｏｍｍ、厚み２２７
μｍの非晶質合金薄帯を作成した。
ついでこの薄帯表面に、Ｓ ！ ０２ ／ Ｌ、Ｉ ２
０のモル比を３．５に調整したけい酸リチウム水溶液（
８産化学製リチウムシリケートＬＳＳ−３５）を塗布し
、２００℃で３分間焼付けた。得られた被膜厚は約３μ
ｍであった。
０のモル比を３．５に調整したけい酸リチウム水溶液（
８産化学製リチウムシリケートＬＳＳ−３５）を塗布し
、２００℃で３分間焼付けた。得られた被膜厚は約３μ
ｍであった。
この段階における非晶質合金薄帯は延性に冨み、脆（は
なかった。
なかった。
次に、３５０℃で１時間の熱処理を施したところ、第１
図にＢ−８曲線を示したように、はぼ２５０ｅまでの広
い範囲にわたって恒透磁率が得られた。
図にＢ−８曲線を示したように、はぼ２５０ｅまでの広
い範囲にわたって恒透磁率が得られた。
ここにけい酸リチウム水溶液における５ｉ０２／Ｌｉ
２０のモル比が３に満だなしくと、得られる被膜の耐水
性および耐吸湿性が悪く、一方４を超えると被膜の密着
性が劣化し、とくに膜厚が５μｍに近い厚膜にすると被
膜の形成すら難しくなるので、５１０２／Ｌｉ ２０の
モル比は３〜４の範囲に限定する必要がある。
２０のモル比が３に満だなしくと、得られる被膜の耐水
性および耐吸湿性が悪く、一方４を超えると被膜の密着
性が劣化し、とくに膜厚が５μｍに近い厚膜にすると被
膜の形成すら難しくなるので、５１０２／Ｌｉ ２０の
モル比は３〜４の範囲に限定する必要がある。
またこの発明においては、上記したコーティング処理液
を、基地薄帯の表面に塗布ついで焼付けたのら、２５０
℃〜結晶化温結晶湿温域において熱処理を施すことが肝
要である。
を、基地薄帯の表面に塗布ついで焼付けたのら、２５０
℃〜結晶化温結晶湿温域において熱処理を施すことが肝
要である。
というのはかかる熱処理によって、基地薄帯は長手方向
に磁化容易軸が揃って単軸磁気異方性をもつようになる
と共に、一方で基地薄帯の表面に焼付けられた絶縁被膜
が十分に硬質化して該薄帯には圧縮力が付加されること
になり、その結果薄帯の長手方向は磁化困難軸となって
恒透磁率を呈するようになるからである。
に磁化容易軸が揃って単軸磁気異方性をもつようになる
と共に、一方で基地薄帯の表面に焼付けられた絶縁被膜
が十分に硬質化して該薄帯には圧縮力が付加されること
になり、その結果薄帯の長手方向は磁化困難軸となって
恒透磁率を呈するようになるからである。
ここに熱処理温度が２５０℃に満たないと、脱水が充分
に進まないため被膜の硬質化が難しく、それ故満足のい
く圧縮力の付加ができず、一方結晶化温度を超えると非
晶質状態を維持できず、所望の磁気特性が得られなくな
るので、熱処ｙＩＡｓ度は２５０℃〜結晶化温結晶湿温
に限定した。
に進まないため被膜の硬質化が難しく、それ故満足のい
く圧縮力の付加ができず、一方結晶化温度を超えると非
晶質状態を維持できず、所望の磁気特性が得られなくな
るので、熱処ｙＩＡｓ度は２５０℃〜結晶化温結晶湿温
に限定した。
なお表面被膜の膜厚が、１．０μｍに満たないと薄帯に
満足いくほどの圧縮力を付加することが難しく、一方５
．０μｍを超えると被膜の密着性が劣化するきらいにあ
るので、膜厚は１．θ〜５．０μｍ程度とするのが望ま
しい。
満足いくほどの圧縮力を付加することが難しく、一方５
．０μｍを超えると被膜の密着性が劣化するきらいにあ
るので、膜厚は１．θ〜５．０μｍ程度とするのが望ま
しい。
（作用）
この発明によって恒透磁率を呈する範囲が有利に拡大さ
れる理由は、非晶質合金薄帯の表面に被成した絶縁被膜
による該薄帯への圧縮力付与によって、薄帯長手方向が
磁化困難軸となることによる。
れる理由は、非晶質合金薄帯の表面に被成した絶縁被膜
による該薄帯への圧縮力付与によって、薄帯長手方向が
磁化困難軸となることによる。
なお被膜の硬質化をもたらす熱処理は、磁心組立ての前
でも勿論良いが、取扱いの容易さという点からは、磁心
組立て侵が一層好ましい。ここに磁心組立て後に熱処理
を施したとしても、薄帯表面には硬質化はしていないも
ののすでに被膜が焼付けられているので、従来のように
膜厚の違いなどによる特性のばらつきが生じることはな
い。
でも勿論良いが、取扱いの容易さという点からは、磁心
組立て侵が一層好ましい。ここに磁心組立て後に熱処理
を施したとしても、薄帯表面には硬質化はしていないも
ののすでに被膜が焼付けられているので、従来のように
膜厚の違いなどによる特性のばらつきが生じることはな
い。
（実施例）
実施例１
Ｆｅ ７ ［Ｉ Ｂ ＋ ｏ Ｓ ｉ ｌ ２ （ＤＩ
Ａ成ニｆｔル非ａ’Ｒ合金薄帯（結晶化温度：５４０℃
）の表面に、Ｓｉ ０２ ／Ｌｉ ２０のモル比を３．
５に調合したけい酸リチウム水溶液を塗布したのち、２
００℃で２分間焼付けた。このとき得られた被膜の膜厚
は、約４．０μｍであった。ついで窒素ガス気流中で３
８０℃、 １時間の焼鈍処理を施した。
Ａ成ニｆｔル非ａ’Ｒ合金薄帯（結晶化温度：５４０℃
）の表面に、Ｓｉ ０２ ／Ｌｉ ２０のモル比を３．
５に調合したけい酸リチウム水溶液を塗布したのち、２
００℃で２分間焼付けた。このとき得られた被膜の膜厚
は、約４．０μｍであった。ついで窒素ガス気流中で３
８０℃、 １時間の焼鈍処理を施した。
かくして得られた薄帯の磁化曲線について調べたところ
、約３５Ｑｅまで恒透磁率を呈した。
、約３５Ｑｅまで恒透磁率を呈した。
実施例２
乾燥膜厚を２．０μｍとする他は、実施例１と同様の処
理を施して絶縁被膜付き非晶質合金薄帯を作成した。
理を施して絶縁被膜付き非晶質合金薄帯を作成した。
かくして得られた薄帯は、約２００８まで恒透磁率を呈
した。
した。
比較例１
乾燥膜厚を０．１μｍとする他は実施例１と同様な処理
を施して絶縁被膜付き非晶質合金薄帯を作成したところ
、得られた薄帯の透磁率一定の範囲は３Ｑｅにも達しな
かった。
を施して絶縁被膜付き非晶質合金薄帯を作成したところ
、得られた薄帯の透磁率一定の範囲は３Ｑｅにも達しな
かった。
（発明の効果）
かくしてこの発明によれば、従来に比べて著しく広い範
囲にわたって恒透磁率を呈する非晶質合金薄帯を容易に
得ることができる。
囲にわたって恒透磁率を呈する非晶質合金薄帯を容易に
得ることができる。
第１図は、この発明に従う絶縁被膜付き非晶質合金薄帯
のＢ−Ｈ曲線図である。
のＢ−Ｈ曲線図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、正の磁歪常数をもつ非晶質合金薄帯の表面に、圧縮
力付与型の絶縁被膜をそなえて成る、恒透磁率に優れた
非晶質合金薄帯。 ２、圧縮力付与型の絶縁被膜が、ＳｉＯ＿２／Ｌｉ＿２
Ｏのモル比が３〜４の範囲を満足するけい酸リチウム水
溶液を、基地薄帯の表面に塗布、焼付けたのち、２５０
℃以上、結晶化温度以下の温度域における熱処理を経て
得た膜厚１．０〜５．０μｍの被膜である特許請求の範
囲第１項記載の非晶質合金薄帯。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21792285A JPS6280277A (ja) | 1985-10-02 | 1985-10-02 | 恒透磁率に優れた非晶質合金薄帯 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21792285A JPS6280277A (ja) | 1985-10-02 | 1985-10-02 | 恒透磁率に優れた非晶質合金薄帯 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6280277A true JPS6280277A (ja) | 1987-04-13 |
Family
ID=16711831
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21792285A Pending JPS6280277A (ja) | 1985-10-02 | 1985-10-02 | 恒透磁率に優れた非晶質合金薄帯 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6280277A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103056091A (zh) * | 2013-01-28 | 2013-04-24 | 青岛云路新能源科技有限公司 | 一种非晶、纳米晶带材表面在线绝缘涂层的方法及装置 |
-
1985
- 1985-10-02 JP JP21792285A patent/JPS6280277A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103056091A (zh) * | 2013-01-28 | 2013-04-24 | 青岛云路新能源科技有限公司 | 一种非晶、纳米晶带材表面在线绝缘涂层的方法及装置 |
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