JPS6288355A - Ic用抵抗体 - Google Patents
Ic用抵抗体Info
- Publication number
- JPS6288355A JPS6288355A JP60230209A JP23020985A JPS6288355A JP S6288355 A JPS6288355 A JP S6288355A JP 60230209 A JP60230209 A JP 60230209A JP 23020985 A JP23020985 A JP 23020985A JP S6288355 A JPS6288355 A JP S6288355A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layers
- layer
- conductor
- sheet resistance
- ohmic electrodes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D1/00—Resistors, capacitors or inductors
- H10D1/40—Resistors
- H10D1/43—Resistors having PN junctions
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D1/00—Resistors, capacitors or inductors
- H10D1/40—Resistors
Landscapes
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体ICに関し、特に半絶縁性化合物基板上
に形成する抵抗体に関する。
に形成する抵抗体に関する。
従来、GaAs等の半絶縁性化合物基板上に形成される
抵抗は第2図に示す如く、半絶縁性化合物基板11中に
イ・オン注入技術を用いn形層22を形成し、このn形
層の両端にオーム性電極23 、24が形成された構造
となっていた。
抵抗は第2図に示す如く、半絶縁性化合物基板11中に
イ・オン注入技術を用いn形層22を形成し、このn形
層の両端にオーム性電極23 、24が形成された構造
となっていた。
上述した従来の抵抗体は、比較的低い抵抗値を得るため
に低いシート抵抗値を持つn形層22が用いられていた
。しかし、ICが複雑になるに従い高い抵抗値も要求さ
れて来た。
に低いシート抵抗値を持つn形層22が用いられていた
。しかし、ICが複雑になるに従い高い抵抗値も要求さ
れて来た。
従来の構造で、高い抵抗値を得るためには電極間隔を長
くすれば良いが、寸法が大きくなり、ICとしては好ま
しくない。また、n形層のシート抵抗を高くすることに
より高抵抗値を向じ寸法で得ることも可能である。しか
し、後者の場合には、オーミック電極とのコンタクト抵
抗が大きくなる欠点を持つと共に、高温保管等により除
々にn形層とオーミック電極との間の反応が進み抵抗値
変動が起る欠点を有していた。
くすれば良いが、寸法が大きくなり、ICとしては好ま
しくない。また、n形層のシート抵抗を高くすることに
より高抵抗値を向じ寸法で得ることも可能である。しか
し、後者の場合には、オーミック電極とのコンタクト抵
抗が大きくなる欠点を持つと共に、高温保管等により除
々にn形層とオーミック電極との間の反応が進み抵抗値
変動が起る欠点を有していた。
本発明のIC用抵抗体は、シート抵抗が高い抵抗領域の
両端部に低シート抵抗の層を設け、これに電極が取り付
けられている。
両端部に低シート抵抗の層を設け、これに電極が取り付
けられている。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の実施例を示す断面図である。
第1図に示す如く、半絶縁性化合物基板21中にイオン
注入等によシ高いシート抵抗を有する導電層11を形成
し、この導電!−11の両端に、より低いシート抵抗を
有する導電層12.13を形成し、この低いシート抵抗
を有する導電層12上にオーミック性電極23.24を
形成して構成した抵抗体である。
注入等によシ高いシート抵抗を有する導電層11を形成
し、この導電!−11の両端に、より低いシート抵抗を
有する導電層12.13を形成し、この低いシート抵抗
を有する導電層12上にオーミック性電極23.24を
形成して構成した抵抗体である。
低いシート抵抗を有する導電層12 、13は、イオン
注入エネルギーを高くして深い注入層を形成することに
よ部表面空乏層の影響を少なくすることによっても、注
入層を多くすることによっても形成できる。また、これ
らの導電層はn形層でもP形層でも良く、n形層に対し
ては、AuGe等のオーミック電極が、またp形層の場
合にはAuZn等のオーミック電極が使用可能である。
注入エネルギーを高くして深い注入層を形成することに
よ部表面空乏層の影響を少なくすることによっても、注
入層を多くすることによっても形成できる。また、これ
らの導電層はn形層でもP形層でも良く、n形層に対し
ては、AuGe等のオーミック電極が、またp形層の場
合にはAuZn等のオーミック電極が使用可能である。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明の抵抗体は、オーミック電
極下に低いシート抵抗の導電層を有するため、高温保管
時のオーミンク電極と導電層との反応による抵抗変化が
小さく抑えられる。従って、数キロオームのシート抵抗
の導電層11を抵抗体に使用可能であり、この場合にも
十分に高い信頼度の抵抗体が得られる。
極下に低いシート抵抗の導電層を有するため、高温保管
時のオーミンク電極と導電層との反応による抵抗変化が
小さく抑えられる。従って、数キロオームのシート抵抗
の導電層11を抵抗体に使用可能であり、この場合にも
十分に高い信頼度の抵抗体が得られる。
第1図は本発明の抵抗体の断面図で、第2図は従来の抵
抗体の構成を示す断面図である。 11・・・・・・高いシート抵抗の導電層、12.13
・・・・・・低いシート抵抗の導電層、21・・・・・
・半絶縁性化合物基板、22・・・・・・導電層、23
、24・・・・−・オーミック電極。
抗体の構成を示す断面図である。 11・・・・・・高いシート抵抗の導電層、12.13
・・・・・・低いシート抵抗の導電層、21・・・・・
・半絶縁性化合物基板、22・・・・・・導電層、23
、24・・・・−・オーミック電極。
Claims (1)
- 半絶縁性化合物基板内に形成された抵抗領域を有し、こ
の抵抗領域の両端部に前記抵抗領域より低いシート抵抗
を有する層が形成され、この低いシート抵抗を有する層
上にオーミック電極が形成されたことを特徴とするIC
用抵抗体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60230209A JPS6288355A (ja) | 1985-10-15 | 1985-10-15 | Ic用抵抗体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60230209A JPS6288355A (ja) | 1985-10-15 | 1985-10-15 | Ic用抵抗体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6288355A true JPS6288355A (ja) | 1987-04-22 |
Family
ID=16904281
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60230209A Pending JPS6288355A (ja) | 1985-10-15 | 1985-10-15 | Ic用抵抗体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6288355A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63271965A (ja) * | 1987-04-28 | 1988-11-09 | Nec Corp | 化合物半導体基板の抵抗 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58107651A (ja) * | 1981-12-09 | 1983-06-27 | トムソン−セエスエフ | 論理回路の総合的製造方法及び該方法によつて製造される論理回路 |
| JPS58166757A (ja) * | 1982-03-29 | 1983-10-01 | Fujitsu Ltd | 抵抗の形成方法 |
-
1985
- 1985-10-15 JP JP60230209A patent/JPS6288355A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58107651A (ja) * | 1981-12-09 | 1983-06-27 | トムソン−セエスエフ | 論理回路の総合的製造方法及び該方法によつて製造される論理回路 |
| JPS58166757A (ja) * | 1982-03-29 | 1983-10-01 | Fujitsu Ltd | 抵抗の形成方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63271965A (ja) * | 1987-04-28 | 1988-11-09 | Nec Corp | 化合物半導体基板の抵抗 |
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