JPS6289640A - １，４，４ａ，９ａ―テトラヒドロアントラキノンの製造方法 - Google Patents
１，４，４ａ，９ａ―テトラヒドロアントラキノンの製造方法Info
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- JPS6289640A JPS6289640A JP7630586A JP7630586A JPS6289640A JP S6289640 A JPS6289640 A JP S6289640A JP 7630586 A JP7630586 A JP 7630586A JP 7630586 A JP7630586 A JP 7630586A JP S6289640 A JPS6289640 A JP S6289640A
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- Japan
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- thaq
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- naphthoquinone
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はナフタレンの接触気相酸化により得られた粗製
１，４−ナフトキノンの精製方法に関し、詳しくはナフ
タレンの接触気相酸化により得られた１、４−ナフトキ
ノン（以下、ＮＱと略す）と１．３−ブタジエン（以下
、ＢＤと略す）とをデイールス・アルダー反応させて得
られる１、４．４ａ、９ａ−テトラヒドロアントラキノ
ン（以下、ＴＨＡＱと略す）を製造するに当り、原料と
して用いるＮＱの精製方法に関するものである。
１，４−ナフトキノンの精製方法に関し、詳しくはナフ
タレンの接触気相酸化により得られた１、４−ナフトキ
ノン（以下、ＮＱと略す）と１．３−ブタジエン（以下
、ＢＤと略す）とをデイールス・アルダー反応させて得
られる１、４．４ａ、９ａ−テトラヒドロアントラキノ
ン（以下、ＴＨＡＱと略す）を製造するに当り、原料と
して用いるＮＱの精製方法に関するものである。
ＴＨＡＱはアントラキノンの他、１−アミノアントラキ
ノン、２−アミノアントラキノンなどのアントラキノン
誘導体、ベンズアントロンおよびアントロンの原料とし
て重要であるばかりでなく、最近ではアルカリパルプの
蒸解助剤としても注目されている。
ノン、２−アミノアントラキノンなどのアントラキノン
誘導体、ベンズアントロンおよびアントロンの原料とし
て重要であるばかりでなく、最近ではアルカリパルプの
蒸解助剤としても注目されている。
［従来の技術］
Ｔ）ＩＡＱは、一般にはナフタレンの酸化によって得ら
れたＮＱとＢＤとのデイールス・アルダー反応によって
製造されるが、通常この反応は有機溶媒中で行なわれる
。従って、ナフタレンの接触気相酸化により生成した反
応生成ガスを水洗捕修し、得られたＮＱを含む水性スラ
リーより芳香族炭化水素を用いて熱時ＮＱを抽出し、得
られたＮＱ溶液をそのまま次のデイールス・アルダー反
応にかけることが好都合である。次いで、その反応液か
らＴＨＡＱを分離する方法としては、該反応液を冷却せ
しめて晶出したＴＨＡＱの結晶を濾過等の手段で分離す
る方法が簡便である。
れたＮＱとＢＤとのデイールス・アルダー反応によって
製造されるが、通常この反応は有機溶媒中で行なわれる
。従って、ナフタレンの接触気相酸化により生成した反
応生成ガスを水洗捕修し、得られたＮＱを含む水性スラ
リーより芳香族炭化水素を用いて熱時ＮＱを抽出し、得
られたＮＱ溶液をそのまま次のデイールス・アルダー反
応にかけることが好都合である。次いで、その反応液か
らＴＨＡＱを分離する方法としては、該反応液を冷却せ
しめて晶出したＴＨＡＱの結晶を濾過等の手段で分離す
る方法が簡便である。
［発明が解決しようとする問題点］
しかしながら、本発明者等が工業用品位のＮＱを用いて
得たデイールス・アルダー反応液を冷却し、晶出して得
られたスラリーを濾過したところ、その濾過は著しく困
難を極め、かつ、取得した生成物には不純物が多く含ま
れ、ＴＨＡＱの純度が低かった。
得たデイールス・アルダー反応液を冷却し、晶出して得
られたスラリーを濾過したところ、その濾過は著しく困
難を極め、かつ、取得した生成物には不純物が多く含ま
れ、ＴＨＡＱの純度が低かった。
［問題点を解決するための手段１
本発明者等はその濾過が困難となる原因を鋭意研究した
結果、得られた反応混合物を冷却・晶出した場合に、Ｔ
ＨＡＱの比較的大きな結晶の他に微細な結晶がわずかで
あるが生成し、そのために濾過・洗滌が困難になり、濾
過ケーキ中の不純物含有賃を増大させていることがわか
った。さらに上記濾過を阻害している微細結晶の成因を
探究した結果、その微細結晶は１．４−ジヒドロアント
ラヒドロキノン（以下、ＤＨＡＨＱと略す）と１．４−
ジヒドロアントラキノン（ＤＨＡＱと略す）とのキンヒ
ドロンであることをつきとめた。このキンヒドロンは。
結果、得られた反応混合物を冷却・晶出した場合に、Ｔ
ＨＡＱの比較的大きな結晶の他に微細な結晶がわずかで
あるが生成し、そのために濾過・洗滌が困難になり、濾
過ケーキ中の不純物含有賃を増大させていることがわか
った。さらに上記濾過を阻害している微細結晶の成因を
探究した結果、その微細結晶は１．４−ジヒドロアント
ラヒドロキノン（以下、ＤＨＡＨＱと略す）と１．４−
ジヒドロアントラキノン（ＤＨＡＱと略す）とのキンヒ
ドロンであることをつきとめた。このキンヒドロンは。
ＴＨＡＱが異性化して出来るＤＨＡＨＱと、このＤＨＡ
ＨＱがさらにデイールス・アルダー反応中にＮＱ等の酸
化剤により酸化されて生ずるＤＨＡＱとの反応によって
生成することを見出だし、このキンヒドロンの生成を抑
えるためには、ＮＱ中に存在する異性化反応の触媒とな
る酸成分を除去しなければならないことを明らかにした
。本発明者等はナフタレンの接触気相酸化により製造し
た工業用品位のＮＱ中には酸成分としてフタル酸、安息
香酸の他にキノン系の酸性成分および無水フタル酸（後
の工程で水和されてフタル酸となる）が含まれることを
見出だし、これ等の酸成分を除去する方法を検討した。
ＨＱがさらにデイールス・アルダー反応中にＮＱ等の酸
化剤により酸化されて生ずるＤＨＡＱとの反応によって
生成することを見出だし、このキンヒドロンの生成を抑
えるためには、ＮＱ中に存在する異性化反応の触媒とな
る酸成分を除去しなければならないことを明らかにした
。本発明者等はナフタレンの接触気相酸化により製造し
た工業用品位のＮＱ中には酸成分としてフタル酸、安息
香酸の他にキノン系の酸性成分および無水フタル酸（後
の工程で水和されてフタル酸となる）が含まれることを
見出だし、これ等の酸成分を除去する方法を検討した。
その結果、ＮＱの芳香族炭化水素溶液を６０℃以上の温
水と ２回以上接触させるという簡単な方法によって醜
分が除去され、次の工程での濾過性が著しく改善される
ことがわかり、本発明を完成した。
水と ２回以上接触させるという簡単な方法によって醜
分が除去され、次の工程での濾過性が著しく改善される
ことがわかり、本発明を完成した。
即ち本発明は、ＮＱとＢＤとをディールス・アルグー反
応させてＴＨＡＱを製造する際に用いるＮＱの精製方法
において、ナフタレンの接触気相酸化により生成した反
応生成カスを水洗捕集し、得られたＮＱおよびフタル酸
を含む水性スラリーより芳香族炭化水素を用いて熱時Ｎ
Ｑを抽出し、得られたＮＱ溶液を、６０°Ｃ以上の温水
と２回以上接触させることにより醇分を除去することを
特徴とするＮＱの精製方法である。
応させてＴＨＡＱを製造する際に用いるＮＱの精製方法
において、ナフタレンの接触気相酸化により生成した反
応生成カスを水洗捕集し、得られたＮＱおよびフタル酸
を含む水性スラリーより芳香族炭化水素を用いて熱時Ｎ
Ｑを抽出し、得られたＮＱ溶液を、６０°Ｃ以上の温水
と２回以上接触させることにより醇分を除去することを
特徴とするＮＱの精製方法である。
本発明において用いられる原料ＮＱは、ナフタレンの接
触気相酸化によって得られる反応生成ガスから公知の分
離方法によって得られる。即ち反応生成ガスを水洗捕集
し、得られたＮＱおよびフタル酸を含む水性スラリーを
有機溶媒を用いてＮＱを抽出することによって得られる
。用いられる有機溶媒としては、ＮＱとＢＤおよび次の
工程で生成するＴＨＡＱに対して不活性であり、ＮＱお
よびＴＨＡＱが該溶媒に対して溶解度が大きく、常圧ま
たは減圧下に９０℃以下の温度で留出できる溶媒が好ま
しい、このような溶媒゛としては、ベンゼン、トルエン
、およびキシレンなどの芳香族炭化水素が挙げられる。
触気相酸化によって得られる反応生成ガスから公知の分
離方法によって得られる。即ち反応生成ガスを水洗捕集
し、得られたＮＱおよびフタル酸を含む水性スラリーを
有機溶媒を用いてＮＱを抽出することによって得られる
。用いられる有機溶媒としては、ＮＱとＢＤおよび次の
工程で生成するＴＨＡＱに対して不活性であり、ＮＱお
よびＴＨＡＱが該溶媒に対して溶解度が大きく、常圧ま
たは減圧下に９０℃以下の温度で留出できる溶媒が好ま
しい、このような溶媒゛としては、ベンゼン、トルエン
、およびキシレンなどの芳香族炭化水素が挙げられる。
芳香族炭化水素溶媒の使用量は、ＮＱおよびＴＨＡＱの
溶解度を考慮して適宜に決定される。
溶解度を考慮して適宜に決定される。
このようにして得られるＮＱの芳香族炭化水素溶液中に
はフタル酸、安息香酸、無水フタル酸およびＮＱなどの
重縮合などにより生成する酸成分が一般的に １〜５ｚ
含まれているが、前述の如く、ＴＨＡＱは高温において
酸の存在下にＤＭＡＨＱに異性化する。第２図は、ＴＨ
ＡＱ中の酸の含量が、ＴＨＡＱが異性化してＤＨＡＨＱ
を生成する速度に及ぼすＴＨＡＱ中の酸含量の影響を表
わすグラフであり、この異性化反応速度が酸成分の含量
に比例することを示している。 Ｄ）ＩＡＨＱが生成す
ると、容易にＤＨＡＱに酸化されてＤＨＡＨＱとのキン
ヒドロン組成物を生成し、次の工程のディールスΦアル
ダー反応を行なった後のＩｌ！過を困難にする。従って
、デイールス・アルダー反応後の濾過を容易にするため
には、この酸成分をある限度以下に除去する必要がある
。研究の結果、その限度は０．１ｚ以下であることがわ
かった。
はフタル酸、安息香酸、無水フタル酸およびＮＱなどの
重縮合などにより生成する酸成分が一般的に １〜５ｚ
含まれているが、前述の如く、ＴＨＡＱは高温において
酸の存在下にＤＭＡＨＱに異性化する。第２図は、ＴＨ
ＡＱ中の酸の含量が、ＴＨＡＱが異性化してＤＨＡＨＱ
を生成する速度に及ぼすＴＨＡＱ中の酸含量の影響を表
わすグラフであり、この異性化反応速度が酸成分の含量
に比例することを示している。 Ｄ）ＩＡＨＱが生成す
ると、容易にＤＨＡＱに酸化されてＤＨＡＨＱとのキン
ヒドロン組成物を生成し、次の工程のディールスΦアル
ダー反応を行なった後のＩｌ！過を困難にする。従って
、デイールス・アルダー反応後の濾過を容易にするため
には、この酸成分をある限度以下に除去する必要がある
。研究の結果、その限度は０．１ｚ以下であることがわ
かった。
この酸成分を除去するだめの処理方法としては、溶液当
り ０．１〜０．３倍量、好ましくは約０．２倍量の温
水を用い、強攪拌下、例えばミキサー・セトラ一方式で
洗浄温度６０℃以上、好ましくは６０〜９０℃、洗浄時
間または平均滞留時間５分以上、好ましくは１０〜３０
分で２回以上洗浄する必要がある。第１図は、ＮＱ温溶
液温水洗浄する場合における洗浄時間が酸（フタル酸お
よび無水フタル酸）の除去に及ぼす影響および二段洗浄
による酸の除去効果をそれぞれ表わすグラフである。但
し、第１図中の記号で、■は１段目の洗浄、■は引続い
て新しい温水で２段目の洗浄を行なったことを示し、Ａ
およびＢは洗浄温度が６０℃および６０°Ｃであること
を示している。第１図かられかるように、１回の洗浄で
は酸成分の除去は不充分である。また １回の洗浄では
使用する水の量を多くしても酸成分の除去は不充分であ
り、２回以上の洗浄が不可欠である。
り ０．１〜０．３倍量、好ましくは約０．２倍量の温
水を用い、強攪拌下、例えばミキサー・セトラ一方式で
洗浄温度６０℃以上、好ましくは６０〜９０℃、洗浄時
間または平均滞留時間５分以上、好ましくは１０〜３０
分で２回以上洗浄する必要がある。第１図は、ＮＱ温溶
液温水洗浄する場合における洗浄時間が酸（フタル酸お
よび無水フタル酸）の除去に及ぼす影響および二段洗浄
による酸の除去効果をそれぞれ表わすグラフである。但
し、第１図中の記号で、■は１段目の洗浄、■は引続い
て新しい温水で２段目の洗浄を行なったことを示し、Ａ
およびＢは洗浄温度が６０℃および６０°Ｃであること
を示している。第１図かられかるように、１回の洗浄で
は酸成分の除去は不充分である。また １回の洗浄では
使用する水の量を多くしても酸成分の除去は不充分であ
り、２回以上の洗浄が不可欠である。
さらに必要ならば洗浄水として炭酸水素ナトリウム水溶
液等の弱塩基性水溶液を用いてＮＱ温溶液洗浄すること
もさらに有利である。
液等の弱塩基性水溶液を用いてＮＱ温溶液洗浄すること
もさらに有利である。
本発明の方法によって得られた上記処理後のＮＱとＢＤ
とのディールスΦアルダー反応は、一般には芳香族溶媒
に対して２０〜４０％のＮＱ濃度、ＮＱに対して２．０
〜２．５モル倍のＢＤ、反応温度１１０〜１２０℃およ
び反応時間２．０〜３．５時間の反応条件下で公知の方
法に従って行われる。
とのディールスΦアルダー反応は、一般には芳香族溶媒
に対して２０〜４０％のＮＱ濃度、ＮＱに対して２．０
〜２．５モル倍のＢＤ、反応温度１１０〜１２０℃およ
び反応時間２．０〜３．５時間の反応条件下で公知の方
法に従って行われる。
上記反応終了後、反応液中に存在する過剰のＢＤはスト
リッピングにより除去される。即ち、加熱された反応液
に攪拌下に不活性ガス、例えば水蒸気または窒素を導入
してＢＤを追い出し、気化ガスを冷却・液化してＢ［ｌ
を回収する。
リッピングにより除去される。即ち、加熱された反応液
に攪拌下に不活性ガス、例えば水蒸気または窒素を導入
してＢＤを追い出し、気化ガスを冷却・液化してＢ［ｌ
を回収する。
脱ＢＤした後の反応液は、必要ならば３０℃以下の温度
にて濃縮し、５５〜Ｂ５重量２のＴＨＡＱ濃度に調節し
、ついで１０℃以上、好ましくは３０〜５０℃に冷却し
ＴＨＡＱを晶出せしめる。冷却温度を１０℃以下にする
ことは、得られるＴＨＡＱの純度が低下するので好まし
くない。晶出したＴＨＡＱの結晶は濾過、又は遠心分離
等の公知の分離手段で分離し、ケーキ量に対して約０．
１〜０．３倍量の溶媒で洗浄して乾燥しＴＨＡＱ結晶を
得る。
にて濃縮し、５５〜Ｂ５重量２のＴＨＡＱ濃度に調節し
、ついで１０℃以上、好ましくは３０〜５０℃に冷却し
ＴＨＡＱを晶出せしめる。冷却温度を１０℃以下にする
ことは、得られるＴＨＡＱの純度が低下するので好まし
くない。晶出したＴＨＡＱの結晶は濾過、又は遠心分離
等の公知の分離手段で分離し、ケーキ量に対して約０．
１〜０．３倍量の溶媒で洗浄して乾燥しＴＨＡＱ結晶を
得る。
本発明の方法で精製されたＮＱを用いた場合、 １回の
工程でＴＨＡＱとして回収される量は晶出前の反応液中
のＴＨＡＱ量の約４０％程度となる。従って該晶出結晶
の回収率を向上させるために分離した後の濾液を次の反
応液に循環使用する方法が採られる。この場合ＴＨＡＱ
の品位を考慮し濾液の系外除去量が決定される。
工程でＴＨＡＱとして回収される量は晶出前の反応液中
のＴＨＡＱ量の約４０％程度となる。従って該晶出結晶
の回収率を向上させるために分離した後の濾液を次の反
応液に循環使用する方法が採られる。この場合ＴＨＡＱ
の品位を考慮し濾液の系外除去量が決定される。
［作用および効果１
本発明によれば、ＮＱの芳香族炭化水素溶液を６０°Ｃ
以上の温水と ２回以上接触させるという簡単な操作で
ＢＤのデイールス・アルダー反応の際の副反応を抑制し
、得られるＴＨＡＱの結晶の慮過を容易にし、かつ、そ
の純度を高める効果がある。その作用は明らかではない
が、酸成分の含有量を低下させるためには、 ２段の温
水洗浄が必要である。本発明によれば、容易に純度の高
いＮＱが得られ、これを用いて高純度のＴＨＡＱを有利
に製造することができる。
以上の温水と ２回以上接触させるという簡単な操作で
ＢＤのデイールス・アルダー反応の際の副反応を抑制し
、得られるＴＨＡＱの結晶の慮過を容易にし、かつ、そ
の純度を高める効果がある。その作用は明らかではない
が、酸成分の含有量を低下させるためには、 ２段の温
水洗浄が必要である。本発明によれば、容易に純度の高
いＮＱが得られ、これを用いて高純度のＴＨＡＱを有利
に製造することができる。
また、反応液中の酸成分およびそれに起因する副反応物
が少ないので、反応液の再循環による不純物の蓄積が少
なく、再循環に際しての系外除去量を減少させることが
できる。
が少ないので、反応液の再循環による不純物の蓄積が少
なく、再循環に際しての系外除去量を減少させることが
できる。
［実施例］
以下、本発明の方法を実施例により具体的に説明する。
実施例の中で使用される「部」および「％」は特にこと
わりがない限り重量部および重量％を表わす。
わりがない限り重量部および重量％を表わす。
実施例
ナフタレンの接触気相酸化反応生成ガスを水洗捕集し、
得られたＮＱを含む水性スラリーにオルソキシレンを加
え、加熱して約６０℃でＮＱを抽出して得たＮＱの２０
％溶液を、１重量部に対し０．２部の温水を使用し６０
℃で強攪拌下に１５分間混合し、同温度に１０分間静置
し水相を分離した後、あらたに０．２部の温水を使用し
同様の洗浄操作を行った。
得られたＮＱを含む水性スラリーにオルソキシレンを加
え、加熱して約６０℃でＮＱを抽出して得たＮＱの２０
％溶液を、１重量部に対し０．２部の温水を使用し６０
℃で強攪拌下に１５分間混合し、同温度に１０分間静置
し水相を分離した後、あらたに０．２部の温水を使用し
同様の洗浄操作を行った。
得られたＮＱ温溶液は、ＮＱに対して０．０１％のフタ
ル酸および０．０３％の安息香酸が含有されていた。
ル酸および０．０３％の安息香酸が含有されていた。
該ＮＱ温溶液減圧下にＮＱ濃度４０％に濃縮し該濃縮液
１００部およびＢ［］３３部をオートクレーブに仕込
み、反応温度 １２０℃で２．５時間ディールス舎アル
ダー反応を行なった。反応終了後、過剰のＢＤを放圧し
た後、液温を １１０℃に保って攪拌下に窒素ガスを吹
込み、３０分間ブタジェンをストリッピングした。得ら
れた反応液にはＴＨＡＱ５１．７部およびＤＨＡＱｔ、
ａ部が含まれていた。
１００部およびＢ［］３３部をオートクレーブに仕込
み、反応温度 １２０℃で２．５時間ディールス舎アル
ダー反応を行なった。反応終了後、過剰のＢＤを放圧し
た後、液温を １１０℃に保って攪拌下に窒素ガスを吹
込み、３０分間ブタジェンをストリッピングした。得ら
れた反応液にはＴＨＡＱ５１．７部およびＤＨＡＱｔ、
ａ部が含まれていた。
該反応液を減圧下にヒドロアントラキノン類（ＴＨＡＱ
＋ＤＨＡＱ＋ＤＨＡＨＱ ）濃度８ｏ＄！テ儂縮し、’
７３＜イて６０℃から４５℃まで約１時間で冷却し、Ｔ
ＨＡＱを晶出させた。晶出した結晶をヌッチェを用いて
濾別し、次いでメツチェ上で４部のオキソキシレンを使
用して濾過ケーキを洗浄し、含油率２２％の湿潤ケーキ
を得た。該ケーキを減圧乾燥してＴＨＡＱ２２．０部を
得た。該結晶を高速液体クロマトグラフィーニヨ４Ｊ分
析シタ結果、ＴＨＡＱ９４＄ 、 ＤＨＡＱ４ｇ、アン
トラキノン０．５％、不純物１．５ｚであった。
＋ＤＨＡＱ＋ＤＨＡＨＱ ）濃度８ｏ＄！テ儂縮し、’
７３＜イて６０℃から４５℃まで約１時間で冷却し、Ｔ
ＨＡＱを晶出させた。晶出した結晶をヌッチェを用いて
濾別し、次いでメツチェ上で４部のオキソキシレンを使
用して濾過ケーキを洗浄し、含油率２２％の湿潤ケーキ
を得た。該ケーキを減圧乾燥してＴＨＡＱ２２．０部を
得た。該結晶を高速液体クロマトグラフィーニヨ４Ｊ分
析シタ結果、ＴＨＡＱ９４＄ 、 ＤＨＡＱ４ｇ、アン
トラキノン０．５％、不純物１．５ｚであった。
比較例
実施例と同様にして得たＮＱ温溶液０．３部の温水を使
用して１回だけ洗浄した。得られたＮＱ温溶液はＮＱに
対して０．１２％のフタル酸、０．１５％の無水フタル
酸および０．０３％の安息香酸が含有されていた。該Ｎ
Ｑ温溶液用い実施例に従ってデイールス・アルダー反応
を行い、反応終了後過剰のＨＤを除去した後、実施例と
同様に冷却し、晶出した結晶をヌッチェで濾過したが、
実施例の場合に比べ極度に濾過は困難であり、約１０倍
の濾過時間を要した。得られた濾過ケーキを４部のオル
ソキシレンで洗浄して得られたケーキの含油率は４５１
であり、該ケーキを乾燥して得られた２２．４部の黒紫
色の結晶の分析結果は、ＴＨＡＱ８５％ 、 ＤＨＡＱ
１１％ 、 ７７トラキノンＩＬ 不純物３ｔであった
。
用して１回だけ洗浄した。得られたＮＱ温溶液はＮＱに
対して０．１２％のフタル酸、０．１５％の無水フタル
酸および０．０３％の安息香酸が含有されていた。該Ｎ
Ｑ温溶液用い実施例に従ってデイールス・アルダー反応
を行い、反応終了後過剰のＨＤを除去した後、実施例と
同様に冷却し、晶出した結晶をヌッチェで濾過したが、
実施例の場合に比べ極度に濾過は困難であり、約１０倍
の濾過時間を要した。得られた濾過ケーキを４部のオル
ソキシレンで洗浄して得られたケーキの含油率は４５１
であり、該ケーキを乾燥して得られた２２．４部の黒紫
色の結晶の分析結果は、ＴＨＡＱ８５％ 、 ＤＨＡＱ
１１％ 、 ７７トラキノンＩＬ 不純物３ｔであった
。
第１図は、ＮＱ温溶液温水洗浄する場合における洗浄時
間が酸（フタル酸および無水フタル酸）の除去に及ぼす
影響および二段洗浄による酸の除去効果をそれぞれ表わ
すグラフである０図中の記号で、■は１段目の洗浄、■
は引続いて新しい温水で２段目の洗浄を行なったことを
示し、ＡおよびＢは洗浄温度６０℃および６０℃である
ことを示している。 第２図は、ＴＨＡＱ中の酸の含量が、ＴＨＡＱが異性化
してＤＨＡＨＱを生成する速度に及ぼす影響を表わすグ
ラフである。
間が酸（フタル酸および無水フタル酸）の除去に及ぼす
影響および二段洗浄による酸の除去効果をそれぞれ表わ
すグラフである０図中の記号で、■は１段目の洗浄、■
は引続いて新しい温水で２段目の洗浄を行なったことを
示し、ＡおよびＢは洗浄温度６０℃および６０℃である
ことを示している。 第２図は、ＴＨＡＱ中の酸の含量が、ＴＨＡＱが異性化
してＤＨＡＨＱを生成する速度に及ぼす影響を表わすグ
ラフである。
Claims (1)
- （１）１，４−ナフトキノンと１，３−ブタジエンとを
デイールス・アルダー反応させて１，４，４ａ，９ａ−
テトラヒドロアントラキノンを製造する際に用いる１，
４−ナフトキノンの精製方法において、ナフタレンの接
触気相酸化により生成した反応生成ガスを水洗捕集し、
得られた１，４−ナフトキノンおよびフタル酸を含む水
性スラリーより芳香族炭化水素を用いて熱時１，４−ナ
フトキノンを抽出し、得られた１，４−ナフトキノン溶
液を、６０℃以上の温水と２回以上接触させることによ
り酸分を除去することを特徴とする１，４−ナフトキノ
ンの精製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7630586A JPS6289640A (ja) | 1986-04-02 | 1986-04-02 | １，４，４ａ，９ａ―テトラヒドロアントラキノンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7630586A JPS6289640A (ja) | 1986-04-02 | 1986-04-02 | １，４，４ａ，９ａ―テトラヒドロアントラキノンの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12353080A Division JPS5748936A (en) | 1980-09-08 | 1980-09-08 | Preparation of 1,4,4a,9a-tetrahydroanthraquinone |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6289640A true JPS6289640A (ja) | 1987-04-24 |
| JPS6346060B2 JPS6346060B2 (ja) | 1988-09-13 |
Family
ID=13601657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7630586A Granted JPS6289640A (ja) | 1986-04-02 | 1986-04-02 | １，４，４ａ，９ａ―テトラヒドロアントラキノンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6289640A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5524143A (en) * | 1978-08-11 | 1980-02-21 | Kawasaki Kasei Chem Ltd | Purification of naphthoquinone |
-
1986
- 1986-04-02 JP JP7630586A patent/JPS6289640A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5524143A (en) * | 1978-08-11 | 1980-02-21 | Kawasaki Kasei Chem Ltd | Purification of naphthoquinone |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6346060B2 (ja) | 1988-09-13 |
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