JPS6290645A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/04—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with macromolecular additives; with layer-forming substances
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- Materials Engineering (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、親水性コロイド層に、合成高分子を含有させ
たハロゲン化銀写真感光材料に関するもので、さらに詳
しくは、親水性コロイド層に、ラテックスを含有させた
ハロゲン化銀写真感光材料に関するものである。
たハロゲン化銀写真感光材料に関するもので、さらに詳
しくは、親水性コロイド層に、ラテックスを含有させた
ハロゲン化銀写真感光材料に関するものである。
[発明の前項]
一般に、ラテックスをゼラチンと共にハロゲン化銀写真
感光材料のバインダーとして使用し、ゼラチン含量の低
減を図ると共に、皮膜の物性、例えば、現像前後の寸度
安定性、湿熱に対する寸度安定性、柔軟性、耐圧性、乾
燥性を向上することが知られている。しかしながら、ラ
テックスの部用は例えば、乳剤の減感、現像時の失透、
現a処理後の色素の色汚染、印刷用感材の網点品質の劣
化等、写真性能等に重大な影響を及ぼずのでその解決に
種々の改良が試みられている。例えば、米国特許第3,
525,620号、ベルギー国特許第768,558号
、米国特許第3,142,568号、同第3,323,
286号、ベルギー国特許第708,347号、ドイツ
国特許第2,049.150号、英国特許第1,498
,697号、特開昭59−50969号等に記載されて
いるように、特定の活性剤を用いてラテックスを重合し
、これらの欠点を改良しようとするものがある。しかし
ながら該技術は、使用される乳剤の種類が限定され、ま
た、カブリ、感度、現像特性に影響を全く与えないもの
は皆無であった。低分子mの界面活性剤を用いて、乳化
重合したラテックスは、そのラテックスの種類と使用す
るハロゲン化銀乳剤の組み合わせが限定され、しかも乳
剤中に含有できるラテックスの口が制限された。
感光材料のバインダーとして使用し、ゼラチン含量の低
減を図ると共に、皮膜の物性、例えば、現像前後の寸度
安定性、湿熱に対する寸度安定性、柔軟性、耐圧性、乾
燥性を向上することが知られている。しかしながら、ラ
テックスの部用は例えば、乳剤の減感、現像時の失透、
現a処理後の色素の色汚染、印刷用感材の網点品質の劣
化等、写真性能等に重大な影響を及ぼずのでその解決に
種々の改良が試みられている。例えば、米国特許第3,
525,620号、ベルギー国特許第768,558号
、米国特許第3,142,568号、同第3,323,
286号、ベルギー国特許第708,347号、ドイツ
国特許第2,049.150号、英国特許第1,498
,697号、特開昭59−50969号等に記載されて
いるように、特定の活性剤を用いてラテックスを重合し
、これらの欠点を改良しようとするものがある。しかし
ながら該技術は、使用される乳剤の種類が限定され、ま
た、カブリ、感度、現像特性に影響を全く与えないもの
は皆無であった。低分子mの界面活性剤を用いて、乳化
重合したラテックスは、そのラテックスの種類と使用す
るハロゲン化銀乳剤の組み合わせが限定され、しかも乳
剤中に含有できるラテックスの口が制限された。
特開昭55−50240号、特公昭55−47371号
、同54−19772号、特開昭48−52882号、
同48−52883号などには上記の問題を解決するた
めに、乳化重合時に高分子保護コムイドを用いたラテッ
クスをハロゲン化銀乳剤に含有せしめる技術が開示され
ている。
、同54−19772号、特開昭48−52882号、
同48−52883号などには上記の問題を解決するた
めに、乳化重合時に高分子保護コムイドを用いたラテッ
クスをハロゲン化銀乳剤に含有せしめる技術が開示され
ている。
これらのラテックスは、写真性能に与える影響は少ない
ものの、現像時の失透性があるものや、塗布液粘度の増
加、重層性の悪化、塗布時のハジキなど写真材料の製造
上の問題がある。このように、皮膜物性改良のためにポ
リマーラテックスを用いるのに、写真性能上からは高分
子保護コロイドラテックスを用いるのが有利であるが、
現作時における失透性や、塗布時に増粘やハジキ故障が
発生するなど製造工程上の問題点が多く、未だ高分子保
護コロイドラテックスを用いた写真材料は、実用化に至
っていない。
ものの、現像時の失透性があるものや、塗布液粘度の増
加、重層性の悪化、塗布時のハジキなど写真材料の製造
上の問題がある。このように、皮膜物性改良のためにポ
リマーラテックスを用いるのに、写真性能上からは高分
子保護コロイドラテックスを用いるのが有利であるが、
現作時における失透性や、塗布時に増粘やハジキ故障が
発生するなど製造工程上の問題点が多く、未だ高分子保
護コロイドラテックスを用いた写真材料は、実用化に至
っていない。
[発明の目的]
本発明の目的は、ラテックスを用いても写真特性及び写
真感光材料の製造上問題がなく、しかも寸度安定性等の
皮膜物性の優れたハロゲン化銀写真感光材料を促供する
ことである。
真感光材料の製造上問題がなく、しかも寸度安定性等の
皮膜物性の優れたハロゲン化銀写真感光材料を促供する
ことである。
[発明の構成]
本発明の前記目的は支持体上に少なくとも一層のハロゲ
ン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料におい
て、前記ハロゲン化銀乳剤の少なくとも一層に天然水溶
性ポリマーおよびその誘導体から選ばれる少なくとも一
つによって保護コロイド化されたラテックスを含有せし
めることによって達成される。
ン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料におい
て、前記ハロゲン化銀乳剤の少なくとも一層に天然水溶
性ポリマーおよびその誘導体から選ばれる少なくとも一
つによって保護コロイド化されたラテックスを含有せし
めることによって達成される。
[発明の具体的構成]
本発明に用いられる天然水溶性ポリマーとしては、水溶
性高分子水分散型樹脂の総合技術寅料集(経営n発セン
ター出版部)に詳しく記載されているが、リグニン、部
分、プルラン、セルロース、アルギン酸、デキストラン
、デキストリン、グアーガム、アラビアゴム、グリコー
ゲン、ラミナラン、リグニン、ニゲラン等、及びその誘
導体が挙げられる。
性高分子水分散型樹脂の総合技術寅料集(経営n発セン
ター出版部)に詳しく記載されているが、リグニン、部
分、プルラン、セルロース、アルギン酸、デキストラン
、デキストリン、グアーガム、アラビアゴム、グリコー
ゲン、ラミナラン、リグニン、ニゲラン等、及びその誘
導体が挙げられる。
また天然水溶性ポリマーの誘導体としては、特に、スル
ホン化、カルボキシ化、リン酸化、スルホアルキレン化
、またはカルボキシアルキレン化、アルキルリン酸化し
たもの、及びその塩が好ましい。
ホン化、カルボキシ化、リン酸化、スルホアルキレン化
、またはカルボキシアルキレン化、アルキルリン酸化し
たもの、及びその塩が好ましい。
本発明において、前記天然水溶性ポリマーは、 −
2種以上併用して用いてもよい。また、天然水溶性ポリ
マーの中では、グルコース重合体、及び、その誘導体が
好ましく、グルコース重合体、及び、その誘導体の中で
も、澱粉、グリコーゲン、セルロース、リグニン、1キ
ストラン、ニゲラン等が好ましく、特に、デキストラン
、及び、その誘導体が好ましい。
2種以上併用して用いてもよい。また、天然水溶性ポリ
マーの中では、グルコース重合体、及び、その誘導体が
好ましく、グルコース重合体、及び、その誘導体の中で
も、澱粉、グリコーゲン、セルロース、リグニン、1キ
ストラン、ニゲラン等が好ましく、特に、デキストラン
、及び、その誘導体が好ましい。
デキストランは、α−1,6結合したD−グルコースの
重合体であり、一般に、糖類の存在下で、デキストラン
生産菌を培養することによって得るが、ロイコノストッ
ク、メゼンテロイデス等のデキストラン生産菌の培養液
より、分離したデキストランシュクラーゼを糖類と作用
させて得ることができる。また、これらのネイティブデ
キストランを酸やアルカリ酵素による、部分分解重合法
によって、所望の分子」まで低下させ、極限粘度が0.
03〜2.5の範囲のものも得ることができる。
重合体であり、一般に、糖類の存在下で、デキストラン
生産菌を培養することによって得るが、ロイコノストッ
ク、メゼンテロイデス等のデキストラン生産菌の培養液
より、分離したデキストランシュクラーゼを糖類と作用
させて得ることができる。また、これらのネイティブデ
キストランを酸やアルカリ酵素による、部分分解重合法
によって、所望の分子」まで低下させ、極限粘度が0.
03〜2.5の範囲のものも得ることができる。
また、デキストラン変性物とは、デキストラン分子中に
硫酸基が、エステル結合で存在するデキストラン硫酸エ
ステル、及び、その塩、デキストラン分子中にカルボキ
シアルキル基がエーテル結合で存在するカルボキシアル
キルデキストラン、デキストラン分子中に硫MWがエス
テル結合でカルボキシアルキル基がエーテル結合で存在
するカルボキシアルキルデキストラン58Faエステル
、及び、その塩、デキストラン分子中に燐酸基がエステ
ル結合して、存在しているデキストラン燐酸エステル、
及び、その塩、デキストラン分子中に、ハイドロオキシ
アルキル基が導入された、ハイドロオキシアルキルデキ
ストランなどが挙げられる。
硫酸基が、エステル結合で存在するデキストラン硫酸エ
ステル、及び、その塩、デキストラン分子中にカルボキ
シアルキル基がエーテル結合で存在するカルボキシアル
キルデキストラン、デキストラン分子中に硫MWがエス
テル結合でカルボキシアルキル基がエーテル結合で存在
するカルボキシアルキルデキストラン58Faエステル
、及び、その塩、デキストラン分子中に燐酸基がエステ
ル結合して、存在しているデキストラン燐酸エステル、
及び、その塩、デキストラン分子中に、ハイドロオキシ
アルキル基が導入された、ハイドロオキシアルキルデキ
ストランなどが挙げられる。
ハロゲン化銀写真感光材料に、これらのデキストラン類
を使用するのは、特公昭35−11989号、米国特許
第3.762.924号、特公昭45−12820号、
同45−18418号、同45−40149号、同46
−31192号に記載されているように公知であり、こ
れらのデキストラン類を、そのままハロゲン化銀乳剤、
又は、ゼラチン層に含有させて、現像された銀画像の被
覆力の改良や、最高温度、コントラストを向上させてい
る。これらのデキストラン類とその誘導体の製造方法に
ついては、これらの特許に詳細に記載されている。
を使用するのは、特公昭35−11989号、米国特許
第3.762.924号、特公昭45−12820号、
同45−18418号、同45−40149号、同46
−31192号に記載されているように公知であり、こ
れらのデキストラン類を、そのままハロゲン化銀乳剤、
又は、ゼラチン層に含有させて、現像された銀画像の被
覆力の改良や、最高温度、コントラストを向上させてい
る。これらのデキストラン類とその誘導体の製造方法に
ついては、これらの特許に詳細に記載されている。
ラテックスの合成に用いるデキストラン類の1は、仕込
み七ツマ−の1mに対して、100vt%〜0、1wt
%まで任意のmで用いることができるが、多量に用いる
と、粘度が増加し、これを写真用コロイド液に添加する
と、増粘して、塗布が難しくなる。また、あまり少量し
か用いないと、ラテックスの安定性が悪くなる。
み七ツマ−の1mに対して、100vt%〜0、1wt
%まで任意のmで用いることができるが、多量に用いる
と、粘度が増加し、これを写真用コロイド液に添加する
と、増粘して、塗布が難しくなる。また、あまり少量し
か用いないと、ラテックスの安定性が悪くなる。
従って好ましい、デキストラン類の使用旧は、仕込みモ
ノマーのlff1に対して、3owt%〜0、1wt%
で、さらに、好ましくは、15vt%〜0、5wt%で
ある。
ノマーのlff1に対して、3owt%〜0、1wt%
で、さらに、好ましくは、15vt%〜0、5wt%で
ある。
これらデキストラン、及び、その変性物の中で、特に好
ましいのtよ、ラテックスの分散安定性の点で、アニオ
ン性基が導入された、デキストラン硫酸エステル、カル
ボキシアルキルデキストラン硫酸エステル、デキストラ
ン燐酸エステルであり、中でも、デキストラン@酸エス
テルが最も好ましい。
ましいのtよ、ラテックスの分散安定性の点で、アニオ
ン性基が導入された、デキストラン硫酸エステル、カル
ボキシアルキルデキストラン硫酸エステル、デキストラ
ン燐酸エステルであり、中でも、デキストラン@酸エス
テルが最も好ましい。
これらデキストラン変性物の合成は、前述のデキストラ
ンを原料とし、ピリジンあるいは、ホルムアミドの如き
塩酸性有m溶媒の存在下においてクロルスルフォン酸な
どの硫酸化剤を反応させてデキストラン硫酸エステルを
得ることができる。
ンを原料とし、ピリジンあるいは、ホルムアミドの如き
塩酸性有m溶媒の存在下においてクロルスルフォン酸な
どの硫酸化剤を反応させてデキストラン硫酸エステルを
得ることができる。
さらに、モノクロルカルボン酸等のカルボキシアルキル
化剤と反応させると、カルボキシアルキルデキストラン
硫酸エステルが得られる。また、デキストランを原料と
して、アルカリ下でモノクロルカルボン酸等のカルボキ
シアルキル化剤と反応させて、カルボキシアルキルデキ
ストランを得ることができる。さらに、これをピリジン
あるいはホルムアミドの如き塩基性溶媒の存在下で、ク
ロルスルホン酸等の硫化剤を反応さぜれば、やはりカル
ボキシアルキルデキストラン 得ることができる。これにナトリウム・カリウム等のア
ルカリ金属の酸化物、カルシュラム・マグネシュウム等
のアルカリ土金属の酸化物または水酸化物、アンモニア
等を反応させればそれぞれに対応するデキストラン@酸
エステル、カルボキシアルキルV41!2エステルの塩
が得られる。
化剤と反応させると、カルボキシアルキルデキストラン
硫酸エステルが得られる。また、デキストランを原料と
して、アルカリ下でモノクロルカルボン酸等のカルボキ
シアルキル化剤と反応させて、カルボキシアルキルデキ
ストランを得ることができる。さらに、これをピリジン
あるいはホルムアミドの如き塩基性溶媒の存在下で、ク
ロルスルホン酸等の硫化剤を反応さぜれば、やはりカル
ボキシアルキルデキストラン 得ることができる。これにナトリウム・カリウム等のア
ルカリ金属の酸化物、カルシュラム・マグネシュウム等
のアルカリ土金属の酸化物または水酸化物、アンモニア
等を反応させればそれぞれに対応するデキストラン@酸
エステル、カルボキシアルキルV41!2エステルの塩
が得られる。
デキストランは無水グルコース単位当り置換され得る水
酸基が3個あるから、理論的には最大の置換度が3まで
の硫酸エステル基及びカルボキシアルキル基を置換する
ことができるが、反応条件を選択することにより置換度
3以下の範囲において任意の置換度のものを製造するこ
とができる。
酸基が3個あるから、理論的には最大の置換度が3まで
の硫酸エステル基及びカルボキシアルキル基を置換する
ことができるが、反応条件を選択することにより置換度
3以下の範囲において任意の置換度のものを製造するこ
とができる。
しかし硫酸エステル基とカルボキシアルキル基の置換度
の和は3を越えることはできない。
の和は3を越えることはできない。
このようにして製造されるカルボキシアルキルデキスト
ラン ボキシアルキルデキストラン硫酸エステルは原料デキス
トランの極限粘度及び生成物の硫酸エステル置換度とカ
ルボキシアルキル置換度の種々の組合わせにより多種類
製造することができる。
ラン ボキシアルキルデキストラン硫酸エステルは原料デキス
トランの極限粘度及び生成物の硫酸エステル置換度とカ
ルボキシアルキル置換度の種々の組合わせにより多種類
製造することができる。
保護コロイドとは、疎水性粒子表面にあって、饗
疎水性粒子を水に安定に分散させる能力のある親水性高
分子のことである。
分子のことである。
製造された保護コロイドラテックス液が、疎水性粒子と
デキストラン、又は、その誘導体の車なる混合物ではな
く、デキストラン、又は、その誘導体が保護コロイドと
して作用していることは、疎水性粒子の分散安定性が向
上すること、親水性高分子の水溶液の粘度よりも、保護
コロイドラテックス液の粘度の方が低いことなどで判る
。
デキストラン、又は、その誘導体の車なる混合物ではな
く、デキストラン、又は、その誘導体が保護コロイドと
して作用していることは、疎水性粒子の分散安定性が向
上すること、親水性高分子の水溶液の粘度よりも、保護
コロイドラテックス液の粘度の方が低いことなどで判る
。
本発明の安定なラテックスは、具体的には、下記の方法
によって得ることができる。
によって得ることができる。
■予め重合性不飽和化合物を重合して得た樹脂をそのま
ま、あるいは水混和性有機溶剤に溶かした液を水又は水
混和性有機溶剤を含む水溶液に分散し、天然水溶性高分
子を添加して得る。
ま、あるいは水混和性有機溶剤に溶かした液を水又は水
混和性有機溶剤を含む水溶液に分散し、天然水溶性高分
子を添加して得る。
■ざらには、予め重合性不飽和化合物を重合して得た樹
脂をそのまま、あるいは水混和性有機溶剤媒剤に溶かし
た液を、天然水溶性高分子を溶かした水溶液に分散して
得る。
脂をそのまま、あるいは水混和性有機溶剤媒剤に溶かし
た液を、天然水溶性高分子を溶かした水溶液に分散して
得る。
■少量の界面活性剤を用いて重合性不飽和化合物を水中
で乳化重合し、その中に天然水溶性高分子を添加して得
る。
で乳化重合し、その中に天然水溶性高分子を添加して得
る。
■天然水溶性高分子を水又は、水混和性有機溶剤を含有
する水溶液に溶かし、その中に重合性不飽和化合物を加
え重合して得る。
する水溶液に溶かし、その中に重合性不飽和化合物を加
え重合して得る。
前記■の方法に於いて、天然水溶性高分子を添加後、液
の温度を50℃以上に加熱した後、冷fJIすると更に
安定なラテックスを得ることができる。
の温度を50℃以上に加熱した後、冷fJIすると更に
安定なラテックスを得ることができる。
上記方法に於いて、安定性が良好で、かつ粒径のそろっ
たラテックスを得るには前記■の方法が好ましい。
たラテックスを得るには前記■の方法が好ましい。
本発明で用いるラテックスは、疎水性高分子から成りこ
のような高分子は、縮合系重合体とビニル系重合体とに
大別される。縮合系重合体としては、ポリアミド、ポリ
ペプチド、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ酸無
水物、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリエーテル等が挙げ
られる。不飽和化合物系重合体とは、ビニル基による付
加重合体で脂肪族炭化水素系、芳香族系、ビニルアルコ
ール系、ニトリル系、アクリル系、メタクリル系、アク
リルニトリル系、ハロゲン系などの単一重合体とこれら
の組合わせによる共重合体があげられる。
のような高分子は、縮合系重合体とビニル系重合体とに
大別される。縮合系重合体としては、ポリアミド、ポリ
ペプチド、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ酸無
水物、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリエーテル等が挙げ
られる。不飽和化合物系重合体とは、ビニル基による付
加重合体で脂肪族炭化水素系、芳香族系、ビニルアルコ
ール系、ニトリル系、アクリル系、メタクリル系、アク
リルニトリル系、ハロゲン系などの単一重合体とこれら
の組合わせによる共重合体があげられる。
本発明のグルコース1合体又は、グルコース重合体変性
物を保護コロイドと併用することによって、いかなる組
成の疎水性高分子も安定に親水性コロイド層に含有させ
ることができるため、性能上の面では特に組成は選ばれ
ないが、ラテックスの製造上の容易さから好ましくはポ
リエステル系またはビニル系重合体が選ばれる。これら
の重合体の原料となる重合性不飽和化合物は重合性不飽
和エチレン系化合物や、ジオレフィン系化合物であれば
良い。例えば、アクリル酸及びそのエステル類、メタク
リル酸及びそのエステル類、りOトン酸及びそのエステ
ル類、ビニルエステル類、マレイン酸及びそのジエステ
ル類、フマル酸及びそのジエステル類、イタコン酸及び
そのジエステル類、オレフィン類、スチレン類、アクリ
ルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物類、ビ
ニルエーテル類、ビニルケトン類等が挙げられる。
物を保護コロイドと併用することによって、いかなる組
成の疎水性高分子も安定に親水性コロイド層に含有させ
ることができるため、性能上の面では特に組成は選ばれ
ないが、ラテックスの製造上の容易さから好ましくはポ
リエステル系またはビニル系重合体が選ばれる。これら
の重合体の原料となる重合性不飽和化合物は重合性不飽
和エチレン系化合物や、ジオレフィン系化合物であれば
良い。例えば、アクリル酸及びそのエステル類、メタク
リル酸及びそのエステル類、りOトン酸及びそのエステ
ル類、ビニルエステル類、マレイン酸及びそのジエステ
ル類、フマル酸及びそのジエステル類、イタコン酸及び
そのジエステル類、オレフィン類、スチレン類、アクリ
ルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物類、ビ
ニルエーテル類、ビニルケトン類等が挙げられる。
多官能モノマー類、ビニル異部環化合物、グリシジルエ
ステル類、不飽和二(・リル類等が挙げられる。
ステル類、不飽和二(・リル類等が挙げられる。
これら、重合性不飽和化合物の具体例としては次のもの
を挙げることができる。
を挙げることができる。
アクリル泄エステル類1例えば、メチルアクリレート、
ブチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、イソ
プロピルアクリレート、ローブチルアクリレート、イソ
ブチルアクリレート、5ec−ブチルアクリレート、ア
ミルアクリレート、ヘキシルアクリレート、2−エチル
へキシルアクリレート、オクチルアクリレート、ter
t−オクチルアクリレート、2−クロロエチルアクリレ
ート、2−ブロモエチルアクリレート、4−クロロブブ
ールアクリレート、シアンエチルアクリレート、2−ア
セトキシエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルア
クリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジル
アクリレート、2−クロロシフ0へキシルアクリレート
、シクロへキシルアクリレート、フルフリルアクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルア
クリレート、5−ヒト0キシペンチルアクリレート、2
.2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルアクリレート
、2−メトキシエチルアクリレート、3−メトキシブチ
ルアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、2
−iso−プロポキシアクリレート、2−7トキシエヂ
ルアクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチル
アクリレート、2− (2−ブトキシエトキシ)エチル
アクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールア
クリレート(付加モル数n=9)、1−ブロモ−2−メ
トキシエチルアクリレート、1.1−ジクロロ−2−1
1−キシエチルアクリレ−1〜等; メタクリル酎エステル類、例えば、メチルメタクリレー
ト、エチルメタクリレート、n−ブチルアクリレート、
イソブOビルメタクリレート、n−ブチルメタクリレー
ト、イソブチルメタクリレート、5ec−ブチルメタク
リレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレ
ート、シクロへキシルメタクリレート、ベンジルメタク
リレート、クロロベンジルメタクリレート、オクヂルメ
タクリレート、スルホプロピルメタクリレート、N−エ
チル−N−フェニルアミノエチルメタクリレ−(・、2
−(3−フェニルプロピルオキシ)工チルメータクリレ
−1・、ジメチルアミノフェノキシエチルメタクリレ−
1−、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフ
リルメタクリレート、フ工二ルメタクリレート、タレジ
ルメタクリレ−1−、ナフチルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチル
メタクリレート、トリエチレングリコールモノメタクリ
レート、ジプロピレングリコールモノメタクリレート、
2−メトキシエチルアクリレート、3−メトキシブチル
メタクリレート、2−アセトキシエチルメタクリレート
、2−アヒトアセトキシエチルメタクリレート、2−エ
トキシエチルメタクリレート、2−iso−プロボキシ
エヂルメタクリレート、2−ブト1シエチルメククリレ
ート、2−(2−メトキシエトキシ)エチルメタクリレ
ート、2−(2−エトキシエトキシ)エチルメタクリレ
ート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチルメタクリレ
ート、ω−メトキシポリエfルングリコールメタクリレ
ート(付加モル数n=6)など:ビニルエステル類、例
えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニ
ルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルカプロエ
ート、ビニルクロロアセテート、とニルメトキシアセテ
ート、ビニルフェニルアセテート、安息香酸ビニル、ザ
リヂル酸ビニルなどニ オレフィン類、例えば、ジシクロペンタジェン、エチレ
ン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン、イソプレン、クロロブレン、ブタ
ジェン、2,3−ジメチルブタジェン等ニ スチレン類、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメ
チルスチレン、トリメヂルスヂレン、エチルスチレン、
イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキ
シスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジ
クロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メチ
ルエステルなど; クロトン酸エステル類、例えば、りo1〜ン隨ブチル、
クロトン酸ヘキシルなど; イタコン酸ジエステル類、例えば、イタコン醸ジメヂル
、イタコン酸ジエチル、イタコン正ジブデルなど; マレイン酸ジエステル項、例えば、マレイン酸ジエチル
、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチルなど; フマル酸ジエステル類、例えば、フマル酸ジエチル、フ
マル酸ジメチル、フマル酸ジプチルなど;アクリルアミ
ド類、例えば、アクリルアミド、メチルアクリルアミド
、エチルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、ブ
チルアクリルアミド、tert−ブチルアクリルアミド
、シクロヘキシルアクリルアミド、ベンジルアクリルア
ミド、ヒドロキシメチルアクリルアミド、メトキシエチ
ルアクリルアミド、ジメチルアミノエチルアクリルアミ
ド、フェニルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド
、ジエチルアクリルアミド、β−シアノニブ−ルアクリ
ルアミド、N−(2−アセトアセトキシエチル)アクリ
ルアミドなど: メタクリルアミド類、例えば、メタクリルアミド、メチ
ルメタクリルアミド、エヂルメタクリルアミド、プロピ
ルメタクリルアミド、ブチルメタクリルアミド、ter
t−ブチルメタクリルアミド、シクロへキシルメタクリ
ルアミド、ベンジルメタクリルアミド、ヒドロキシメチ
ルメタクリルアミド、メトキシエチルメタクリルアミド
、ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、フェニルメ
タクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、ジエチル
メタクリルアミド、β−シアノエチルメタクリルアミド
、N−(2−アセ1〜アセトキシエチル)メタクリルア
ミドなど; アリル化合物、例えば、酢酸アリル、カプロン酸アリル
、ラウリン酸アリル、安患香酸アリルなど; ビニルエーテル類、例えば、メチルビニルエーテル、ブ
チルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキ
シエチルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニル
エーテルなど: ビニルウ1−ン類、例えば、メチルビニルケトン、フェ
ニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトンなど: ビニル異節環(ヒ合物、〃1えば、ビニルピリジン、N
−ビニルイミダゾール、N−ビニルオキサゾリドン、N
−ビニルトリアゾール、N−ビニルピロリドンなどニ グリシジルエステル類、例えば、グリシジルアクリレー
ト、グリシジルメタクリレートなど;不飽和ニトリル類
、例えば、アクリロニトリル、メタクリレートリルなど
; 多官能性モノマー、例えば、ジビニルベンゼン、メチレ
ンビスアクリルアミド、エチレングリコールジメタクリ
レートなど: 更に、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイ
ン酸、イタコン酸モノアルキル、例えば、イタコン酸モ
ノメチル、イタコン酸モノエ升ル、イタコン酸モノブチ
ルなど;マレイン酸モノアルキル、例えば、マレイン酸
モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノブ
チルなどニジトラコン酸、スチレンスルホン酸、ビニル
ベンジルスルホン酸、ビニルスルホン酸、アクリロイル
オキシアルキルスルホン酸、例えば、アクリロイルオキ
シメチルスルホン酸、アクリロイルオキシエチルスルホ
ン酸、アクリロイルオキシプロピルスルホン酸など:メ
タクリロイルオキシアルキルスルホン酸、例えば、メタ
クリロイルオキシエチルスルホン酸、メタクリロイルオ
キシエチルスルホン酸、メタクリロイルオキシプロピル
スルボン酸などニアクリルアミドアルキルスルホン酸、
例えば2−アクリルアミド−2−メチルエタンスルホン
酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン
酸、2−アクリルアミド−2−メチルブタンスルホン酸
など;メタクリルアミドアルキルスルホン酸、例えば2
−メタクリルアミド−2−メチルエタンスルホン酸、2
−メタクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、
2−メタクリルアミド−2−メチルブタンスルホン酸な
ど;アクリロイルオキシアルキルホスフェート、例えば
、アクリロイルオキシエチルホスフェート、3−アクリ
ロイル第4ニジプロピル−2−ホスフェートなど;メタ
クリロイルオキシアルキルホスフェ−1−1例えばメタ
クリロイルオキシエチルホスフェート、3−メタクリロ
イルオキシプロピル−2−ホスフェートなど:親水基を
2ケ右・rる3−アリロキシ−2−ヒドロキシプロパン
スルホン市ナトリウムなど; これらの酸はアルカリ台底(例えば、Na、になど)ま
たはアンモニウムイオンの塩であって0よい。ざらにそ
の池の重合性不飽和化合物としては、米国特許第3.4
59.790号、同第3,438,708号、同第3,
554,987号、同第4,215,195号、同第1
1,247.673号、特開昭57−205735号公
報明細ツ等に記載されている架橋性モノマーを用いるこ
とができる。このような架橋性モノマーの例としては、
具体的にはN−(2−アセトアセトキシエチル)アクリ
ルアミド、N−(2−(2−アセトアセトキシエトキシ
)エチル)アクリルアミド等を禁げることができる。
ブチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、イソ
プロピルアクリレート、ローブチルアクリレート、イソ
ブチルアクリレート、5ec−ブチルアクリレート、ア
ミルアクリレート、ヘキシルアクリレート、2−エチル
へキシルアクリレート、オクチルアクリレート、ter
t−オクチルアクリレート、2−クロロエチルアクリレ
ート、2−ブロモエチルアクリレート、4−クロロブブ
ールアクリレート、シアンエチルアクリレート、2−ア
セトキシエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルア
クリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジル
アクリレート、2−クロロシフ0へキシルアクリレート
、シクロへキシルアクリレート、フルフリルアクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルア
クリレート、5−ヒト0キシペンチルアクリレート、2
.2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルアクリレート
、2−メトキシエチルアクリレート、3−メトキシブチ
ルアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、2
−iso−プロポキシアクリレート、2−7トキシエヂ
ルアクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチル
アクリレート、2− (2−ブトキシエトキシ)エチル
アクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールア
クリレート(付加モル数n=9)、1−ブロモ−2−メ
トキシエチルアクリレート、1.1−ジクロロ−2−1
1−キシエチルアクリレ−1〜等; メタクリル酎エステル類、例えば、メチルメタクリレー
ト、エチルメタクリレート、n−ブチルアクリレート、
イソブOビルメタクリレート、n−ブチルメタクリレー
ト、イソブチルメタクリレート、5ec−ブチルメタク
リレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレ
ート、シクロへキシルメタクリレート、ベンジルメタク
リレート、クロロベンジルメタクリレート、オクヂルメ
タクリレート、スルホプロピルメタクリレート、N−エ
チル−N−フェニルアミノエチルメタクリレ−(・、2
−(3−フェニルプロピルオキシ)工チルメータクリレ
−1・、ジメチルアミノフェノキシエチルメタクリレ−
1−、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフ
リルメタクリレート、フ工二ルメタクリレート、タレジ
ルメタクリレ−1−、ナフチルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチル
メタクリレート、トリエチレングリコールモノメタクリ
レート、ジプロピレングリコールモノメタクリレート、
2−メトキシエチルアクリレート、3−メトキシブチル
メタクリレート、2−アセトキシエチルメタクリレート
、2−アヒトアセトキシエチルメタクリレート、2−エ
トキシエチルメタクリレート、2−iso−プロボキシ
エヂルメタクリレート、2−ブト1シエチルメククリレ
ート、2−(2−メトキシエトキシ)エチルメタクリレ
ート、2−(2−エトキシエトキシ)エチルメタクリレ
ート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチルメタクリレ
ート、ω−メトキシポリエfルングリコールメタクリレ
ート(付加モル数n=6)など:ビニルエステル類、例
えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニ
ルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルカプロエ
ート、ビニルクロロアセテート、とニルメトキシアセテ
ート、ビニルフェニルアセテート、安息香酸ビニル、ザ
リヂル酸ビニルなどニ オレフィン類、例えば、ジシクロペンタジェン、エチレ
ン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン、イソプレン、クロロブレン、ブタ
ジェン、2,3−ジメチルブタジェン等ニ スチレン類、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメ
チルスチレン、トリメヂルスヂレン、エチルスチレン、
イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキ
シスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジ
クロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メチ
ルエステルなど; クロトン酸エステル類、例えば、りo1〜ン隨ブチル、
クロトン酸ヘキシルなど; イタコン酸ジエステル類、例えば、イタコン醸ジメヂル
、イタコン酸ジエチル、イタコン正ジブデルなど; マレイン酸ジエステル項、例えば、マレイン酸ジエチル
、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチルなど; フマル酸ジエステル類、例えば、フマル酸ジエチル、フ
マル酸ジメチル、フマル酸ジプチルなど;アクリルアミ
ド類、例えば、アクリルアミド、メチルアクリルアミド
、エチルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、ブ
チルアクリルアミド、tert−ブチルアクリルアミド
、シクロヘキシルアクリルアミド、ベンジルアクリルア
ミド、ヒドロキシメチルアクリルアミド、メトキシエチ
ルアクリルアミド、ジメチルアミノエチルアクリルアミ
ド、フェニルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド
、ジエチルアクリルアミド、β−シアノニブ−ルアクリ
ルアミド、N−(2−アセトアセトキシエチル)アクリ
ルアミドなど: メタクリルアミド類、例えば、メタクリルアミド、メチ
ルメタクリルアミド、エヂルメタクリルアミド、プロピ
ルメタクリルアミド、ブチルメタクリルアミド、ter
t−ブチルメタクリルアミド、シクロへキシルメタクリ
ルアミド、ベンジルメタクリルアミド、ヒドロキシメチ
ルメタクリルアミド、メトキシエチルメタクリルアミド
、ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、フェニルメ
タクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、ジエチル
メタクリルアミド、β−シアノエチルメタクリルアミド
、N−(2−アセ1〜アセトキシエチル)メタクリルア
ミドなど; アリル化合物、例えば、酢酸アリル、カプロン酸アリル
、ラウリン酸アリル、安患香酸アリルなど; ビニルエーテル類、例えば、メチルビニルエーテル、ブ
チルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキ
シエチルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニル
エーテルなど: ビニルウ1−ン類、例えば、メチルビニルケトン、フェ
ニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトンなど: ビニル異節環(ヒ合物、〃1えば、ビニルピリジン、N
−ビニルイミダゾール、N−ビニルオキサゾリドン、N
−ビニルトリアゾール、N−ビニルピロリドンなどニ グリシジルエステル類、例えば、グリシジルアクリレー
ト、グリシジルメタクリレートなど;不飽和ニトリル類
、例えば、アクリロニトリル、メタクリレートリルなど
; 多官能性モノマー、例えば、ジビニルベンゼン、メチレ
ンビスアクリルアミド、エチレングリコールジメタクリ
レートなど: 更に、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイ
ン酸、イタコン酸モノアルキル、例えば、イタコン酸モ
ノメチル、イタコン酸モノエ升ル、イタコン酸モノブチ
ルなど;マレイン酸モノアルキル、例えば、マレイン酸
モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノブ
チルなどニジトラコン酸、スチレンスルホン酸、ビニル
ベンジルスルホン酸、ビニルスルホン酸、アクリロイル
オキシアルキルスルホン酸、例えば、アクリロイルオキ
シメチルスルホン酸、アクリロイルオキシエチルスルホ
ン酸、アクリロイルオキシプロピルスルホン酸など:メ
タクリロイルオキシアルキルスルホン酸、例えば、メタ
クリロイルオキシエチルスルホン酸、メタクリロイルオ
キシエチルスルホン酸、メタクリロイルオキシプロピル
スルボン酸などニアクリルアミドアルキルスルホン酸、
例えば2−アクリルアミド−2−メチルエタンスルホン
酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン
酸、2−アクリルアミド−2−メチルブタンスルホン酸
など;メタクリルアミドアルキルスルホン酸、例えば2
−メタクリルアミド−2−メチルエタンスルホン酸、2
−メタクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、
2−メタクリルアミド−2−メチルブタンスルホン酸な
ど;アクリロイルオキシアルキルホスフェート、例えば
、アクリロイルオキシエチルホスフェート、3−アクリ
ロイル第4ニジプロピル−2−ホスフェートなど;メタ
クリロイルオキシアルキルホスフェ−1−1例えばメタ
クリロイルオキシエチルホスフェート、3−メタクリロ
イルオキシプロピル−2−ホスフェートなど:親水基を
2ケ右・rる3−アリロキシ−2−ヒドロキシプロパン
スルホン市ナトリウムなど; これらの酸はアルカリ台底(例えば、Na、になど)ま
たはアンモニウムイオンの塩であって0よい。ざらにそ
の池の重合性不飽和化合物としては、米国特許第3.4
59.790号、同第3,438,708号、同第3,
554,987号、同第4,215,195号、同第1
1,247.673号、特開昭57−205735号公
報明細ツ等に記載されている架橋性モノマーを用いるこ
とができる。このような架橋性モノマーの例としては、
具体的にはN−(2−アセトアセトキシエチル)アクリ
ルアミド、N−(2−(2−アセトアセトキシエトキシ
)エチル)アクリルアミド等を禁げることができる。
これらの重合性不飽和化合物は、疎水性不飽和化合物と
、現水性不飽和化合物とに大別できるが、親水性不飽和
化合物を用いる場゛合は、疎水性不飽和化合物との併用
が、安定なラテックスの形成上、好ましい。勿論、これ
らの不飽和化合物は単独で用いても良いし、2種以上併
用しても良い。
、現水性不飽和化合物とに大別できるが、親水性不飽和
化合物を用いる場゛合は、疎水性不飽和化合物との併用
が、安定なラテックスの形成上、好ましい。勿論、これ
らの不飽和化合物は単独で用いても良いし、2種以上併
用しても良い。
これらの化合物の中には、水溶性のものも含まれるが、
疎水性のものと共重合することにより、疎水性ポリマー
を形成することができる。
疎水性のものと共重合することにより、疎水性ポリマー
を形成することができる。
本発明に於けるラテックスの製造方法としては、溶液重
合法で得た疎水性高分子を界面活性剤や有機溶剤を用い
て、水に分散させる方法や、水媒体中で重合を行なう懸
濁重合法や乳化重合法などがあるが、製造工程数が少な
くなるという点で、懸濁重合法、及び乳化重合法が好ま
しい。
合法で得た疎水性高分子を界面活性剤や有機溶剤を用い
て、水に分散させる方法や、水媒体中で重合を行なう懸
濁重合法や乳化重合法などがあるが、製造工程数が少な
くなるという点で、懸濁重合法、及び乳化重合法が好ま
しい。
ビニル系重合体の重合開始剤としては、アゾビスイソブ
チレートリル、2.2′−アゾビス−(2,4−ジメチ
ルバレロニトリル)、2.2’−アゾビスイソ酪酸ジメ
チル、2.2′−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジ
メチバレロニトリル>、1.1’−アゾビス(シクロへ
キサノン−1−カルボニトリル ビスイソブチレート、4,4′−アゾビス−4−シアノ
古草酸、4,4′−アゾビス−4−シアン吉草泄ナトリ
・クム、2,2′ −アゾビス(2−アミジノプロパン
)塩酸塩等のアゾ系化合物、ベンゾイルパーオキシド、
ラウリルパーオキシド、クメンヒドロバーオギシド、シ
イツブ[コピルバーオキシジカルボネート、【−ブチル
ヒドロパーオキシド、ジーtertーーブチルバーオキ
シド、ジクミルパーオキシド、過酸化水素等の過酸化物
、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリ
ウム等の過@酸塩類、臭素酸カリウム、硝酸第二セリウ
ムアンモニウム等が用いられる。
チレートリル、2.2′−アゾビス−(2,4−ジメチ
ルバレロニトリル)、2.2’−アゾビスイソ酪酸ジメ
チル、2.2′−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジ
メチバレロニトリル>、1.1’−アゾビス(シクロへ
キサノン−1−カルボニトリル ビスイソブチレート、4,4′−アゾビス−4−シアノ
古草酸、4,4′−アゾビス−4−シアン吉草泄ナトリ
・クム、2,2′ −アゾビス(2−アミジノプロパン
)塩酸塩等のアゾ系化合物、ベンゾイルパーオキシド、
ラウリルパーオキシド、クメンヒドロバーオギシド、シ
イツブ[コピルバーオキシジカルボネート、【−ブチル
ヒドロパーオキシド、ジーtertーーブチルバーオキ
シド、ジクミルパーオキシド、過酸化水素等の過酸化物
、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリ
ウム等の過@酸塩類、臭素酸カリウム、硝酸第二セリウ
ムアンモニウム等が用いられる。
また、過酸化物や過硫酸塩類は適当な還元剤とを組み合
わせて、レドックス開始剤としても使用できる。好まし
い開始剤としては水溶性のものである。
わせて、レドックス開始剤としても使用できる。好まし
い開始剤としては水溶性のものである。
また、好ましい重合温度は、使用する開始剤により異な
るが、通常は30〜95℃、好ましくは40〜85℃で
ある。
るが、通常は30〜95℃、好ましくは40〜85℃で
ある。
本発明に係るラテックスを製造する際、前述の4、の方
法を行なう場合、通常の乳化重合に用いるアニオン系、
ノニオン系、カチオン系の界面活性剤は、使用しない方
が好ましいが、本発明の効果に損なわない程度の出及び
種類を使用しても良い。この場合、通常写真乳剤に添加
する界面活性剤は重合終了後のラテックス液に添加する
のが良い。
法を行なう場合、通常の乳化重合に用いるアニオン系、
ノニオン系、カチオン系の界面活性剤は、使用しない方
が好ましいが、本発明の効果に損なわない程度の出及び
種類を使用しても良い。この場合、通常写真乳剤に添加
する界面活性剤は重合終了後のラテックス液に添加する
のが良い。
本発明に於いて、ラテックスの使用化はゼラチン100
に対して重囚比で、10%以上300%以下、好ましく
は30%以上200%以下である。ラテックスの使用量
が少なずぎる場合は本発明の効果が充分に発揮されず、
またラテックスの使用口が多すぎる場合は十分な膜強度
が得られない。更に本発明に使用される天然水溶性ポリ
マーはラテックス100に対して重量化で0.5%以上
、30%以下、好ましくは1%以上、15%以下である
。天然水溶性ポリマーの使用化が少なすぎる場合、充分
な効果が発揮されず、また多すぎる場合、ゼラチンの塗
布性、特に高速塗布時に問題がでてくる。
に対して重囚比で、10%以上300%以下、好ましく
は30%以上200%以下である。ラテックスの使用量
が少なずぎる場合は本発明の効果が充分に発揮されず、
またラテックスの使用口が多すぎる場合は十分な膜強度
が得られない。更に本発明に使用される天然水溶性ポリ
マーはラテックス100に対して重量化で0.5%以上
、30%以下、好ましくは1%以上、15%以下である
。天然水溶性ポリマーの使用化が少なすぎる場合、充分
な効果が発揮されず、また多すぎる場合、ゼラチンの塗
布性、特に高速塗布時に問題がでてくる。
本発明におけるラテックスの製造の好ましい形態は以下
に述る如くである。
に述る如くである。
水又は水混和性有機溶媒を含有する水溶液中にグルコー
ス重合体、又はグルコース重合体のii? ’Q体を溶
解し、撹拌しながら加熱、脱気し、所望のFa度に設定
後、重合開始剤を添加し、続けて重合性不飽和化合物を
添加あるいは滴下して所定時間重合を行ない冷却する。
ス重合体、又はグルコース重合体のii? ’Q体を溶
解し、撹拌しながら加熱、脱気し、所望のFa度に設定
後、重合開始剤を添加し、続けて重合性不飽和化合物を
添加あるいは滴下して所定時間重合を行ない冷却する。
尚、グルコース重合体またはグルコース重合体の誘導体
は、加熱、脱気後に水又は水混和性有機溶媒を含有する
水溶液に溶解させても良く、また、重合開始剤は加熱、
脱気前に添加しても良い。
は、加熱、脱気後に水又は水混和性有機溶媒を含有する
水溶液に溶解させても良く、また、重合開始剤は加熱、
脱気前に添加しても良い。
ラテックス製造例1〜11
1、1ffi4つロフラスコに、撹拌器、温度計、滴下
ロート、窒素導入管、環流冷W器を施し、(上限粘度0
.210のデキストランを原料とし、特公昭45−12
820号合成例1の記載の方法で合成されたデキストラ
ンliIi!酸エステルナトリウム塩4,5gをフラス
コに加え、純水350ccを加えて加熱し、内湯を80
℃まで加熱する。この間、窒素ガスを導入し、内温か8
0’Cに達した後、ざらに、30分窒素ガスを通す。そ
の後、開始剤として、過硫酸アンモニウム0.459を
水10CCL,:溶かした溶液を加え、続けて、重合性
不飽和化合物としてブチルアクリレート40g1スチレ
ン50oの混合物を滴下ロートにて約1時間かけて滴下
する。開始剤添加後5時間後に、冷却し、アンモニア水
でpH6に調整後、ろ過して、ゴミや粗大粒子を除きラ
テックス液(a )を得た。
ロート、窒素導入管、環流冷W器を施し、(上限粘度0
.210のデキストランを原料とし、特公昭45−12
820号合成例1の記載の方法で合成されたデキストラ
ンliIi!酸エステルナトリウム塩4,5gをフラス
コに加え、純水350ccを加えて加熱し、内湯を80
℃まで加熱する。この間、窒素ガスを導入し、内温か8
0’Cに達した後、ざらに、30分窒素ガスを通す。そ
の後、開始剤として、過硫酸アンモニウム0.459を
水10CCL,:溶かした溶液を加え、続けて、重合性
不飽和化合物としてブチルアクリレート40g1スチレ
ン50oの混合物を滴下ロートにて約1時間かけて滴下
する。開始剤添加後5時間後に、冷却し、アンモニア水
でpH6に調整後、ろ過して、ゴミや粗大粒子を除きラ
テックス液(a )を得た。
2、重合性不飽和化合物として、ブチルアクリレート3
9.5g、スチレン49.5(1、アクリル酸1gの混
合物を用いた以外は、合成例1と同様に合成し、ラテッ
クス液(b)を得た。
9.5g、スチレン49.5(1、アクリル酸1gの混
合物を用いた以外は、合成例1と同様に合成し、ラテッ
クス液(b)を得た。
3、重合性不飽和化合物として、ブチルアクリレート5
0g、スチレン35g、無水マレイン酸5gの混合物を
用いた以外は、合成例1と同様に合成し、ラテックス液
(C)を得た。
0g、スチレン35g、無水マレイン酸5gの混合物を
用いた以外は、合成例1と同様に合成し、ラテックス液
(C)を得た。
4、重合性不飽和化合物として、エチルアクリレート9
0g、開始剤として過硫酸カリウムを用い、70℃で重
合を行なう以外は、合成例1と同様に合成し、ラテック
ス液(d)を得た。
0g、開始剤として過硫酸カリウムを用い、70℃で重
合を行なう以外は、合成例1と同様に合成し、ラテック
ス液(d)を得た。
5、デキストラン硫酸エステル塩を0.9g用いる以外
は、合成例1と同様に合成し、ラテックス液(e )を
1nだ。
は、合成例1と同様に合成し、ラテックス液(e )を
1nだ。
6、重合性不飽和化合物どして、エチルアクリレート9
0(lを用い、開始剤として過硫酸アンモニウム0.4
5gと亜硫酸水素ナトリウム0.221Jを用いて、4
0℃で重合した以外は、合成例1と同様に合成し、ラテ
ックス液([)を胃だ。
0(lを用い、開始剤として過硫酸アンモニウム0.4
5gと亜硫酸水素ナトリウム0.221Jを用いて、4
0℃で重合した以外は、合成例1と同様に合成し、ラテ
ックス液([)を胃だ。
7、重合性不飽和化合物として、エチルアクリレート8
5aと2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホ
ンM5aを用いた以外は、合成例4と同様に合成し、ラ
テックス液<ti >を得た。
5aと2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホ
ンM5aを用いた以外は、合成例4と同様に合成し、ラ
テックス液<ti >を得た。
8、デキストラン硫酸エステル塩を13.5(J用いる
以外は、合成例1と同様に合成し、ラテックス液(h
)を得た。
以外は、合成例1と同様に合成し、ラテックス液(h
)を得た。
9、デキストランl1ilII!Iエステル塩の替わり
に、特公昭45−12820号の合成例2に示されてい
るカルボキシメチルデキストランを3.5g用いた以外
は、合成例1と同様に合成し、ラテックス液(1)を得
た。
に、特公昭45−12820号の合成例2に示されてい
るカルボキシメチルデキストランを3.5g用いた以外
は、合成例1と同様に合成し、ラテックス液(1)を得
た。
10、デキストラン硫酸エステル塩の替わりに、特公昭
45−12820号の合成例1に示されているカルボキ
シメチルデキストラン硫Mmを3.5g用いた以外は、
合成例1と同様に合成し、ラテックス液(j>を得た。
45−12820号の合成例1に示されているカルボキ
シメチルデキストラン硫Mmを3.5g用いた以外は、
合成例1と同様に合成し、ラテックス液(j>を得た。
11、カルボキシメチルデキストラン硫酸エステル塩の
替わりに、重量平均分子ffl (M、 W、 )=
100,000〜200,000の市販のデキストラ
ンを3.5g用いた以外は、合成例1と同様に合成し、
ラテックス液(k)を得た。
替わりに、重量平均分子ffl (M、 W、 )=
100,000〜200,000の市販のデキストラ
ンを3.5g用いた以外は、合成例1と同様に合成し、
ラテックス液(k)を得た。
ラテックス製造例12
300d4つロフラスコに撹拌器、温度別、窒素導入管
、環流冷却器を施し、ジオキサン90−を加え、窒素ガ
スを導入して、内温を70℃まで加熱し、さらに30分
窒素ガスを通す。窒素ガスを止めブチルアクリレート6
0gとスチレン30゜を加え、ざらにジオキサン101
gにアゾビスイソブヂロニトリル0.3gをとかした液
を加え、70℃で12hrm合を行イTっだ。
、環流冷却器を施し、ジオキサン90−を加え、窒素ガ
スを導入して、内温を70℃まで加熱し、さらに30分
窒素ガスを通す。窒素ガスを止めブチルアクリレート6
0gとスチレン30゜を加え、ざらにジオキサン101
gにアゾビスイソブヂロニトリル0.3gをとかした液
を加え、70℃で12hrm合を行イTっだ。
水240ccとエタノール120ccの混合溶媒を70
℃に熱し、デキス1〜ラン硫酸エステルナトリウム塩4
.5gをどかし、これに前述の重合液を熱いまま添加し
、檄しく撹p+’ t、、そのi多冷却し、ラテックス
液(ffi>を得た。
℃に熱し、デキス1〜ラン硫酸エステルナトリウム塩4
.5gをどかし、これに前述の重合液を熱いまま添加し
、檄しく撹p+’ t、、そのi多冷却し、ラテックス
液(ffi>を得た。
ラテックス!!造詞13
撹はん式オートクレーブを窒素置換し、スチレン55重
塁部、ブタジェン112重量部、グリシジルメタクリレ
ート3重徂部、硫酸エステル塩3更m部、第・3ドデシ
ルメルカプタン0.2fi1部、燐酸三カリウム0.3
重合部、過硫酸アンセン0.3重a部、水100重量部
を装入し、重合温度50°C1重合圧力5気圧、重合時
間18時間車合し、反応終了後、残存単3体を熱温除去
し、ラテックス(m>を得た。
塁部、ブタジェン112重量部、グリシジルメタクリレ
ート3重徂部、硫酸エステル塩3更m部、第・3ドデシ
ルメルカプタン0.2fi1部、燐酸三カリウム0.3
重合部、過硫酸アンセン0.3重a部、水100重量部
を装入し、重合温度50°C1重合圧力5気圧、重合時
間18時間車合し、反応終了後、残存単3体を熱温除去
し、ラテックス(m>を得た。
ラテックス製造例15
泣はん器、温度計、窒素導入管、熱温装置、加熱器を面
えた反応容器に、無水トリメリド酸192.1(1(1
,0モル)、エチレングリコール62.1(1(1,0
モル)及びベンジルアルコール108.1g(1,0モ
ル)を装填した。
えた反応容器に、無水トリメリド酸192.1(1(1
,0モル)、エチレングリコール62.1(1(1,0
モル)及びベンジルアルコール108.1g(1,0モ
ル)を装填した。
反応混合物を150℃まで加熱し、そして、撹はんしな
がら、この温度を4時間保持した。そして、水の留去を
開始し、約9時間かけて、次第に温度を190℃まで上
げて、さらに、205℃まで上昇させた。
がら、この温度を4時間保持した。そして、水の留去を
開始し、約9時間かけて、次第に温度を190℃まで上
げて、さらに、205℃まで上昇させた。
冑られたポリエステルを取出し冷却固化した。
得られたポリエステル1oootアセトン250tRに
溶解し、デキストラン硫酸エステル塩2.59を溶解し
た約0.1モル濃度のアンモニア水溶液toOtNの中
へ、急速に撹はんしながら、該アセトン溶液を徐々に注
いだ。この混合物をろ過し、次いで、60℃まで加熱し
てアセトンを除去し、ラテックス液(n )を得た。
溶解し、デキストラン硫酸エステル塩2.59を溶解し
た約0.1モル濃度のアンモニア水溶液toOtNの中
へ、急速に撹はんしながら、該アセトン溶液を徐々に注
いだ。この混合物をろ過し、次いで、60℃まで加熱し
てアセトンを除去し、ラテックス液(n )を得た。
製造例で示したように、グルコース重合体、グルコース
重合体のyh誘導体含む水溶液中で、通常の乳化剤を全
く使用せずに、疎水性ビニルモノマーを非常に良好に乳
化重合できることから、これらの化合物が、保護コロイ
ドとして充分に有効であることがわかる。
重合体のyh誘導体含む水溶液中で、通常の乳化剤を全
く使用せずに、疎水性ビニルモノマーを非常に良好に乳
化重合できることから、これらの化合物が、保護コロイ
ドとして充分に有効であることがわかる。
一般に、ハロゲン化銀写真感光材料には、多種の界面活
性剤が用いられるが、本発明者らの研究によると、通常
の界面活性剤を分散安定剤(乳化剤)として用いたラテ
ックスをハロゲン1ヒ徂孔剤層中に含有せしめると、ハ
ロゲン1ヒ限写τ1感光(4料に用いられていた界面活
性剤がラテックス表面に吸着し、或いはさらに重合に用
いた界面活性剤がラテックス表面から脱着して、写真1
1し能に小太な影響を与えた。
性剤が用いられるが、本発明者らの研究によると、通常
の界面活性剤を分散安定剤(乳化剤)として用いたラテ
ックスをハロゲン1ヒ徂孔剤層中に含有せしめると、ハ
ロゲン1ヒ限写τ1感光(4料に用いられていた界面活
性剤がラテックス表面に吸着し、或いはさらに重合に用
いた界面活性剤がラテックス表面から脱着して、写真1
1し能に小太な影響を与えた。
しかしながら、本発明の天然水溶性ポリマーにより保護
コロイド化されたラテックスは、各種界面活性剤の吸着
が少なく、写真性能に及ぼす影響が少なかった。これは
、天然水溶性ポリマーにより保護コロイド化されたラテ
ックス表面からの脱着速度が極めて遅いためと考えられ
るが、特にグルコース又はグルコース変性物が、写真は
能に与える影響が極めて小さいのはラテックス粒子表面
上に充分な厚さと、充分な吸着力をもち、吸着密度の高
い保護コロイド層を形成しているためと思われる。
コロイド化されたラテックスは、各種界面活性剤の吸着
が少なく、写真性能に及ぼす影響が少なかった。これは
、天然水溶性ポリマーにより保護コロイド化されたラテ
ックス表面からの脱着速度が極めて遅いためと考えられ
るが、特にグルコース又はグルコース変性物が、写真は
能に与える影響が極めて小さいのはラテックス粒子表面
上に充分な厚さと、充分な吸着力をもち、吸着密度の高
い保護コロイド層を形成しているためと思われる。
従って、本発明のラテックスはあらゆるハロゲン化銀写
真用材料について、ハロゲン生根乳剤に悪影響を及ぼさ
ない木材として有用であり、畦々の用途に供することが
できる。即ち、寸度安定用バインダーラテックスの他、
疎水性写真用有用化合物を親水性コロイド層に分散させ
るための含浸用ラテックス、下引き用ラテックス、マッ
ト剤、媒染層、中和層用ラテックスとしても用いること
ができる。
真用材料について、ハロゲン生根乳剤に悪影響を及ぼさ
ない木材として有用であり、畦々の用途に供することが
できる。即ち、寸度安定用バインダーラテックスの他、
疎水性写真用有用化合物を親水性コロイド層に分散させ
るための含浸用ラテックス、下引き用ラテックス、マッ
ト剤、媒染層、中和層用ラテックスとしても用いること
ができる。
本発明においては、前記本発明に係る親水性高分子によ
って保護コロイド化されたラテックスはハロゲン化銀乳
剤層に含有せしめるものであるが、必要に応じて他の写
真構成層、例えば、保護層、中間層、ハレーション防止
層、下引き層、バッキング層、媒染層、中和層等に添加
することは全くさしつかえない。
って保護コロイド化されたラテックスはハロゲン化銀乳
剤層に含有せしめるものであるが、必要に応じて他の写
真構成層、例えば、保護層、中間層、ハレーション防止
層、下引き層、バッキング層、媒染層、中和層等に添加
することは全くさしつかえない。
親水性コロイド層としてはゼラチンを用いるのが有利で
あるが、ゼラチンの他にゼラチン誘導体を併用してもよ
い。
あるが、ゼラチンの他にゼラチン誘導体を併用してもよ
い。
ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、プリテン・
オブ・ザ・ソザエティ・Aブ・サイエンティフィック・
フォトグラフィー・オブ・ジャパン(Bull 、 S
oc、 Sci、 Pho【、Japan、 )No、
i6.30頁(+96G)iここ己・1戊さhたような
止素処11!ぜう升ンを用いてらよく、又ゼラチンの加
水分解物や醇木分W I’l+乙用いることができろ。
オブ・ザ・ソザエティ・Aブ・サイエンティフィック・
フォトグラフィー・オブ・ジャパン(Bull 、 S
oc、 Sci、 Pho【、Japan、 )No、
i6.30頁(+96G)iここ己・1戊さhたような
止素処11!ぜう升ンを用いてらよく、又ゼラチンの加
水分解物や醇木分W I’l+乙用いることができろ。
げラチン誘専体としては、ゼラチンに例えば■ハライド
、酸無水物、イソシアナート類、ブロモ酢酸、アルカン
サルトン マレインイミド化合物類、ポリアルキレオンキシド項、
エポキシ化合物類等袖々の化合物を反応させて得られる
ものが用いられる。その具体例は米国特許第2,614
,928号、同3, 132, 945号、同3.18
6、846号、同3, 312, 553号、英国特許
861.4L1号、同1, 033, 189号、同1
, 005, 784号、特公昭42−26845号な
どに記載されている。
、酸無水物、イソシアナート類、ブロモ酢酸、アルカン
サルトン マレインイミド化合物類、ポリアルキレオンキシド項、
エポキシ化合物類等袖々の化合物を反応させて得られる
ものが用いられる。その具体例は米国特許第2,614
,928号、同3, 132, 945号、同3.18
6、846号、同3, 312, 553号、英国特許
861.4L1号、同1, 033, 189号、同1
, 005, 784号、特公昭42−26845号な
どに記載されている。
本発明のハロゲン化宋几剤に(J、ハロゲン化銀として
臭化銀、沃臭化銀、沃塩化銀、塩臭化銀、および塩化銀
等の通常のハロゲン化銀・2し剤に使用される任意のも
のを用いる事ができる。
臭化銀、沃臭化銀、沃塩化銀、塩臭化銀、および塩化銀
等の通常のハロゲン化銀・2し剤に使用される任意のも
のを用いる事ができる。
また、ハロゲン化宋拉子は、粒子内において均一なハロ
ゲン化銀組成分布を有するちのでも、粒子の内部と表面
層とでハロゲン化銀組成が異なるコア/シェル粒子であ
ってもよく、また、潜像が主として表面に形成されるよ
うな粒子であってもよく、また主として粒子内部に形成
されるような粒子でもよい。
ゲン化銀組成分布を有するちのでも、粒子の内部と表面
層とでハロゲン化銀組成が異なるコア/シェル粒子であ
ってもよく、また、潜像が主として表面に形成されるよ
うな粒子であってもよく、また主として粒子内部に形成
されるような粒子でもよい。
本発明のハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、立方体、八面体、十四面体のような規則的な結晶
形を持つものでもよいし、球状や板状のような変則的な
結晶形を持つものでもよい。
子は、立方体、八面体、十四面体のような規則的な結晶
形を持つものでもよいし、球状や板状のような変則的な
結晶形を持つものでもよい。
これらの粒子において、(1oo)面と(iiB面の比
率は任息のものが使用できる。又、これら結晶形の複合
形を持つものでもよく、様々な結晶形の粒子が混合され
てもよい。
率は任息のものが使用できる。又、これら結晶形の複合
形を持つものでもよく、様々な結晶形の粒子が混合され
てもよい。
ハロゲン化銀粒子の平均粒子サイズ(粒子サイズは投影
面積と等しい面積の円の直径を表す)は、5μm以下が
好ましいが、特に好ましいのは3μm以下である。
面積と等しい面積の円の直径を表す)は、5μm以下が
好ましいが、特に好ましいのは3μm以下である。
本発明のハロゲン化銀乳剤は、いかなる粒子サイズ分布
を持つものを用いても構わない。粒子サイズ分布の広い
乳剤(多分散乳剤と称する)を用いてもよいし、粒子サ
イズ分布の狭い乳剤(単分:Yi ’FL i’+’l
−と称する。ここでいう単分散乳剤とは、粒径の分布の
際準騙差を平均゛;ヶ径でυ1っだときに、その伽が0
.20以下のしのをいう。ここで粒径は球状のハロゲン
1ヒ銀の場合はその直径を、球状以外の形状の粒子の場
合は、その投影像を同面積の円像に換算したときの直径
を示す。)を単独又は数種類混合してらよい。又、多分
散乳剤と単分散乳剤を混合して用いてもよい。
を持つものを用いても構わない。粒子サイズ分布の広い
乳剤(多分散乳剤と称する)を用いてもよいし、粒子サ
イズ分布の狭い乳剤(単分:Yi ’FL i’+’l
−と称する。ここでいう単分散乳剤とは、粒径の分布の
際準騙差を平均゛;ヶ径でυ1っだときに、その伽が0
.20以下のしのをいう。ここで粒径は球状のハロゲン
1ヒ銀の場合はその直径を、球状以外の形状の粒子の場
合は、その投影像を同面積の円像に換算したときの直径
を示す。)を単独又は数種類混合してらよい。又、多分
散乳剤と単分散乳剤を混合して用いてもよい。
本発明のハロゲン化銀乳剤は、別々に形成した2種以上
のハロゲン化銀乳剤を混合して用いてらよい。
のハロゲン化銀乳剤を混合して用いてらよい。
本発明のハロゲン化銀乳剤は、常法により化学増感する
ことができる。即ち、硫黄増感法、セレン増感法、還元
理想法、金その他の貴金属化合物を用いる貴金属増感法
などを単独で又は組み合わせて用いることができる。
ことができる。即ち、硫黄増感法、セレン増感法、還元
理想法、金その他の貴金属化合物を用いる貴金属増感法
などを単独で又は組み合わせて用いることができる。
また、ハロゲン化銀乳剤層には色素形成カプラーを含有
させてカラー感光材料としてもよい。
させてカラー感光材料としてもよい。
以下余白
実誰例1
塩化銀75モル%、臭化銀25モル%、および、ヨウ化
銀1モル%を含有する塩ヨウ臭化銀ゼラチン乳剤に、ハ
ロゲン化@1モル当り 0.6りの4−ヒドロキシ−6
−メチル−1,3,38,7−チトラザインデンを添加
し、さらに、本発明のラテックス(a −m )及び比
較用ラテックス(イ〜ト)を乾燥量■として、ゼラチン
1g当り i、ogとなるように添加し、ムコクロール
酸を添加したのち、下引きを施したポリエチレンテレフ
タレート支持体上に、@m 4.Og /fゼラチンと
ラテックスの合計が1.9g/i’となるように、塗布
した。
銀1モル%を含有する塩ヨウ臭化銀ゼラチン乳剤に、ハ
ロゲン化@1モル当り 0.6りの4−ヒドロキシ−6
−メチル−1,3,38,7−チトラザインデンを添加
し、さらに、本発明のラテックス(a −m )及び比
較用ラテックス(イ〜ト)を乾燥量■として、ゼラチン
1g当り i、ogとなるように添加し、ムコクロール
酸を添加したのち、下引きを施したポリエチレンテレフ
タレート支持体上に、@m 4.Og /fゼラチンと
ラテックスの合計が1.9g/i’となるように、塗布
した。
[比較用ラテックスの製造]
1、デキストラン硫酸エステルナトリウム塩のがわりに
、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム7.0gを用
いて、製造例1と同様に合成したラテックスを比較用ラ
テックス(イ)とする。
、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム7.0gを用
いて、製造例1と同様に合成したラテックスを比較用ラ
テックス(イ)とする。
2、デキストランi[&エステルナトリウム塩のがわり
に、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム7.0gを
用いて製造例2と同様に合成したラテックス(Ll>と
する。
に、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム7.0gを
用いて製造例2と同様に合成したラテックス(Ll>と
する。
3、デキストラン硫酸■ステルナト・リウム塩のかわり
に、下記の化合1.力の活性剤を5.0g用いて、製造
例3と同様に合成したラテックスを比較用ラテックス液
(ハ)とする。
に、下記の化合1.力の活性剤を5.0g用いて、製造
例3と同様に合成したラテックスを比較用ラテックス液
(ハ)とする。
4、デキストラン61112エステルナトリウム塩のか
わりに、下記の化合物の活性剤をe、cg用いて製造例
4と同様に合成したラテックスを比較用ラテックス(ニ
)とする。
わりに、下記の化合物の活性剤をe、cg用いて製造例
4と同様に合成したラテックスを比較用ラテックス(ニ
)とする。
5、特公昭55−47374号に記載の方法に従って重
合した、ポリビニルアルコールを保護コロイドとしたラ
テックスを比較用ラテックス(ボ)とする。
合した、ポリビニルアルコールを保護コロイドとしたラ
テックスを比較用ラテックス(ボ)とする。
6、特開昭51−130217号に記載の方法に従って
重合した、水溶性モノマーを共重合させたラテンクスを
比較用ラテックス(へ)とする。
重合した、水溶性モノマーを共重合させたラテンクスを
比較用ラテックス(へ)とする。
7.撹はん器、温度計、窒素導入管、熱願装置、加熱器
を備えた反応容器に、無水1−リメリト酸192.1り
(1,0モル)、エチレングリコール62.1g(
1,0モル)及びベンジルアルコール108.1(1(
1,0モル)を装填した。
を備えた反応容器に、無水1−リメリト酸192.1り
(1,0モル)、エチレングリコール62.1g(
1,0モル)及びベンジルアルコール108.1(1(
1,0モル)を装填した。
反応混合物を150℃まで加熱し、そして、攬はんしな
がら、この温度を4ffl保持した。そして、水の留去
を開始し、約9時間かけて、次第に温度を190℃まで
上げて、さらに、205℃まで上昇さぜた。
がら、この温度を4ffl保持した。そして、水の留去
を開始し、約9時間かけて、次第に温度を190℃まで
上げて、さらに、205℃まで上昇さぜた。
得られたポリエステルを取出し冷却固化した。
得られたポリエステル100gをアセトン250−に溶
解し、ドテシルベンゼンスルホン醪ナトリウム2.5g
を溶解させた約O01モル濃度のアン[ニア水溶液10
0ぜの中へ、忠速に撹はんしながら、該アセトン溶液を
徐々に注いだ。この混合物をろ過し、次いで、60℃ま
で加熱してアセトンを除去し、比較用ラテックス液(ト
)を得た。
解し、ドテシルベンゼンスルホン醪ナトリウム2.5g
を溶解させた約O01モル濃度のアン[ニア水溶液10
0ぜの中へ、忠速に撹はんしながら、該アセトン溶液を
徐々に注いだ。この混合物をろ過し、次いで、60℃ま
で加熱してアセトンを除去し、比較用ラテックス液(ト
)を得た。
(9られた試11について、塗布時のハジキの発生状a
を肉眼で蜆察し、さらに、各試料をウーEツジ2′l光
し、■記の処理をして、感度、カブリ、寸、度安定性、
失速性、ハジキについて調べた。結果を表−1に示す。
を肉眼で蜆察し、さらに、各試料をウーEツジ2′l光
し、■記の処理をして、感度、カブリ、寸、度安定性、
失速性、ハジキについて調べた。結果を表−1に示す。
[処理条件コ
現 像 29℃ 30秒
定 着 28℃ 20秒
水 洗 20℃ 20
秒乾 燥 45℃ 3
0秒[現像液(原液)] 臭化カリウム 2.5クエヂレ
ンジアミン四酢酸 二ナトリウム 19亜硫酸カ
リウム(55%水溶液) 90ポ炭酸カリウム
259ハイドロキノン
10 Q5−メチルベンゾトリアゾ
ール 100mり5−ニトロベンゾトリアゾール
100mg1−フェニル−5−メルカプト テトラゾール 30m(]5〜
ニトロインダゾール 50mg1〜フェニ
ル−4−メチル−4− ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン0.5 gジエチ
レングリコール 60 i)水酸化ナト
リウム DHを10.6に調整するm水を加えて、
500背に仕上げる。(、f1810.6)使用時には
、上記原液を水で2倍Mに希釈して用いる。
定 着 28℃ 20秒
水 洗 20℃ 20
秒乾 燥 45℃ 3
0秒[現像液(原液)] 臭化カリウム 2.5クエヂレ
ンジアミン四酢酸 二ナトリウム 19亜硫酸カ
リウム(55%水溶液) 90ポ炭酸カリウム
259ハイドロキノン
10 Q5−メチルベンゾトリアゾ
ール 100mり5−ニトロベンゾトリアゾール
100mg1−フェニル−5−メルカプト テトラゾール 30m(]5〜
ニトロインダゾール 50mg1〜フェニ
ル−4−メチル−4− ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン0.5 gジエチ
レングリコール 60 i)水酸化ナト
リウム DHを10.6に調整するm水を加えて、
500背に仕上げる。(、f1810.6)使用時には
、上記原液を水で2倍Mに希釈して用いる。
[定着液コ
(バートA)
チオ硫酸アンモニウム 170Ω亜硫酸
ナトリウム 15 Qホウ酸
6・59氷酢酸
12−クエン酸ナトリウム(2水)
g) 2,5Q水を加えて275tNに仕上げ
る。
ナトリウム 15 Qホウ酸
6・59氷酢酸
12−クエン酸ナトリウム(2水)
g) 2,5Q水を加えて275tNに仕上げ
る。
(バートB)
(11醇アルミニウム(18水温)15998%硫酸
2.50水を加えて40d
に仕上げる。
2.50水を加えて40d
に仕上げる。
使用、皮の調整方法(ユ、上記バート△ 275.、I
Bこ水均600−を加えた後、バートtEl 40 *
2を加え、ざらに、水を加えて1000 、、+2に仕
上げる。
Bこ水均600−を加えた後、バートtEl 40 *
2を加え、ざらに、水を加えて1000 、、+2に仕
上げる。
[感度1
小西六写真工業社製感度計KS−1を用いて測定した。
カブリ+0.7の濃度を与える露光うの逆数を感度とし
、試料Nolの即日感度を100とする比(5度で表示
した。
、試料Nolの即日感度を100とする比(5度で表示
した。
[寸度変化率]
現像処理に伴う寸度安定性は、ごンゲージを用いて測定
した。艮ざ200mmの露光した試r月の処理前の寸法
をX1lll11、現像処理後の寸法をYnvとし、寸
度変化率は、次式のように求められる。
した。艮ざ200mmの露光した試r月の処理前の寸法
をX1lll11、現像処理後の寸法をYnvとし、寸
度変化率は、次式のように求められる。
寸度変化率(%) = ((Y−X ) / 200)
X 100当業界では、寸度変化率± 0.01%
以下ならば実用上、問題ないとされている。
X 100当業界では、寸度変化率± 0.01%
以下ならば実用上、問題ないとされている。
[失速性]
現像処理水洗後のフィルムの透明度の低下が全くないも
のをA、極く僅かに乳白色になるものを81わずかに乳
白色になるものをCとして、目視により判断した。
のをA、極く僅かに乳白色になるものを81わずかに乳
白色になるものをCとして、目視により判断した。
[ハジキ]
塗布面h130cn+x30cm当りの個数を肉眼で観
察した。
察した。
以下余白
表−1−からら明らかなように、;N発明の試r;11
〜14は、カブリの発生がイ代く、また感度も(イ)れ
ており、かつ、寸度変1ヒ率が小さく、しかも、失透や
塗布時のハジキち起さない。これに対して、ラテックス
を用いない試料22は、寸度変化率が極めて大きく、ま
た、低分子界面活性剤を用いて合成したラテックスを用
いた試料No、15〜18は、写真特性が極めて劣化し
、また、高分子保護コロイドを用いた公知のラテックス
を使用した試RNo、19も、写真特性が劣る他、失透
性やハジキの発生が目立つ。水溶性上ツマ−を共重合さ
せたラテックスを使用した試料No、20も、写真特性
が劣化し、失透性やハジキの発生が目立つ。また、低分
子界面活性剤を用いて疎水性ポリマーを分散して得たラ
テックスを使用した試料No、21は、写真特性、失速
性、ハジキの発生とも劣化している。
〜14は、カブリの発生がイ代く、また感度も(イ)れ
ており、かつ、寸度変1ヒ率が小さく、しかも、失透や
塗布時のハジキち起さない。これに対して、ラテックス
を用いない試料22は、寸度変化率が極めて大きく、ま
た、低分子界面活性剤を用いて合成したラテックスを用
いた試料No、15〜18は、写真特性が極めて劣化し
、また、高分子保護コロイドを用いた公知のラテックス
を使用した試RNo、19も、写真特性が劣る他、失透
性やハジキの発生が目立つ。水溶性上ツマ−を共重合さ
せたラテックスを使用した試料No、20も、写真特性
が劣化し、失透性やハジキの発生が目立つ。また、低分
子界面活性剤を用いて疎水性ポリマーを分散して得たラ
テックスを使用した試料No、21は、写真特性、失速
性、ハジキの発生とも劣化している。
実施例2
臭化銀98.5モル%、ヨウ化銀1.5モル%を含有す
るヨウ臭化銀ゼラチン高感度乳剤に、ハロゲン化銀1モ
ル当り 1.2gの4−ヒドロキシ−6−メチル−1,
3,38,7−チトラザインデン、10Qのジエチレン
グリコールを添加し、さらに、本発明のラテックス(a
−n )及び比較用ラテックス(イ〜ト)を、乾燥型
口としてゼラチン1g当り 1.0gとなるように添加
し、2−ヒドロキシ−4,6−ジクロロ−S−トリアジ
ンナトリウム塩を添加したのち、下引きを施した、ポリ
エチレンテレフタレート支持体上の両面に、この乳剤を
銀fa 4.OQ /f 、ゼラチンとラテックスの合
計が1.9(1/fとなるように、塗布した。
るヨウ臭化銀ゼラチン高感度乳剤に、ハロゲン化銀1モ
ル当り 1.2gの4−ヒドロキシ−6−メチル−1,
3,38,7−チトラザインデン、10Qのジエチレン
グリコールを添加し、さらに、本発明のラテックス(a
−n )及び比較用ラテックス(イ〜ト)を、乾燥型
口としてゼラチン1g当り 1.0gとなるように添加
し、2−ヒドロキシ−4,6−ジクロロ−S−トリアジ
ンナトリウム塩を添加したのち、下引きを施した、ポリ
エチレンテレフタレート支持体上の両面に、この乳剤を
銀fa 4.OQ /f 、ゼラチンとラテックスの合
計が1.9(1/fとなるように、塗布した。
得らたれた試料について、塗布時のハジキの発生状況を
肉眼で観察し、さらに、各試料をウェッジ露光し、下記
の処理をして、実施例1と同様に感度、カブリ、寸度安
定性、失透性について調べた。
肉眼で観察し、さらに、各試料をウェッジ露光し、下記
の処理をして、実施例1と同様に感度、カブリ、寸度安
定性、失透性について調べた。
さらに、得られた試料について、圧力力ブリの試験を行
なった。結果を表−2に示す。
なった。結果を表−2に示す。
[圧力力ブリ]
試料をスリット間隔2mmの折りまば試験器で折りまげ
だ後、現像処理を行ない、圧力力ブリを測定した。
だ後、現像処理を行ない、圧力力ブリを測定した。
処理工程
現像 30℃ 45″定着
25℃ 35″水洗
15℃ 35″乾燥 45℃
20″現像液組成は、次の通りである。
25℃ 35″水洗
15℃ 35″乾燥 45℃
20″現像液組成は、次の通りである。
フェニドン 0.4gメトール
5gハイドロキノン
1g無水亜硫酸ナトリウム
60g含水炭酎ナトリウム 54
(]5−二トロイミダゾール 100mg臭
化カリウム 2.59水を加え
て1000t12とし p)−11Q、20とする。
5gハイドロキノン
1g無水亜硫酸ナトリウム
60g含水炭酎ナトリウム 54
(]5−二トロイミダゾール 100mg臭
化カリウム 2.59水を加え
て1000t12とし p)−11Q、20とする。
以下余白
表−2から明らかなように、本発明の試料1〜14は、
カブリの発生が低く、また感度も優れており、かつ、寸
度変化率が低く、しかも失透や塗布時のハジキも起さな
い。
カブリの発生が低く、また感度も優れており、かつ、寸
度変化率が低く、しかも失透や塗布時のハジキも起さな
い。
また、高感度乳剤において、本発明ラテックスを使用す
ると、折りまげカブリの発生が抑えられる。
ると、折りまげカブリの発生が抑えられる。
特許出願人 小西六写真工業株式会社
手続ネ[11■三拒] (自梵)
昭和61年11月07日
昭和60年特F′r願 第232262Q2、発明の名
称 ハロゲン化銀写真感光材わ1 3、補正を覆る者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号名称
(127> 小西六写真工梨株式会社代表取締役
j[手 恵生 4、代理人 〒102 住所 東京都千代田区九段北4丁目1 m 1型入段
−ロ坂ビル電話263−9524 明細用の「2、特許請求の範囲」及び[36発6、補正
の内容 (1)明細用の特許請求の範囲を別紙のとおり補正する
。
称 ハロゲン化銀写真感光材わ1 3、補正を覆る者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号名称
(127> 小西六写真工梨株式会社代表取締役
j[手 恵生 4、代理人 〒102 住所 東京都千代田区九段北4丁目1 m 1型入段
−ロ坂ビル電話263−9524 明細用の「2、特許請求の範囲」及び[36発6、補正
の内容 (1)明細用の特許請求の範囲を別紙のとおり補正する
。
(2)明細内用5頁第4行〜5行の1一つにJ、って保
護コ【」イド化されたラテックス」を「−・つを保護コ
ロイドとしたラテックス」と補正する。
護コ【」イド化されたラテックス」を「−・つを保護コ
ロイドとしたラテックス」と補正する。
以 上
(冥 紙)
[2、特許請求の範囲
(1)支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層
を右づるハロゲン化銀写真感光材料において、前記ハロ
ゲン化銀乳剤層の少なくとも一層に天然水溶性ポリマー
およびその誘導体から選ばれる少なくとも一つを保護コ
ロイドとしたラテックスを含有することを特徴とりるハ
[1ゲン化銀写真感光材131゜ (2)天然水溶性ポリマーがグルコース重合体又はその
誘導体である特許請求の範囲第1項記載のハロゲン化銀
写真感光材v1゜ (3)グルコース重合体d3よびその誘導体がデキスト
ラン又はデキストラン誘導体である特許請求の範囲第2
項記載のハ【コゲン化銀写真感光材利。
を右づるハロゲン化銀写真感光材料において、前記ハロ
ゲン化銀乳剤層の少なくとも一層に天然水溶性ポリマー
およびその誘導体から選ばれる少なくとも一つを保護コ
ロイドとしたラテックスを含有することを特徴とりるハ
[1ゲン化銀写真感光材131゜ (2)天然水溶性ポリマーがグルコース重合体又はその
誘導体である特許請求の範囲第1項記載のハロゲン化銀
写真感光材v1゜ (3)グルコース重合体d3よびその誘導体がデキスト
ラン又はデキストラン誘導体である特許請求の範囲第2
項記載のハ【コゲン化銀写真感光材利。
(4)デキストラン誘導体が、アニオン性基を右ηるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第31ft記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料。
とを特徴とする特許請求の範囲第31ft記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料。
(5)グルコース重合体J3よび/又はその誘導体の存
在下で、重合性不飽■1化合物を■合して1qられたラ
テックスをハロゲン化銀乳剤層に含有でることを特徴と
する特許AN求の範囲第2項記載のハロゲン化銀写真感
光材わl。」 シソ上
在下で、重合性不飽■1化合物を■合して1qられたラ
テックスをハロゲン化銀乳剤層に含有でることを特徴と
する特許AN求の範囲第2項記載のハロゲン化銀写真感
光材わl。」 シソ上
Claims (5)
- (1)支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層
を有するハロゲン化銀写真感光材料において、前記ハロ
ゲン化銀乳剤層の少なくとも一層に天然水溶性ポリマー
およびその誘導体から選ばれる少なくとも一つによつて
保護コロイド化されたラテックスを含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料。 - (2)天然水溶性ポリマーがグルコース重合体又はその
誘導体である特許請求の範囲第1項記載のハロゲン化銀
写真感光材料。 - (3)グルコース重合体およびその誘導体がデキストラ
ン又はデキストラン誘導体である特許請求の範囲第2項
記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - (4)デキストラン誘導体が、アニオン性基を有するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第3項記載のハロゲン化
銀写真感光材料。 - (5)グルコース重合体および/又はその誘導体の存在
下で、重合性不飽和化合物を重合して得られたラテック
スをハロゲン化銀乳剤層に含有することを特徴とする特
許請求の範囲第2項記載のハロゲン化銀写真感光材料。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60232262A JPH0648349B2 (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| DE8686114223T DE3687394T2 (de) | 1985-10-16 | 1986-10-14 | Photographisches silberhalogenidmaterial. |
| EP86114223A EP0219101B1 (en) | 1985-10-16 | 1986-10-14 | Silver halide photographic material |
| US07/246,939 US4935338A (en) | 1985-10-16 | 1988-07-15 | Silver halide photographic material containing aqueous latex having coated polymer particles |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60232262A JPH0648349B2 (ja) | 1985-10-17 | 1985-10-17 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6290645A true JPS6290645A (ja) | 1987-04-25 |
| JPH0648349B2 JPH0648349B2 (ja) | 1994-06-22 |
Family
ID=16936497
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60232262A Expired - Fee Related JPH0648349B2 (ja) | 1985-10-16 | 1985-10-17 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0648349B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06148770A (ja) * | 1992-11-04 | 1994-05-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | ラテツクス分散物およびラテツクスの使用方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4837488A (ja) * | 1971-09-13 | 1973-06-02 | ||
| JPS4852882A (ja) * | 1971-11-06 | 1973-07-25 | ||
| JPS5296016A (en) * | 1976-02-06 | 1977-08-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photographic material |
| JPS569743A (en) * | 1979-07-06 | 1981-01-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photographic image forming method |
| JPS59135456A (ja) * | 1983-01-24 | 1984-08-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 製版用ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS59193447A (ja) * | 1983-04-18 | 1984-11-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 明室用ハロゲン化銀写真感光材料 |
-
1985
- 1985-10-17 JP JP60232262A patent/JPH0648349B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4837488A (ja) * | 1971-09-13 | 1973-06-02 | ||
| JPS4852882A (ja) * | 1971-11-06 | 1973-07-25 | ||
| JPS5296016A (en) * | 1976-02-06 | 1977-08-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photographic material |
| JPS569743A (en) * | 1979-07-06 | 1981-01-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photographic image forming method |
| JPS59135456A (ja) * | 1983-01-24 | 1984-08-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 製版用ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS59193447A (ja) * | 1983-04-18 | 1984-11-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 明室用ハロゲン化銀写真感光材料 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06148770A (ja) * | 1992-11-04 | 1994-05-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | ラテツクス分散物およびラテツクスの使用方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0648349B2 (ja) | 1994-06-22 |
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