JPS6292964A - 感光体 - Google Patents
感光体Info
- Publication number
- JPS6292964A JPS6292964A JP23387385A JP23387385A JPS6292964A JP S6292964 A JPS6292964 A JP S6292964A JP 23387385 A JP23387385 A JP 23387385A JP 23387385 A JP23387385 A JP 23387385A JP S6292964 A JPS6292964 A JP S6292964A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pigment
- brominated
- obtd
- derivatives
- brominated anthanthrone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0601—Acyclic or carbocyclic compounds
- G03G5/0609—Acyclic or carbocyclic compounds containing oxygen
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
本発明は感光体、特に電子写真感光体に関するものであ
る。
る。
口、従来技術
一般に、可視光を吸収してキャリアを発生する物質は、
無定形セレン等のごく一部のものを除いては、それ自体
でフィルムを形成せしめることが困難であり、しかもそ
の表面に与えられた電荷に対する保持力に乏しい欠点を
有している。これとは逆に、フィルム形成能に優れ、か
つ１０μｍ程度の厚さで５００ｖ以上の電荷を長時間に
亘って保持し得る物質は、概して可視光の吸収による十
分な光導電性を有しない欠点を有している。
無定形セレン等のごく一部のものを除いては、それ自体
でフィルムを形成せしめることが困難であり、しかもそ
の表面に与えられた電荷に対する保持力に乏しい欠点を
有している。これとは逆に、フィルム形成能に優れ、か
つ１０μｍ程度の厚さで５００ｖ以上の電荷を長時間に
亘って保持し得る物質は、概して可視光の吸収による十
分な光導電性を有しない欠点を有している。
このような理由から、第３図に示す如く、Ａ１等の導電
性基体１上に、可視光を吸収して電荷キャリアを発生す
る物質を含むキャリア発生層２を下びき層５を介して設
け、更にキャリア発生層で発生した電荷キャリアの正負
いずれか一方又は両方の輸送を行うキャリア輸送層３を
設けて積層体４となし、この積層体により感光層を構成
せしめることが提案された。このようにぐ荷電キャリア
の発生と輸送とを別個の物質に分担させることによって
、材料の選択範囲が広くなり、電子写真プロセスにおい
て要求される緒特性、例えば電荷保持力、表面強度、可
視光に対する感度及び反復使用時における安定性等を向
上又は改善せしめることができるようになった。
性基体１上に、可視光を吸収して電荷キャリアを発生す
る物質を含むキャリア発生層２を下びき層５を介して設
け、更にキャリア発生層で発生した電荷キャリアの正負
いずれか一方又は両方の輸送を行うキャリア輸送層３を
設けて積層体４となし、この積層体により感光層を構成
せしめることが提案された。このようにぐ荷電キャリア
の発生と輸送とを別個の物質に分担させることによって
、材料の選択範囲が広くなり、電子写真プロセスにおい
て要求される緒特性、例えば電荷保持力、表面強度、可
視光に対する感度及び反復使用時における安定性等を向
上又は改善せしめることができるようになった。
なお、第３Ａ図において、キャリア発生層２をキャリア
輸送層３上に設けた構成としてもよい。
輸送層３上に設けた構成としてもよい。
こうした感光体において、感光層、特にキャリア発生層
に高級有機顔料としての臭素化アンスアンスロン顔料を
使用することが知られている。この顔料は、従来の無機
系粒子やペリレン系顔料の場合に比べて高感度となり、
均一でスクラッチ性の良い感光層を得ることができる。
に高級有機顔料としての臭素化アンスアンスロン顔料を
使用することが知られている。この顔料は、従来の無機
系粒子やペリレン系顔料の場合に比べて高感度となり、
均一でスクラッチ性の良い感光層を得ることができる。
しかしながら、この顔料を電子写真感光体として使用す
るためには、その結晶性及び純度の双方を高める必要が
あるが、これを実現する上で昇華精製法が有効である。
るためには、その結晶性及び純度の双方を高める必要が
あるが、これを実現する上で昇華精製法が有効である。
但し、本発明者が検討を加えたところ、従来法による場
合、得られた顔料を粉砕、分散して感光層用の塗料とす
る際、顔料に加えられるシェア・ストレス（Ｓｈａｒｅ
５ｔｒｅｓｓ）が大きいと（基板温度が高く、顔料粒
子が大で高結晶のとき）結晶格子が歪んだり、分散容器
から不純物が混入したりし易い。このため、帯電能や感
度が低下し、繰返し電位低下量が増す傾向がある。
合、得られた顔料を粉砕、分散して感光層用の塗料とす
る際、顔料に加えられるシェア・ストレス（Ｓｈａｒｅ
５ｔｒｅｓｓ）が大きいと（基板温度が高く、顔料粒
子が大で高結晶のとき）結晶格子が歪んだり、分散容器
から不純物が混入したりし易い。このため、帯電能や感
度が低下し、繰返し電位低下量が増す傾向がある。
逆に、顔料に加えるシェア・ストレスが小さい場合（こ
の場合は、基板温度が低く、顔料粒子が小で低結晶）、
電子写真特性が劣化し、不適当である。
の場合は、基板温度が低く、顔料粒子が小で低結晶）、
電子写真特性が劣化し、不適当である。
ハ２発明の目的
本発明の目的は、高い帯電電位を示し、繰返し安定性の
良好な感光体を提供することにある。
良好な感光体を提供することにある。
アンスアンスロン顔料が感光層に含有され、かつ前記臭
素化アンスアンスロン顔料のＸ線回折スペクトルの２０
＝１８．４°及び２６．７°における回折強度を夫々
Ｓ （１８，４°）及びＳ （２６，７−としたとき、 ０．２ ≦Ｓ （１８，４°） ／Ｓ （２６，７°
）≦１．０である感光体に係るものである。
素化アンスアンスロン顔料のＸ線回折スペクトルの２０
＝１８．４°及び２６．７°における回折強度を夫々
Ｓ （１８，４°）及びＳ （２６，７−としたとき、 ０．２ ≦Ｓ （１８，４°） ／Ｓ （２６，７°
）≦１．０である感光体に係るものである。
構造式：
本発明者は、本発明に到達する過程で、既述した如き顔
料の粉砕（シェア・ストレス）はその結晶欠陥密度を大
きくして特性を劣化せしめ、この結晶欠陥密度を上記臭
素化アンスアンスロン顔料の固有のＸ線回折スペクトル
の回折角２θ−１８，４゜及び２６．７°での回折強度
比と強い相関関係があることを見出した。即ち、回折強
度比： Ｓ （１Ｂ、４°）／Ｓ （２６，７°）を０
．２〜１．０とすることによって本発明の上記目的を達
成することができる。この強度比は、第１図に示す如く
、顔料の粉砕後の粒径を６μｍ以下（実用的な粒径は２
μｍ以下）に制御することによって実現可能であるが、
その下限については０．２未満となればアモルファス化
し易くなるから０．２を下限とすべきである。なお、こ
の強度比は更に、０．３〜０．８とするのが望ましい。
料の粉砕（シェア・ストレス）はその結晶欠陥密度を大
きくして特性を劣化せしめ、この結晶欠陥密度を上記臭
素化アンスアンスロン顔料の固有のＸ線回折スペクトル
の回折角２θ−１８，４゜及び２６．７°での回折強度
比と強い相関関係があることを見出した。即ち、回折強
度比： Ｓ （１Ｂ、４°）／Ｓ （２６，７°）を０
．２〜１．０とすることによって本発明の上記目的を達
成することができる。この強度比は、第１図に示す如く
、顔料の粉砕後の粒径を６μｍ以下（実用的な粒径は２
μｍ以下）に制御することによって実現可能であるが、
その下限については０．２未満となればアモルファス化
し易くなるから０．２を下限とすべきである。なお、こ
の強度比は更に、０．３〜０．８とするのが望ましい。
このように、顔料の粉砕、分散時間を回折強度比で規定
することによって、後述の如くに良好な結果が得られる
。
することによって、後述の如くに良好な結果が得られる
。
なお、本発明において、次の如き方法で臭素化アンスア
ンスロン顔料を製造することを試みた。
ンスロン顔料を製造することを試みた。
即ち、下記構造式で示されるアンスアンスロンを硫酸中
で臭素化したあと水あけし、ろ別分離して本発明で使用
するものと同一構造式の臭素化アンスアンスロンを得、
これを洗浄、乾燥した。
で臭素化したあと水あけし、ろ別分離して本発明で使用
するものと同一構造式の臭素化アンスアンスロンを得、
これを洗浄、乾燥した。
ところがこの場合、無定形の非結晶質の粒子しか得られ
ない。また、臭素化の度合を増すと、２θ＝１８．４°
でのピークが消失し、かつΔθ（２６，７°）が大きく
なってしまう。
ない。また、臭素化の度合を増すと、２θ＝１８．４°
でのピークが消失し、かつΔθ（２６，７°）が大きく
なってしまう。
ところが、上記の方法で臭素化した試料を主成分として
含有する粗製原料を、モノクロルベンゼン、ニトロベン
ゼン、β−ナフトール、１−”ｔ：１０ナフタレン等よ
り選択される非イオン性有機溶剤（望ましくは、この有
機溶剤と、Ｈ２ＳＯ４等の酸又はＮａＯＨ等のアルカリ
からなるイオン性溶剤とを混合せしめたボーダーライン
溶剤）で処理して結晶熟成後、洗浄し、ろ別分離すると
、高結晶性の臭素化アンスアンスロン顔料が得られるこ
とが判明した。この顔料は高結晶性で高純度に得られ、
高い帯電電位と感度、良好な繰返し安定性を示す感光体
用として非常に好適なものであることが分った。
含有する粗製原料を、モノクロルベンゼン、ニトロベン
ゼン、β−ナフトール、１−”ｔ：１０ナフタレン等よ
り選択される非イオン性有機溶剤（望ましくは、この有
機溶剤と、Ｈ２ＳＯ４等の酸又はＮａＯＨ等のアルカリ
からなるイオン性溶剤とを混合せしめたボーダーライン
溶剤）で処理して結晶熟成後、洗浄し、ろ別分離すると
、高結晶性の臭素化アンスアンスロン顔料が得られるこ
とが判明した。この顔料は高結晶性で高純度に得られ、
高い帯電電位と感度、良好な繰返し安定性を示す感光体
用として非常に好適なものであることが分った。
また、こうしたいわば化学精製法によって、アモルファ
ス状の原料から結晶性のきれいな精製品が得られること
が分った。また、この化学精製法によるときは、顔料が
分解することがなく、脱Ｂｒによる腐食もなく、収率良
く目的物が得られる。
ス状の原料から結晶性のきれいな精製品が得られること
が分った。また、この化学精製法によるときは、顔料が
分解することがなく、脱Ｂｒによる腐食もなく、収率良
く目的物が得られる。
なお、本発明による顔料は、上記の化学精製法に限らず
、他の方法（例えば、昇華精製法）によっても製造する
ことができる。
、他の方法（例えば、昇華精製法）によっても製造する
ことができる。
なお、臭素化アンスアンスロン顔料粒子の平均粒径（こ
こでは、上記長軸長すの平均値を意味する。）は２μｍ
以下とするのが望ましい。叩ち、２μｍ以下と微細化す
ることによって、感光体表面に対するその粒径の影響を
防止でき、感光体表面を平滑にできると共に、顔料分散
液を安定化できる。平均粒径が２μｍを越えると、凸部
が表面に生じ易いが、２μｍ以下ではそうした凸部を実
質的になくし平坦な表面を実現できる上に、分散液中の
粒子の沈降を少なくして液の安定化を図れる。この結果
、放電破壊やトナーフィルミングの生じない感光体を得
ることが可能になる。顔料の平均粒径は２μｍ以下とす
るのがよいが、１μｍ以下とするのがより望ましく、０
．５μｍ以下が更に望ましい。但、平均粒径があまりに
小さいと、却って結晶欠陥が増えて繰返し特性が低下し
、また微細化する上で限界があるので、平均粒径の下限
を０．０１μｍとするのが望ましい。
こでは、上記長軸長すの平均値を意味する。）は２μｍ
以下とするのが望ましい。叩ち、２μｍ以下と微細化す
ることによって、感光体表面に対するその粒径の影響を
防止でき、感光体表面を平滑にできると共に、顔料分散
液を安定化できる。平均粒径が２μｍを越えると、凸部
が表面に生じ易いが、２μｍ以下ではそうした凸部を実
質的になくし平坦な表面を実現できる上に、分散液中の
粒子の沈降を少なくして液の安定化を図れる。この結果
、放電破壊やトナーフィルミングの生じない感光体を得
ることが可能になる。顔料の平均粒径は２μｍ以下とす
るのがよいが、１μｍ以下とするのがより望ましく、０
．５μｍ以下が更に望ましい。但、平均粒径があまりに
小さいと、却って結晶欠陥が増えて繰返し特性が低下し
、また微細化する上で限界があるので、平均粒径の下限
を０．０１μｍとするのが望ましい。
なお、本発明の感光体に使用可能なバインダー樹脂とし
ては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル＋Ｍ ＪＡＭ、酢酸
ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノ
ール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂等の付加
重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂並びにこれら
の樹脂の繰返し単位のうちの２つ以上を含む共重合体樹
脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化
ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂等を
挙げることができる。しかしバインダー樹脂はこれらに
限定されるものではなく、斯かる用途に一般に用いられ
るすべての樹脂を使用することができる。
ては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル＋Ｍ ＪＡＭ、酢酸
ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノ
ール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂等の付加
重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂並びにこれら
の樹脂の繰返し単位のうちの２つ以上を含む共重合体樹
脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化
ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂等を
挙げることができる。しかしバインダー樹脂はこれらに
限定されるものではなく、斯かる用途に一般に用いられ
るすべての樹脂を使用することができる。
本発明においてキャリア輸送層に使用されるキャリア輸
送物質としてはオキサゾール誘導体、オキサジアゾール
誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、ト
リアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダシロン
誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘
導体、ピラゾリン誘導体、オキサシロン誘導体、ベンゾ
チアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾ
リン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、
フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、ヒドラゾ
ン誘導体、ビフェニルアミン誘導体、トリフェニルアミ
ン誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリ−１−
ビニルピレン、ポリ−９−ビニルアントラセン、２．４
．７−）リニトロフルオレノン、２，４，５．７−チト
ラニトロフルオレノン、２．７−シニトロフルオレノン
等が挙げられる。
送物質としてはオキサゾール誘導体、オキサジアゾール
誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、ト
リアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダシロン
誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘
導体、ピラゾリン誘導体、オキサシロン誘導体、ベンゾ
チアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾ
リン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、
フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、ヒドラゾ
ン誘導体、ビフェニルアミン誘導体、トリフェニルアミ
ン誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリ−１−
ビニルピレン、ポリ−９−ビニルアントラセン、２．４
．７−）リニトロフルオレノン、２，４，５．７−チト
ラニトロフルオレノン、２．７−シニトロフルオレノン
等が挙げられる。
また、本発明の感光層の形成に使用する有機溶媒として
は、例えばメチレンクロライド、メチレンブロマイド、
１．２−ジクロルエタン、ｓｙｍ−テトラクロロエタン
、ｃｉｓ−１，２−ジクロルエチレン、１１２−）ジク
ロルエタン、クロロホルム、ブロモホルム、ジオキサン
、テトラヒドロフラン、ピリジン等の単独溶媒あるいは
これらを主成分として含有する各種混合溶媒が挙げられ
る。
は、例えばメチレンクロライド、メチレンブロマイド、
１．２−ジクロルエタン、ｓｙｍ−テトラクロロエタン
、ｃｉｓ−１，２−ジクロルエチレン、１１２−）ジク
ロルエタン、クロロホルム、ブロモホルム、ジオキサン
、テトラヒドロフラン、ピリジン等の単独溶媒あるいは
これらを主成分として含有する各種混合溶媒が挙げられ
る。
ホ、実施例
以下、本発明の実施例を図面参照下に詳細に説明する。
夫庫−例−１−
アンスアンスｌコンを硫酸中で臭素化したのち、水あけ
して得られた臭素化アンスアンスロン微粉末５０ｇをニ
トロベンゼン１００ｍ６及びＨ２Ｓ Ｏ４２ｍｍ？から
なるボーダーライン溶媒に加え、１００℃で２４時間ゆ
っくり攪拌したのち放冷した３次いで、ろ過、洗浄し２
て高結晶性臭素化アンスアンスロン顔料４８゜３ｇを得
ｌ、〜。精製顔料のＸ線回折スペクトル（日本電子製Ｊ
ＤＸＩＯＲＡ ＣｕＫ！１．５４１を第２図に示す。
して得られた臭素化アンスアンスロン微粉末５０ｇをニ
トロベンゼン１００ｍ６及びＨ２Ｓ Ｏ４２ｍｍ？から
なるボーダーライン溶媒に加え、１００℃で２４時間ゆ
っくり攪拌したのち放冷した３次いで、ろ過、洗浄し２
て高結晶性臭素化アンスアンスロン顔料４８゜３ｇを得
ｌ、〜。精製顔料のＸ線回折スペクトル（日本電子製Ｊ
ＤＸＩＯＲＡ ＣｕＫ！１．５４１を第２図に示す。
得られた精製顔料４０［を磁製ボー・ルミルに充填し、
毎分２０同転（最大粉砕エネルギー・を与える臨界回転
数は７０同転）で２４時間粉砕した。
毎分２０同転（最大粉砕エネルギー・を与える臨界回転
数は７０同転）で２４時間粉砕した。
次にポリカーボネー・ト樹脂［パンライト■、−１２５
０Ｊ （奇人化成社製）２０ｇを１，２−ジクロルエ
タン１３００ ｍに溶解した溶液を加え２４時間分散処
理してキャリア発生層形成用塗布液を得た。
０Ｊ （奇人化成社製）２０ｇを１，２−ジクロルエ
タン１３００ ｍに溶解した溶液を加え２４時間分散処
理してキャリア発生層形成用塗布液を得た。
得られた塗布液の−・部を用いて顔料をろ別号離し、Ｘ
線回折スペクトルの２θ−１８，４°及び２６．７゜に
おける強度を測定した結果を表−１に示す。また、精製
顔料及び粉砕、分散後の塗布液顔１１の長軸／短軸比の
平均値［７石及び長軸平均値−゛１７も表−１に示す。
線回折スペクトルの２θ−１８，４°及び２６．７゜に
おける強度を測定した結果を表−１に示す。また、精製
顔料及び粉砕、分散後の塗布液顔１１の長軸／短軸比の
平均値［７石及び長軸平均値−゛１７も表−１に示す。
実差例−Ｉ
実施例１に於けるボルルミル粉砕時間を１２時間とした
他は実施例１と同様に実施しノーｍ外ｌ 粉砕時間９６時間とした以外は実施例１と同様（、：二
人）した。
他は実施例１と同様に実施しノーｍ外ｌ 粉砕時間９６時間とした以外は実施例１と同様（、：二
人）した。
上Ｊ文例↓
粉砕時間を６時間と１７だ以外は実施例１七同様にした
。
。
ル較−例４９．？、
粉砕時間を１２０時間とした以外は実施例１と同様にし
た。
た。
比較例Ｊ
実施例１に使用１〜た結晶化処理を施さない原料を粉砕
せずに２４時間分散した他は実施例１と同様にし、て、
キャリア発生層形成用塗布液を冑、た７表 −１ 以Ｊ・の実施例、比較例で得たキト・すｊ発生層形成用
塗布液を用いて以下の方法゛Ｃ電子写真感光体ドラムを
作成した。
せずに２４時間分散した他は実施例１と同様にし、て、
キャリア発生層形成用塗布液を冑、た７表 −１ 以Ｊ・の実施例、比較例で得たキト・すｊ発生層形成用
塗布液を用いて以下の方法゛Ｃ電子写真感光体ドラムを
作成した。
１００ φのアルミドラム上に１、乾煙旧燈が０．１！
３／ ｎ？の塩化ビュ、ルー酢酸ビ、′：′ルー無水７
１．／イン酸共重合体樹川３「”ｆ、スレツクＭＦｉＯ
−１（積木化学工業社製）より成る中間層をディップ塗
布法によって設けたのち、前記キャリア発生層形成用塗
布液を同じくディップ塗布法によって前記中間Ｊｉｌに
塗布して、乾燥重量が２．１ｇ／′耐のキャリア発生層
を得た。
３／ ｎ？の塩化ビュ、ルー酢酸ビ、′：′ルー無水７
１．／イン酸共重合体樹川３「”ｆ、スレツクＭＦｉＯ
−１（積木化学工業社製）より成る中間層をディップ塗
布法によって設けたのち、前記キャリア発生層形成用塗
布液を同じくディップ塗布法によって前記中間Ｊｉｌに
塗布して、乾燥重量が２．１ｇ／′耐のキャリア発生層
を得た。
一方、次の構造式で表わされるギヤリア輸送物ＣＨ３
２，４，６−ドリニトロ １−り１′ＪルベンゼンＯ，
２２５１？、、ポリカーボネ １・樹脂３００１ζ売１
，２−ジクロルエタン′２０００ｍ、ｌにン容ＰＩＪｌ
ｉシ゛てｉ邊ンｆろれ人：＝ｒ・セリア輸送層形成用塗
布液をディップ塗布法により前記キャリア発生ＪＥｉ
」−： （ｒＴ、、塗？ｉｉ’ ！、−（：、。乾燥重
量”が１９ｇ／’ｎ？のキャリ′ア輸送層苓形成（５１
１，２以っ−ζ本発明及び田較の電ｒ写真感光体（第３
Ａ図）苓作成し７’：：＠ なお、上記に代えで、キー・リア輸送ｊ−をまず形成し
、この上にキャリア発生層を形成してもよい（第３Ｂ図
） 以上の実施例及び比較例で得られた試料及び比較試料を
感光体試験機（小西六写真工業匁）に装着し、表面電位
針「エレクトロスタチックボルトメータ１４４Ｄ−ＬＤ
型」 （モンローエレクトロニクスインコーボレーテッ
ド製）を用いて、帯電々位ｖｏ （Ｖ）、表面電位を一
６００ｖから−１００Ｖに減するのに必要な露光量Ｅ７
弗（ｊ２ ｘ −５ｅｃ ）及び表面電位を一６００■
とし５秒後の電位保持率ＤＤ（％）を調べた。
２２５１？、、ポリカーボネ １・樹脂３００１ζ売１
，２−ジクロルエタン′２０００ｍ、ｌにン容ＰＩＪｌ
ｉシ゛てｉ邊ンｆろれ人：＝ｒ・セリア輸送層形成用塗
布液をディップ塗布法により前記キャリア発生ＪＥｉ
」−： （ｒＴ、、塗？ｉｉ’ ！、−（：、。乾燥重
量”が１９ｇ／’ｎ？のキャリ′ア輸送層苓形成（５１
１，２以っ−ζ本発明及び田較の電ｒ写真感光体（第３
Ａ図）苓作成し７’：：＠ なお、上記に代えで、キー・リア輸送ｊ−をまず形成し
、この上にキャリア発生層を形成してもよい（第３Ｂ図
） 以上の実施例及び比較例で得られた試料及び比較試料を
感光体試験機（小西六写真工業匁）に装着し、表面電位
針「エレクトロスタチックボルトメータ１４４Ｄ−ＬＤ
型」 （モンローエレクトロニクスインコーボレーテッ
ド製）を用いて、帯電々位ｖｏ （Ｖ）、表面電位を一
６００ｖから−１００Ｖに減するのに必要な露光量Ｅ７
弗（ｊ２ ｘ −５ｅｃ ）及び表面電位を一６００■
とし５秒後の電位保持率ＤＤ（％）を調べた。
また、５０００回の繰返し試験を行ない、帯電々位の安
定性を調べた。
定性を調べた。
なお帯電電位は６００■に充たない試料については、帯
電電流を標準値ｒり増加させて８６ｇ３ 及びＤＤを
測定した。
電電流を標準値ｒり増加させて８６ｇ３ 及びＤＤを
測定した。
結果を表−２に示す（表−２中の試料魚は表−１の実施
例魚及び比較例階に対応）。
例魚及び比較例階に対応）。
表−２
表−１，２から、本発明による試料では感度及び電位保
持性能が良好となることが分る。
持性能が良好となることが分る。
図面は本発明を説明するためのものであって、第１図は
顔料の粒径によるＸ線回折強度比を示すグラフの一つの
例、 第２図は粉砕前のキャリア発生物質のＸ線回折スペクト
ル図、 第３Ａ図及び第３Ｂ図は電子写真感光体の各断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 １・・・・・・・・・導電性基体 ２・・・・・・・・・キャリア発生層 ３・・・・・・・・・キャリア輸送層 である。
顔料の粒径によるＸ線回折強度比を示すグラフの一つの
例、 第２図は粉砕前のキャリア発生物質のＸ線回折スペクト
ル図、 第３Ａ図及び第３Ｂ図は電子写真感光体の各断面図 である。 なお、図面に示す符号において、 １・・・・・・・・・導電性基体 ２・・・・・・・・・キャリア発生層 ３・・・・・・・・・キャリア輸送層 である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、下記構造式で表わされる臭素化アンスアンスロン顔
料が感光層に含有され、かつ前記臭素化アンスアンスロ
ン顔料のＸ線回折スペクトルの２θ＝１８．４°及び２
６．７°における回折強度を夫々Ｓ（１８．４°）及び
Ｓ（２６．７°）としたとき、０．２≦Ｓ（１８．４°
）／Ｓ（２６．７°）≦１．０である感光体。 構造式： ▲数式、化学式、表等があります▼
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23387385A JPS6292964A (ja) | 1985-10-19 | 1985-10-19 | 感光体 |
| DE19863635176 DE3635176A1 (de) | 1985-10-19 | 1986-10-16 | Photorezeptor und verfahren zur erzeugung eines elektrostatischen bildes auf demselben |
| GB8624878A GB2183355B (en) | 1985-10-19 | 1986-10-17 | Photoreceptor and process for forming electrostatic image on the same |
| US07/059,955 US4835080A (en) | 1985-10-19 | 1987-06-09 | Photoreceptor having photosensitive layer comprising a brominated anthanthrone of specified x-ray spectrum |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23387385A JPS6292964A (ja) | 1985-10-19 | 1985-10-19 | 感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6292964A true JPS6292964A (ja) | 1987-04-28 |
Family
ID=16961906
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23387385A Pending JPS6292964A (ja) | 1985-10-19 | 1985-10-19 | 感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6292964A (ja) |
-
1985
- 1985-10-19 JP JP23387385A patent/JPS6292964A/ja active Pending
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