JPS6294357A - 薄膜感熱記録ヘツド - Google Patents

薄膜感熱記録ヘツド

Info

Publication number
JPS6294357A
JPS6294357A JP60234590A JP23459085A JPS6294357A JP S6294357 A JPS6294357 A JP S6294357A JP 60234590 A JP60234590 A JP 60234590A JP 23459085 A JP23459085 A JP 23459085A JP S6294357 A JPS6294357 A JP S6294357A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
wiring
heat generating
recording head
generating resistor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60234590A
Other languages
English (en)
Inventor
Mamoru Morita
守 森田
Juichi Kishida
岸田 寿一
Satoru Hashimoto
悟 橋本
Hirotake Nakayama
仲山 浩偉
Koji Yamaguchi
山口 好治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP60234590A priority Critical patent/JPS6294357A/ja
Publication of JPS6294357A publication Critical patent/JPS6294357A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N97/00Electric solid-state thin-film or thick-film devices, not otherwise provided for

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electronic Switches (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、薄膜感熱記録ヘッドの改良に関する。
〔発明の背景〕
例えば、ファクシミリには、薄膜感熱記録ヘッドが使用
される。
この薄膜感熱記録ヘッドが使用される製品は大hL生産
品であるため、生産性の観点から、薄膜感熱記録ヘッド
には、各種電気部品の実装が容易であることが要求され
る。又、同様の理由により、薄+1!A感熱記録ヘッド
自体の生産プロセスも、簡略化されたものが望まれる。
一]―記の要求を満たす一手段として、現在の二層配線
構造を、−・磨削線構造として使用する方法がある。
第2図に示すように、従来の薄膜感熱記録ヘッドは、第
−磨削線材料としてAη11を用いていたために、二層
構造にして、半FT1接続可能なCr6゜(”、u’l
及びAu8を形成していた。(特開昭59−10697
8号公報参照) その結果、一層構造で薄膜記録ヘッドを構成しようとす
る場合、駆動用ICの実装は、実装容易な半111実装
法の適用が不可能となって、実装困難なワイヤボンディ
ング法によらなければならず、生産性が極めて低いとい
う欠点があった。
〔発明の[1的] 本発明は、−に記従来の欠点を解決するためになされた
ものであり、搭載部品の半田1接続を可能にすると共に
、簡単な一層配線構造にし、生産性を向上した薄膜感熱
記録ヘッドを提供せんとするものである。
〔発明の概要〕
即ち、本発明は、発熱抵抗体の1〕に配線材料を形成し
、この配線材料の1−に半111接続材を形成した一層
の配線構造にし、1・i?l!配線材料は、Cr 。
Cu、Crの順に膜を形成して構成し、一方半■1接続
材をCu、Auの順に膜を形成したことを特徴とする。
〔作用〕
このように構成することにより、配線材として半田接続
が可能でかっ、比抵抗の小さいCu材を用い、この配線
材を挟むようにCr材を用いて、配線材Cuと下地材料
との密着性を向上し、がっ、配線材Cuの上面に形成し
たCr材により半]11の流れ防止を行なうようにして
いる。
更に、−E部のCr股−I−に半111接続用のCu膜
を形成し、この上に酸化防11−膜としてAu膜を形成
し。
−磨削線構造にして搭載部品の゛IL、■接続を行なう
ものである。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の−・実施例について詳細に説明する。第
1図において、グレーズドセラミック基板11−にアン
ダーツー1〜膜2及び発熱抵抗体3が形成されている。
発熱抵抗体3の上には、配線材料と【ッてのCr4.C
u5及びCr6が形成されている。更にCr6の」−に
は、半]l接続材としてのCu7及びAu8が形成され
ている。
この薄膜感熱記録ヘッドは、次のようにして製造される
先ず、半n1接続材Ou7及びAu8は、ホトエツチン
グにて同一パターン形状に成形し、配線材料Cr6HC
u5及びCr 4を同一パターン形状に形成する。
ここで、4・層のCr 4は、記録特性向上のために、
−L層Cu5及びCr6と異ったパターン形状にするこ
とも可能である。
りぞに発熱抵抗体3のパターン形成を行なった後に、発
熱抵抗体3の保護膜9及び、記録紙に対するIkJ摩耗
+1’J I Oを形成する。保護膜9は、配線Cu5
の保護を兼用するため回路上全面に形成し、しかる後に
、半I′r1接続材Cu7及びAu8の周辺をホー;3
− トエッチングにて除去してもよい。
次に配線材料及び半田1接続材の作用とその膜J’4に
ついて説明する。
先ず、下層Cr 4は、発熱抵抗体;3と配線Cu 5
の接着性向」二と両者間の反応防11−用膜として作用
 。
し、その膜厚さは、1000人程度高札ばよい。配線C
u5は、配線抵抗を考慮しても比抵抗が小さいので、0
.5〜1μIIIP1.度でよい。配線Cu5上の膜C
r6は、半2重流れ防II−膜として及び、保護膜9と
の密着力向上のために用いられるので1000人程度高
札ばよい。
次に半III接続材C’、 u 7は、Cu材への半1
1の拡散及び再半田付等を考え2〜4μm程度を必要と
する。又Auの股8は、Cu膜7の酸化を防止するため
1000人程度高札い。
〔発明の効果〕
以上詳述した通り本発明によれば、発熱抵抗体の上にC
r膜+ cu股及びCr 1%から成る配線材料を形成
し、この−FにCu膜及びAu膜から成る半田接続材を
形成した薄膜感熱記録ヘッドとしたので、これに搭載さ
れる電気部品は、半田接続が可能になった。
又、中間に絶縁1換を有さない一層構造にしたので、薄
膜感熱記録ヘッドの製造工程が簡略化され、l;起生D
i接続が可能になったこととの相乗効果により、生産性
を大「11に向上することができ、産業−に極めて顕著
な効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に係る薄膜感熱記録ヘッドの一実施例
の縦断面図である。第2図は、従来の薄膜感熱記録ヘッ
ドの縦断面図である。 1・・・グレーズドセラミック基板、2・・・アンダー
コート膜、3・・・発熱抵抗体、4・・・Cr、5・・
・配線Cu、6−Cr、7・・・半田接線Cu、8=A
u、9・・・保護膜、10・・・耐摩耗膜、11・・・
配線Au.12・・・ポリイミド系樹脂。 配線材料→Cr膜4、Cr膜5、Cr膜6を順次形成し
たものである。 半1月接続材→Cu膜7にAu膜8を形成したものであ
る。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 発熱抵抗体の上に配線材料を形成し、該配線材の上に半
    田接続材を形成し、上記配線材料をCr、Cu、Crの
    順に形成すると共に、上記半田接続材をCu、Auの順
    に形成した一層配線構造を特徴とする薄膜感熱記録ヘッ
    ド。
JP60234590A 1985-10-22 1985-10-22 薄膜感熱記録ヘツド Pending JPS6294357A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60234590A JPS6294357A (ja) 1985-10-22 1985-10-22 薄膜感熱記録ヘツド

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60234590A JPS6294357A (ja) 1985-10-22 1985-10-22 薄膜感熱記録ヘツド

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6294357A true JPS6294357A (ja) 1987-04-30

Family

ID=16973406

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60234590A Pending JPS6294357A (ja) 1985-10-22 1985-10-22 薄膜感熱記録ヘツド

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6294357A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2081141A1 (en) Pulsed current resistive heating for bonding temperature critical components
JPH0440878B2 (ja)
JPS63106910A (ja) 薄膜磁気ヘツド
JPH03205165A (ja) サーマルヘッド
JPS6294357A (ja) 薄膜感熱記録ヘツド
JPH03189170A (ja) サーマル・ヘッド及びその製造方法
JPH0751810Y2 (ja) サーマルヘッド用印刷配線基板
JPH01103458A (ja) 厚膜式サーマルヘッド
JP2661158B2 (ja) リードパターンの形成方法
JPS5825976A (ja) サ−マルプリンタヘツド
JPS63268663A (ja) サーマルヘッド基板および製造方法
JPS61230961A (ja) 薄膜サ−マルヘツド
JPH0737147B2 (ja) サーマルヘッド及びその製造方法
JPS6167144U (ja)
JPH0239841B2 (ja)
JPS6216164A (ja) サ−マルヘツド
JPS6331367Y2 (ja)
JPH05243306A (ja) 樹脂封止半導体装置
JPS62278059A (ja) 薄膜感熱記録ヘツド
JPH06132338A (ja) 印刷回路基板
JPS61112659A (ja) サ−マルヘツド
JPS592865A (ja) ドライバ搭載型サ−マルヘツド
JPH02299860A (ja) サーマルヘッド
JPS62115836A (ja) 混成集積回路の製造方法
JPS5825975A (ja) サ−マルプリンタヘツドの製造法