JPS63100443A - 可染性樹脂膜のパタ−ン形成法 - Google Patents
可染性樹脂膜のパタ−ン形成法Info
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- JPS63100443A JPS63100443A JP61245320A JP24532086A JPS63100443A JP S63100443 A JPS63100443 A JP S63100443A JP 61245320 A JP61245320 A JP 61245320A JP 24532086 A JP24532086 A JP 24532086A JP S63100443 A JPS63100443 A JP S63100443A
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- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はガラス等の透明な基材を染料によりストライプ
又はモザイク状又はその他の形状に染色する為の可染性
樹脂膜のパターン形成法に関するものである。
又はモザイク状又はその他の形状に染色する為の可染性
樹脂膜のパターン形成法に関するものである。
近年ガラス等の透明基材をストライプ又はモザイク状等
に着色したものが色分鱗用フィルターとして液晶カラー
TV又はカラーTV用カメラのカラー化の為に増々需要
が増大しつつある。
に着色したものが色分鱗用フィルターとして液晶カラー
TV又はカラーTV用カメラのカラー化の為に増々需要
が増大しつつある。
本発明はかかる需要等を満たす為になされたガラス等の
透明基材にストライプ又はモザイク状等に又はその他の
形状に染色する為の可染性樹脂膜のパターン形成法に関
するものである。
透明基材にストライプ又はモザイク状等に又はその他の
形状に染色する為の可染性樹脂膜のパターン形成法に関
するものである。
(従来の技術)
従来この分野に於いては可染性感光性樹脂組成物が用い
られているが、これら可染性感光性樹脂の用いられ方は
先ず適当な濃度に希釈した溶液をガラス板等に塗布し、
次にマスクを介して露光したのち現像してストライプ又
はモザイク状の可染性樹脂膜を形成させ、これを所定の
分光特性を有する染料により染色する等の操作を繰返す
ことにより色分解用フィルターを作成しているが、この
樹脂膜の現像時に於いては20〜70℃の中性〜酸性水
溶液を使用して現像を行っている。
られているが、これら可染性感光性樹脂の用いられ方は
先ず適当な濃度に希釈した溶液をガラス板等に塗布し、
次にマスクを介して露光したのち現像してストライプ又
はモザイク状の可染性樹脂膜を形成させ、これを所定の
分光特性を有する染料により染色する等の操作を繰返す
ことにより色分解用フィルターを作成しているが、この
樹脂膜の現像時に於いては20〜70℃の中性〜酸性水
溶液を使用して現像を行っている。
(発明が解決しようとする問題点ン
前述のように可染性感光性樹脂組成物をガラス板等に塗
布しマスクを介して露光したのち20〜70℃の水を使
用して現像を行うと現像時間が長かつたり、一度現像に
より脱落した可染性感光性樹脂組成物の粘状物がガラス
板等に再付着する為に不良品が発生し易いとか、又酸性
溶液で現像を行うと、現像時間は短縮出来るが露光部皮
膜の膜荒れが生じるとかの問題があり、工程の合理化、
収率の点で更に改善が望まれていた。
布しマスクを介して露光したのち20〜70℃の水を使
用して現像を行うと現像時間が長かつたり、一度現像に
より脱落した可染性感光性樹脂組成物の粘状物がガラス
板等に再付着する為に不良品が発生し易いとか、又酸性
溶液で現像を行うと、現像時間は短縮出来るが露光部皮
膜の膜荒れが生じるとかの問題があり、工程の合理化、
収率の点で更に改善が望まれていた。
(問題点を解決する為の手段)
本発明者等はこれらの問題点を解決すべく検討を行った
結果、可染性感光性樹脂液をガラス板等に塗布しマスク
を介して露光したのち非イオン界面活性剤を含有する″
水溶液を用いて現像を行うことにより目的を達成するこ
とがわかり本発明を完成するに至った。
結果、可染性感光性樹脂液をガラス板等に塗布しマスク
を介して露光したのち非イオン界面活性剤を含有する″
水溶液を用いて現像を行うことにより目的を達成するこ
とがわかり本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、
a)可染性モノマーfAl
b) 可染性モノマー囚以外の親水性モノマーfB)
C)疎水性モノマー(q より成る共重合体(Dを構成成分とする可染性感光性樹
脂組成物を用いてガラス板等の基材表面に皮膜を設け、
マスクを用いて露光し、現像液にて現像する際に、現像
液として非イオン界面活性剤を含有する水溶液を用いる
ことを特徴とする可染性樹脂膜のパターン形成法に関す
る。
C)疎水性モノマー(q より成る共重合体(Dを構成成分とする可染性感光性樹
脂組成物を用いてガラス板等の基材表面に皮膜を設け、
マスクを用いて露光し、現像液にて現像する際に、現像
液として非イオン界面活性剤を含有する水溶液を用いる
ことを特徴とする可染性樹脂膜のパターン形成法に関す
る。
本発明の非イオン界面活性剤含有水溶液を用いると現像
時間が無添加の場合に比して短縮出来る上に現像により
脱落した未露光部の樹脂の再付着も減少し、工程の合理
化と品質の向上及び収率の向上に役立つ。この場合非イ
オン界面活性剤は未露光部への水の濡れと浸透促進剤、
脱落樹脂の再付着防止剤として作用し、短時間に現像を
可能にするものと推定される。
時間が無添加の場合に比して短縮出来る上に現像により
脱落した未露光部の樹脂の再付着も減少し、工程の合理
化と品質の向上及び収率の向上に役立つ。この場合非イ
オン界面活性剤は未露光部への水の濡れと浸透促進剤、
脱落樹脂の再付着防止剤として作用し、短時間に現像を
可能にするものと推定される。
界面活性剤の中でもアニオン界面活性剤は可染性感光性
樹脂とイオン的に結合する為に、現像液にアニオン界面
活性剤を添加することにより現像性が悪くなる。又、カ
チオン界面活性剤を用いると現像時間の短縮及び未露光
樹脂組成物の再付着がなくなるが、これを染料で染色し
た場合、染色された露光部の透明性が失われ商品価値が
なくなってしまうので不適当であった。
樹脂とイオン的に結合する為に、現像液にアニオン界面
活性剤を添加することにより現像性が悪くなる。又、カ
チオン界面活性剤を用いると現像時間の短縮及び未露光
樹脂組成物の再付着がなくなるが、これを染料で染色し
た場合、染色された露光部の透明性が失われ商品価値が
なくなってしまうので不適当であった。
本発明で用いられる非イオン界面活性剤としてはポリオ
キシエチレンアルキルエーテル及ヒポリオキシエチレン
アルキルフェノールエーテル系、ソルビタン脂肪酸エス
テル系、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル
糸、ポリオキシエチレンア、シルエステル系、オキシエ
チレンオキシプロピレンブロックボリマー、脂肪酸モノ
グリセライド、等が挙げられる。これらは1種又は2種
以上の混合系でも良い。これら非イオン界面活性剤の使
用量は水1000部に対して0.1〜50部が好ましく
、特に0.5〜10部が好ましい。又現像温度は15〜
80℃が好ましい。
キシエチレンアルキルエーテル及ヒポリオキシエチレン
アルキルフェノールエーテル系、ソルビタン脂肪酸エス
テル系、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル
糸、ポリオキシエチレンア、シルエステル系、オキシエ
チレンオキシプロピレンブロックボリマー、脂肪酸モノ
グリセライド、等が挙げられる。これらは1種又は2種
以上の混合系でも良い。これら非イオン界面活性剤の使
用量は水1000部に対して0.1〜50部が好ましく
、特に0.5〜10部が好ましい。又現像温度は15〜
80℃が好ましい。
本発明で用いられる可染性感光性樹脂組成物としては例
えば次のようなものが挙げられる。
えば次のようなものが挙げられる。
即ち、可染性モノマー(A)、親水性モノマー(刑、疎
水性モノマー(C)より成る共重合体(D又はこれに感
光剤、例えば4.4′−ジアジドカルコン、2゜6−ビ
ス(4−アジドペンザルノシクロヘキサノン、2.6−
ビス(4−アジドベンザルノシクロヘキサノン、2.6
−ビス(4−アジドベンザル)4−メチルシクロヘキサ
ノン、1.3−ビス(4−アジドベンザル)−2−プロ
パノン等ヲ組合せて可染性感光性樹脂組成物としたもの
、又はこの共重合体(口に感光性基例えばシンナモイル
基、アジド基、アクリル基、スチリルピリジニウム塩構
造又はスチリルキノリウム塩構造等を有する化合物を反
応させて可染性感光性樹脂組成物としたもの等がある。
水性モノマー(C)より成る共重合体(D又はこれに感
光剤、例えば4.4′−ジアジドカルコン、2゜6−ビ
ス(4−アジドペンザルノシクロヘキサノン、2.6−
ビス(4−アジドベンザルノシクロヘキサノン、2.6
−ビス(4−アジドベンザル)4−メチルシクロヘキサ
ノン、1.3−ビス(4−アジドベンザル)−2−プロ
パノン等ヲ組合せて可染性感光性樹脂組成物としたもの
、又はこの共重合体(口に感光性基例えばシンナモイル
基、アジド基、アクリル基、スチリルピリジニウム塩構
造又はスチリルキノリウム塩構造等を有する化合物を反
応させて可染性感光性樹脂組成物としたもの等がある。
可染性モノマー(A)、親水性モノマー(B、疎水性モ
ノマー(C)よりなる共重合体aそれ自体を可染性感光
性樹脂組成物として用いる場合、モノマーとしてシンナ
モイル基、アジド基、アクリル基、スチリルピリジニウ
ム塩構造又はスチリルキノリウム塩構造等を有するモノ
マーを共重合させて得た可染性感光性樹脂組成物が好ま
しい。
ノマー(C)よりなる共重合体aそれ自体を可染性感光
性樹脂組成物として用いる場合、モノマーとしてシンナ
モイル基、アジド基、アクリル基、スチリルピリジニウ
ム塩構造又はスチリルキノリウム塩構造等を有するモノ
マーを共重合させて得た可染性感光性樹脂組成物が好ま
しい。
本発明で用いられる可染性モノマー(A)としては例え
ば次のものが挙げられる。
ば次のものが挙げられる。
(N、N−ジメチルアミツノエチルアクリレート、(N
、N−ジメチルアミノ)エチルメタクリレート、(N、
N−ジエチルアミノ)エチルアクリレート、(N、N−
ジエチルアミツノエチルメタクリレート、(N、N−ジ
メチルアミノプロピルアクリルアミド、(N、N−ジメ
チルアミツノプロビルメタクリルアミド、(N、N−ジ
メチルアミツノエチルビニルエーテル、(N、N−ジメ
チルアミノ)プロピルアクリレート、(N、N−ジメチ
ルアミノンプロピルメタクリレート、4−ビニルピリジ
ン、ジアリルアミン、2−ヒドロキシ−3−メタクリロ
イルオキシプロピル、トリメチルアンモニウムクロライ
ド、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウ
ムクロライド。
、N−ジメチルアミノ)エチルメタクリレート、(N、
N−ジエチルアミノ)エチルアクリレート、(N、N−
ジエチルアミツノエチルメタクリレート、(N、N−ジ
メチルアミノプロピルアクリルアミド、(N、N−ジメ
チルアミツノプロビルメタクリルアミド、(N、N−ジ
メチルアミツノエチルビニルエーテル、(N、N−ジメ
チルアミノ)プロピルアクリレート、(N、N−ジメチ
ルアミノンプロピルメタクリレート、4−ビニルピリジ
ン、ジアリルアミン、2−ヒドロキシ−3−メタクリロ
イルオキシプロピル、トリメチルアンモニウムクロライ
ド、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウ
ムクロライド。
又本発明で用いられる親水性モノマー(Bとしては次の
ものが挙げられる。
ものが挙げられる。
ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタ
クリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、ビニ
ルピロリドン、N、N −ジメチルアクリルアミド。
クリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、ビニ
ルピロリドン、N、N −ジメチルアクリルアミド。
又本発明で用いられる疎水性モノマー(C)としてはメ
チルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアク
リレート、スチレン、p−メチルスチレン、ブチルアク
リレート、ブチルメタクリレート等が挙げられる。
チルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアク
リレート、スチレン、p−メチルスチレン、ブチルアク
リレート、ブチルメタクリレート等が挙げられる。
これら可染性モノマー(A)、親水性モノマーfBl、
疎水性モノマー(Qの配合割合は可染性モノマー(A)
10〜80重量%、親水性モノマー(T32〜60重量
%、疎水性モノマーfQ s〜50重景%であるものが
好ましい。これらのモノマーは従来技術により重合出来
る。
疎水性モノマー(Qの配合割合は可染性モノマー(A)
10〜80重量%、親水性モノマー(T32〜60重量
%、疎水性モノマーfQ s〜50重景%であるものが
好ましい。これらのモノマーは従来技術により重合出来
る。
又本発明で用いられる可染性感光性樹脂組成物はガラス
板等に塗布し易くする為に有機溶剤に希釈されて用いら
れる。有機溶剤としては例えばメチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、エチレングリコールモノエチルエーテル
アセf −ト、ジグライム、メチルイソブチルケトン、
トルエン、キシレン等が挙げられる。
板等に塗布し易くする為に有機溶剤に希釈されて用いら
れる。有機溶剤としては例えばメチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、エチレングリコールモノエチルエーテル
アセf −ト、ジグライム、メチルイソブチルケトン、
トルエン、キシレン等が挙げられる。
この可染性感光性樹脂組成物を塗布したガラス等の基材
はマスクを介して紫外線等により露光される。未露光部
は非イオン界面活性剤を含有する水溶液により現像され
る。
はマスクを介して紫外線等により露光される。未露光部
は非イオン界面活性剤を含有する水溶液により現像され
る。
このように現像された樹脂の膜厚は例えば0.2〜10
μの任意の厚さに膜を作成出来る。
μの任意の厚さに膜を作成出来る。
現像された所定のパターンを有するガラス、プラスチッ
ク等の基材はアニオン染料により染色される。
ク等の基材はアニオン染料により染色される。
アニオン性染料としてはカラーインデックス(5oci
ety of Dyers and Colourls
ts発行)にC,lAc1dとして記載されている酸性
染料、同じくC0I Directとして記載されてい
る直接染料及び同じ< C−I Reactiveとし
て記載されている反応性染料等が挙げられるが、特に酸
性染料が好ましい。
ety of Dyers and Colourls
ts発行)にC,lAc1dとして記載されている酸性
染料、同じくC0I Directとして記載されてい
る直接染料及び同じ< C−I Reactiveとし
て記載されている反応性染料等が挙げられるが、特に酸
性染料が好ましい。
(実施例)
実施例1゜
ジメチルアミノプロピルアクリルアミド 30部2
−ヒドロキシエチルメタクリレート 15部ビ
ニルピロリドン 34’メ
チルメタクリレート 30#ジ
メチルアミノアクリルアミド 91より
成る共重合体16部に4,4−ジアジドカルコン0.6
5部、エチルセロソルブ84部を混合溶解させた溶液を
可染性感光性樹脂液とした。
−ヒドロキシエチルメタクリレート 15部ビ
ニルピロリドン 34’メ
チルメタクリレート 30#ジ
メチルアミノアクリルアミド 91より
成る共重合体16部に4,4−ジアジドカルコン0.6
5部、エチルセロソルブ84部を混合溶解させた溶液を
可染性感光性樹脂液とした。
次にガラス基板にシランカップリング剤KBM503(
信越化学工業■ン10%エタノール溶液を塗布し風乾後
110℃、5分間加熱乾燥したものを塗布用基材とした
。
信越化学工業■ン10%エタノール溶液を塗布し風乾後
110℃、5分間加熱乾燥したものを塗布用基材とした
。
この塗布用基材表面にロールコータ−法により前記可染
性感光性樹脂液を塗布し、これを100℃、30分乾燥
後、所定のパターンを有するマスクを介して面照度8
mW/ cm2のUV照射を15秒間行い、エマルゲン
913(花王石鹸■製、ポリオキシエチレンノニルフェ
ノールエーテル型非イオン界面活性剤〕を水1000部
に対して2部、含有する60℃の現像液にて撹拌下、5
分間現像を行うと照射部のみ可染膜を有するガラス基板
が得られた。この可染性膜は0.7μの膜厚であった。
性感光性樹脂液を塗布し、これを100℃、30分乾燥
後、所定のパターンを有するマスクを介して面照度8
mW/ cm2のUV照射を15秒間行い、エマルゲン
913(花王石鹸■製、ポリオキシエチレンノニルフェ
ノールエーテル型非イオン界面活性剤〕を水1000部
に対して2部、含有する60℃の現像液にて撹拌下、5
分間現像を行うと照射部のみ可染膜を有するガラス基板
が得られた。この可染性膜は0.7μの膜厚であった。
このガラス基板を350℃、30分間乾燥後、レッド2
】P(日本化薬■裂、カラーフィルター用色素)を0.
2%となるように水に溶解させ、60℃、】0分間染色
を行うと濃厚赤色のパターンに染色されたガラス板が得
られた。このガラス板は未露光部への現像による脱落樹
脂の再付着も極めて少く画像は極めて鮮明であった。
】P(日本化薬■裂、カラーフィルター用色素)を0.
2%となるように水に溶解させ、60℃、】0分間染色
を行うと濃厚赤色のパターンに染色されたガラス板が得
られた。このガラス板は未露光部への現像による脱落樹
脂の再付着も極めて少く画像は極めて鮮明であった。
参考例1゜
実施例】に於いてエマルゲン913を含まない60℃の
現像液を用いて同様の操作を行った所、未露光部ガラス
板への脱落樹脂の再付着は実施例1に比して多く、実施
例1と同様の鮮明な画像を得るに要する現像時間は13
分を要した。この場合でも未露光部ガラス板への脱落樹
脂の再付着の防止は不充分であった。
現像液を用いて同様の操作を行った所、未露光部ガラス
板への脱落樹脂の再付着は実施例1に比して多く、実施
例1と同様の鮮明な画像を得るに要する現像時間は13
分を要した。この場合でも未露光部ガラス板への脱落樹
脂の再付着の防止は不充分であった。
実施例2゜
実施例】に於いてエマルゲン9J3の代りにエマルゲン
930(花王石鹸■製、ポリオキシエチレンノニルフェ
ノールエーテル型非イオン界面活性剤)を水1000部
に対して1.8部含有する現像液を用いて実施例1と同
様の操作を行った所、実施例】と同様の結果が得られた
。
930(花王石鹸■製、ポリオキシエチレンノニルフェ
ノールエーテル型非イオン界面活性剤)を水1000部
に対して1.8部含有する現像液を用いて実施例1と同
様の操作を行った所、実施例】と同様の結果が得られた
。
実施例3゜
ジメチルアミノプロピルアクリルアミド 32部2
−ヒドロキシエチルメタクリレート 」21ビ
ニルピロリドン 161ジ
メチル了ミノアクリルアミド 131ブチ
ル了クリレート 1】#メチ
ルメタクリレート J4Iより
成る共重合体17部に2.6−ビス(4−アジドヘンザ
ル)4−メチルシクロヘキサノン0.78部、エチルセ
ロノル183部を混合溶解させた溶液な可染性感光性樹
脂液とした。
−ヒドロキシエチルメタクリレート 」21ビ
ニルピロリドン 161ジ
メチル了ミノアクリルアミド 131ブチ
ル了クリレート 1】#メチ
ルメタクリレート J4Iより
成る共重合体17部に2.6−ビス(4−アジドヘンザ
ル)4−メチルシクロヘキサノン0.78部、エチルセ
ロノル183部を混合溶解させた溶液な可染性感光性樹
脂液とした。
この可染性感光性樹脂液を実施例1と同様の操作により
ガラス板に塗布、乾燥、パターンを有するマスクを介し
てのUV照射を行った。
ガラス板に塗布、乾燥、パターンを有するマスクを介し
てのUV照射を行った。
次にエマルゲン430(花王石鹸■製、ポリオキシエチ
レンオレイルエーテル)を水1000部に対して2.5
部含有する58℃の現像液にて8分間現像を行うと照射
部のみ可染膜を有するガラス基板が得られた。この可染
性膜の膜厚は0.8μであった。このガラス基板を15
0℃、30分間乾燥後、グリーンIF(日本化薬■製、
カラーフィルター用色素)を0.1%となるように水に
溶解させ、62℃、12分間染色を行うと濃厚緑色のパ
ターンに染色されたガラス板が得られた。このガラス板
は未露光部への現像による脱落樹脂の再付着もなく、画
像は極めて鮮明であった。
レンオレイルエーテル)を水1000部に対して2.5
部含有する58℃の現像液にて8分間現像を行うと照射
部のみ可染膜を有するガラス基板が得られた。この可染
性膜の膜厚は0.8μであった。このガラス基板を15
0℃、30分間乾燥後、グリーンIF(日本化薬■製、
カラーフィルター用色素)を0.1%となるように水に
溶解させ、62℃、12分間染色を行うと濃厚緑色のパ
ターンに染色されたガラス板が得られた。このガラス板
は未露光部への現像による脱落樹脂の再付着もなく、画
像は極めて鮮明であった。
参考例2゜
実施例3に於いてエマルゲン430を含まない58℃の
現像液を用いて同様の操作を行った所、未露光部ガラス
板への脱落樹脂の再付着は実施例3に比して多く、又実
施例3と同様の鮮明な画像を得るに要する現像時間は1
5分を豊した。この場合でも未露光部ガラス板への脱落
樹脂の再付着の防止は不充分であった。
現像液を用いて同様の操作を行った所、未露光部ガラス
板への脱落樹脂の再付着は実施例3に比して多く、又実
施例3と同様の鮮明な画像を得るに要する現像時間は1
5分を豊した。この場合でも未露光部ガラス板への脱落
樹脂の再付着の防止は不充分であった。
実施例4゜
実施例3に於いてエマルゲン430の代りにエマルゲン
9】3を水1000部に対して2.3部含有する現像液
を用いて実施例3と同様の操作を行った所、実施例3と
同様の結果が得られた。
9】3を水1000部に対して2.3部含有する現像液
を用いて実施例3と同様の操作を行った所、実施例3と
同様の結果が得られた。
(発明の効果)
本発明は可染性感光性樹脂膜の現像に非イオン界面活性
剤含有水溶液を使用するので現像時間が短縮出来るから
工程の合理化に役立つ。更に又未露光部への脱落樹脂の
再付着が防止出来るからより高品質のものが得られると
共に収率の向上に役立つ。従って本性は色分解用フィル
ターの品質向上が計れる上に工程の合理化によるコスト
ダウンに役立つ。
剤含有水溶液を使用するので現像時間が短縮出来るから
工程の合理化に役立つ。更に又未露光部への脱落樹脂の
再付着が防止出来るからより高品質のものが得られると
共に収率の向上に役立つ。従って本性は色分解用フィル
ターの品質向上が計れる上に工程の合理化によるコスト
ダウンに役立つ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 a)可染性モノマー(A) b)可染性モノマー(A)以外の親水性モノマー(B)
c)疎水性モノマー(C) より成る共重合体(D)を構成成分とする可染性感光性
樹脂組成物を用いて基材表面に皮膜を設けマスクを用い
て露光し、現像液にて現像する際に、現像液として非イ
オン界面活性剤を含有する水溶液を用いることを特徴と
する可染性樹脂膜のパターン形成法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24532086A JPH0644151B2 (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | 可染性樹脂膜のパタ−ン形成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24532086A JPH0644151B2 (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | 可染性樹脂膜のパタ−ン形成法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63100443A true JPS63100443A (ja) | 1988-05-02 |
| JPH0644151B2 JPH0644151B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=17131905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24532086A Expired - Lifetime JPH0644151B2 (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | 可染性樹脂膜のパタ−ン形成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0644151B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5332607B2 (ja) * | 2006-02-22 | 2013-11-06 | コニカミノルタ株式会社 | 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、ハードコートフィルム、偏光板及び表示装置 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5026601A (ja) * | 1973-07-09 | 1975-03-19 | ||
| JPS5611906A (en) * | 1979-07-11 | 1981-02-05 | Agency Of Ind Science & Technol | Photo-insolubilizable polyvinyl alcohol derivative and its preparation |
| JPS6079349A (ja) * | 1983-10-06 | 1985-05-07 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 水溶性感光性組成物及び有機カラ−フイルタ− |
| JPS60129743A (ja) * | 1983-12-16 | 1985-07-11 | Agency Of Ind Science & Technol | ポリビニルアルコ−ル系共重合体 |
| JPS60129742A (ja) * | 1983-12-16 | 1985-07-11 | Agency Of Ind Science & Technol | 着色画像 |
-
1986
- 1986-10-17 JP JP24532086A patent/JPH0644151B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5026601A (ja) * | 1973-07-09 | 1975-03-19 | ||
| JPS5611906A (en) * | 1979-07-11 | 1981-02-05 | Agency Of Ind Science & Technol | Photo-insolubilizable polyvinyl alcohol derivative and its preparation |
| JPS6079349A (ja) * | 1983-10-06 | 1985-05-07 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 水溶性感光性組成物及び有機カラ−フイルタ− |
| JPS60129743A (ja) * | 1983-12-16 | 1985-07-11 | Agency Of Ind Science & Technol | ポリビニルアルコ−ル系共重合体 |
| JPS60129742A (ja) * | 1983-12-16 | 1985-07-11 | Agency Of Ind Science & Technol | 着色画像 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5332607B2 (ja) * | 2006-02-22 | 2013-11-06 | コニカミノルタ株式会社 | 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、ハードコートフィルム、偏光板及び表示装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0644151B2 (ja) | 1994-06-08 |
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