JPS63104323A - 光ｃｖｄ装置 - Google Patents
光ｃｖｄ装置Info
- Publication number
- JPS63104323A JPS63104323A JP25109786A JP25109786A JPS63104323A JP S63104323 A JPS63104323 A JP S63104323A JP 25109786 A JP25109786 A JP 25109786A JP 25109786 A JP25109786 A JP 25109786A JP S63104323 A JPS63104323 A JP S63104323A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oil
- window
- reaction chamber
- film
- horizontal plane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は光ＣＶＤ装置に関し、特にその反応条件の改
良に関するものである。
良に関するものである。
第２図は例えば昭和５８年春季第３０回応用物理学関係
連合講演会予稿集３４５ページに記載された光ＣＶＤ装
置の概略図であり、１は低圧水銀ランプ、２は合成石英
ガラス窓、３は反応室、４は基板、５はゲートバルブ、
６は膜付着防止用オイル、７は真空排気系、１）はガス
導入口である。
連合講演会予稿集３４５ページに記載された光ＣＶＤ装
置の概略図であり、１は低圧水銀ランプ、２は合成石英
ガラス窓、３は反応室、４は基板、５はゲートバルブ、
６は膜付着防止用オイル、７は真空排気系、１）はガス
導入口である。
従来の光ＣＶＤ装置では、反応室３の上方に設けられた
合成石英ガラス窓２を通して、低圧水銀ランプ１の紫外
線が上記反応室３へ導入され、ここで反応ガスを分解し
、基板４の上に膜を形成する。この時、上記合成石英ガ
ラス窓２に膜が形成されるのを防止するため、該ガラス
窓２の反応室側の面に膜付着防止用オイル６を塗ってい
る。
合成石英ガラス窓２を通して、低圧水銀ランプ１の紫外
線が上記反応室３へ導入され、ここで反応ガスを分解し
、基板４の上に膜を形成する。この時、上記合成石英ガ
ラス窓２に膜が形成されるのを防止するため、該ガラス
窓２の反応室側の面に膜付着防止用オイル６を塗ってい
る。
従来の光ＣＶＤＭ置は以上のように構成されているため
、反応ガスの分解生成物が窓２のオイル６にも付着し、
これを反応中に除去することができない。その結果、入
射光量が減少し基板４への成膜条件の再現性が難しくな
る。よって、ｊ４（板４上に再現性の良い膜を形成する
ためには、ゲートバルブ５により基板側反応室を窓側反
応室と分離してから、窓の交換やオイルの塗り換えをす
ることになるが、そのとき窓側反応室に大気中の不純物
が取り込まれ、これが成膜中に基板側反応室に入り込ん
で基板に吸着するという問題点があった。
、反応ガスの分解生成物が窓２のオイル６にも付着し、
これを反応中に除去することができない。その結果、入
射光量が減少し基板４への成膜条件の再現性が難しくな
る。よって、ｊ４（板４上に再現性の良い膜を形成する
ためには、ゲートバルブ５により基板側反応室を窓側反
応室と分離してから、窓の交換やオイルの塗り換えをす
ることになるが、そのとき窓側反応室に大気中の不純物
が取り込まれ、これが成膜中に基板側反応室に入り込ん
で基板に吸着するという問題点があった。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、オイルに付着する生成物を大気を遮断した
状態で除去し、基板上に再現性よく厚膜を形成できる光
ＣＶＤ装置を得ることを目的とする。
れたもので、オイルに付着する生成物を大気を遮断した
状態で除去し、基板上に再現性よく厚膜を形成できる光
ＣＶＤ装置を得ることを目的とする。
この発明に係る光ＣＶＤ装置は、光導入窓を反応室下面
にて水平面に対し傾けて設け、この窓の表面上にオイル
を流すようにしたものである。
にて水平面に対し傾けて設け、この窓の表面上にオイル
を流すようにしたものである。
この発明においては、光導入窓を水平面に対し傾けて反
応室下面に設け、窓の表面にオイルを流すようにしたこ
とから、オイルに付着した生成物を簡単に取り除くこと
ができ、反応室内への入射光量を常に一定に保つことが
できる。
応室下面に設け、窓の表面にオイルを流すようにしたこ
とから、オイルに付着した生成物を簡単に取り除くこと
ができ、反応室内への入射光量を常に一定に保つことが
できる。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第１図はこの発明の一実施例による光ＣＶＤ装置を示し
、図において、１は低圧水銀ランプ、２は合成石英ガラ
ス窓、３は反応室、４は基板、６は膜付着防止用オイル
、７は真空排気系、８はオイルタンク、９はバルブ、１
０はオイル溜め、１）はガス導入口である。
、図において、１は低圧水銀ランプ、２は合成石英ガラ
ス窓、３は反応室、４は基板、６は膜付着防止用オイル
、７は真空排気系、８はオイルタンク、９はバルブ、１
０はオイル溜め、１）はガス導入口である。
反応室３下面には合成石英ガラス窓２が水平面に対し傾
いて保持されており、膜付着防止用オイル６は図中左か
ら右へ流れるようになっている。
いて保持されており、膜付着防止用オイル６は図中左か
ら右へ流れるようになっている。
またこのオイルはオイルタンク８に溜められており一定
時間毎にバルブ９を開き、合成石英ガラス窓２の上を流
すことができる。流れたオイルはオイル溜め１０に溜る
ようになっている。
時間毎にバルブ９を開き、合成石英ガラス窓２の上を流
すことができる。流れたオイルはオイル溜め１０に溜る
ようになっている。
このような本実施例では、合成石英ガラス窓のオイルに
膜生成が起っても、バルブを開きオイルタンク中のオイ
ルを流すことにより、膜生成したオイルを流し去ること
ができるため、大気を遮断した状態で、石英ガラス窓表
面のクリーニングが可能で、基板上に厚膜を再現性良く
形成することができる。
膜生成が起っても、バルブを開きオイルタンク中のオイ
ルを流すことにより、膜生成したオイルを流し去ること
ができるため、大気を遮断した状態で、石英ガラス窓表
面のクリーニングが可能で、基板上に厚膜を再現性良く
形成することができる。
なお、上記実施例ではバルブ９を断続的に開くことによ
り、オイルを流したが、オイルタンク８から少しずつ連
続的に流すようにしてもよい。
り、オイルを流したが、オイルタンク８から少しずつ連
続的に流すようにしてもよい。
以上のようにこの発明にかかる光ＣＶＤ装置によれば、
光導入窓を反応室の下面にて水平面に対しく頃けて設け
、その上にオイルを流すようにしたので、これにより反
応中に窓のクリーニングができるようになり、成膜条件
を常に一定に保つことができる効果がある。
光導入窓を反応室の下面にて水平面に対しく頃けて設け
、その上にオイルを流すようにしたので、これにより反
応中に窓のクリーニングができるようになり、成膜条件
を常に一定に保つことができる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例による光ＣＶＤ装置の概略
を示す図、第２図は従来の光ＣＶＤ装置の概略を示す図
である。 図において、１は低圧水銀ランプ、２は合成石英ガラス
窓、３は反応室、４は基板、５はゲートバルブ、６は膜
付着防止用オイル、７は真空排気系、８はオイルタンク
、９はバルブ、１０はオイル溜め、１）はガス導入口で
ある。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 第１図 １：１ｅｙｆ屓ｙランク。 手続補正書（自発） 昭和６２年３月２０日
を示す図、第２図は従来の光ＣＶＤ装置の概略を示す図
である。 図において、１は低圧水銀ランプ、２は合成石英ガラス
窓、３は反応室、４は基板、５はゲートバルブ、６は膜
付着防止用オイル、７は真空排気系、８はオイルタンク
、９はバルブ、１０はオイル溜め、１）はガス導入口で
ある。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 第１図 １：１ｅｙｆ屓ｙランク。 手続補正書（自発） 昭和６２年３月２０日
Claims (1)
- （１）反応室外部より窓を通して光を導入し、該反応室
内のガス分解を行ない、該分解生成物を試料上に堆積し
て膜を形成する光ＣＶＤ装置において、 上記窓は上記反応室下面にて水平面に対し傾いて設けら
れ、該窓の表面上にオイルを流すようにしたことを特徴
とする光ＣＶＤ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25109786A JPS63104323A (ja) | 1986-10-21 | 1986-10-21 | 光ｃｖｄ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25109786A JPS63104323A (ja) | 1986-10-21 | 1986-10-21 | 光ｃｖｄ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63104323A true JPS63104323A (ja) | 1988-05-09 |
Family
ID=17217600
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25109786A Pending JPS63104323A (ja) | 1986-10-21 | 1986-10-21 | 光ｃｖｄ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63104323A (ja) |
-
1986
- 1986-10-21 JP JP25109786A patent/JPS63104323A/ja active Pending
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