JPS63116148A - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

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JPS63116148A
JPS63116148A JP26257086A JP26257086A JPS63116148A JP S63116148 A JPS63116148 A JP S63116148A JP 26257086 A JP26257086 A JP 26257086A JP 26257086 A JP26257086 A JP 26257086A JP S63116148 A JPS63116148 A JP S63116148A
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JP
Japan
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naphthoquinone
group
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diazide
groups
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JP26257086A
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Inventor
Yasuo Okamoto
安男 岡本
Akira Nagashima
彰 永島
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides

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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は平版印刷版、IC回路やフォトマスクの製造に
適する感光性組成物に関するものである。
更に詳しくは高分子の0−ナフトキノンジアジド化合物
を含有する感光性組成物に関するものである。
〔従来の技術〕
0−ナフトキノンジアジド化合物とノボラック型フェノ
ール樹脂からなる感光性組成物は、非常に優れた感光性
組成物として平版印刷版の製造やフォトレジストとして
工業的に用いられてきた。
〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし主体として用いられるノボラック型フェノール樹
脂の性質上基板に対する密着性が悪いこと、皮膜がもろ
いこと、塗布性が劣ること、耐摩耗性が劣り、平版印刷
版に用いたときの耐刷力が十分でないこと等の改良すべ
き点があり応用面での限界があった。
かかる問題を解決するため種々の高分子化合物が、バイ
ンダーとして検討されてきた。たとえば特公昭52−4
1050号公報に記載されているポリヒドロキシスチレ
ンまたはヒドロキシスチレン共重合体は確かに皮膜性が
改良されたが、耐摩耗性が劣るという欠点を有していた
従って本発明の目的は耐刷力の大きい平版印刷版を与え
る感光性組成物を提供することである。
本発明の他の目的は基板に対する密着性が良く、柔軟な
皮膜を与え、塗布性の優れた感光性組成物を提供するこ
とである。
本発明者らは種々研究を重ねた結果、上記目的を達成す
るために有用な高分子ナフトキノンジアジド化合物を含
有する感光性組成物を見出した。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、 一〇−A−O−CH2ゴーCH2−で示される構造x 単位と、 −Y 1Y−)1z−(lIHCL− 〇x で示される構造単位とからなる分子量500〜500.
000の高分子化合物(ただし、A及びBはそれぞれ同
−又は異なるアルキレン基、置換アルキレン基、アルケ
ニレン基、置換アルケニレン基、アリーレン基、置換ア
リーレン基又は基、アルケニレン基、置換アルケニレン
基、アリーレン基、置換アリーレン基を表わす)で示さ
れる基であり;Xは水素原子、ナフトキノン−1゜2−
ジアジド−5−スルホニル基、ナフトキノン−1,2−
ジアジド−4−スルホニル基又はは未置換の炭化水素基
、置換又は未置換の不飽和炭化水素基、置換又は未置換
の芳香族基を表わし、lは1以上の整数である)、で示
される基であり、全てのXのうち1当量以上がナフトキ
ノン−1゜2−ジアジド−5−スルホニル基又はナフト
キノン−1,2−ジアジド−4−スルホニル基であり;
Yは酸素又はイオウ原子である)を含有することを特徴
とする感光性組成物に関する。
本発明の感光性組成物に含まれる高分子化合物は、より
好ましくは で示される構造単位(aモル)、 ! (ただしR′は上記で定義したと同じ)で示される構造
単位(bモル)、及び (ただしXは、ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホニル基又はナフトキノン−1,2−ジアジド−4
−スルホニル基である)で示される構造単位(Cモル)
とからなり、 □≧0.O1である分子量500〜 a+b+C 500,000の高分子化合物(ただし、a及びbはそ
れぞれ0以上の整数であり、Cは1以上の整数である)
である。
本発明の感光性組成物に含まれる高分子化合物中のA及
びBは、好ましくは以下に示す基である。
上記基のうち特に番号1.2.3 (n=1〜4)、4
.5.6.10.11.13(n=1〜3)、14及び
15の基がより好ましい。また番号13〜18の基は、
Yが酸素原子のときに特に好ましく用いられる。
は、以下に示される基が例示できる。
上記基のうち、番号1(n=1〜3)、3及び4が特に
好ましい。
また本発明の感光性組成物に含まれる高分子化合物中の
Xは、1分子中のX100個当り1個以上、好ましくは
1〜100個がナフトキノン−1゜2−ジアジド−5−
スルホニル基又はナフトキノン−1,2−ジアジド−4
−スルホニル基である。
さらに本発明の感光性組成物に含まれる高分子化合物の
分子量は、500〜500,000、好ましくは1.0
00〜100.′OOOである。分子量が500未満の
ものは耐刷性向上効果が少なく、500000を超える
ものは、溶剤溶解性が悪い、等の問題があり、不適当で
ある。
本発明の感光性組成物に含まれる高分子化合物は、分子
内に2つの活性水素を有する化合物と2価のグリシジル
化合物とを塩基の存在下に反応させて得られた高分子化
合物を塩基存在下に1,2−ナフトキノン−2−ジアジ
ド−4−スルホニルクロライド又は1.2−ナフトキノ
ン−2−ジアジド−5−スルホニルクロライド及び酸無
水物と反応させることにより得られる。
ポリマー合成の際の活性水素を有する化合物としては、
ビスフェノールA1ビスフエノールB14.4′−スル
ホニルジフェノール、ビスフェノールF、テトラクロロ
ビスフェノールA1テトラブロモビスフエノールA1カ
テコール、レゾルシン等の2価のフェノール類、■、2
−ベンゼンジチオール、1.3−ベンゼンジチオール、
エタンジチオール等のジチオール類、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール等の2価アルコール、テレフ
タル酸、フタル酸、マレイン酸、フマル酸、マロツ酸、
コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、シクロヘキサンジ
カルボン酸、グルタル酸等の二塩基酸等を挙げることが
できる。2価のグリシジル化合物としては、上記活性水
素を有する化合物のグリシジル化物を挙げることができ
る。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
、水酸化カルシウム等の金属水酸化物、トリエチルアミ
ン、トリーn−ブチルアミン、ピリジン等のアミンなど
が使用できる。
より具体的には、活性水素を有する化合物と2価のグリ
シジル化合物との反応は無溶媒又は、1゜4−ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、メチルイソブ
チルケトン、メチルエチルケトン等のケトン類等の溶媒
中で、室温から200℃の範囲の温度で攪拌下行なうこ
とができる。次いで得られたポリマーと、4−ジメチル
アミノピリジン、ピリジン等の塩基存在下にナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−5−スルホニルクロライド又は
ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホニルクロ
ライドとを塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系
溶媒中で室温で反応させることによりジアジド基を導入
する。更に必要により得られたポリマーをテトラヒドロ
フラン、ジオキサン、DMF等の溶媒中、ジメチルアミ
ノピリジン、ピリジン等の塩基存在下に、無水マレイン
酸、無水コハク酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリ
ット酸、ナフタレンテトラカルボン酸無水物等の酸無水
物と反応させることもできる。
次に、本発明における高分子化合物の代表的な合成例を
示すが、本発明はこれらの例によってなんら限定される
ものではない。
合成例1 を繰返し単位とする市販樹脂、エピコー)−1009(
油化シェル社製、M、=3800)56.80g(0,
20当量)及びナフトキノン−1゜2−ジアジド−5−
スルホニルクロライド53.76g(0,20モル)を
塩化メチレン20〇−に溶解し、これに塩化メチレン1
50rdに溶解した4−ジメチルアミノピリジン24.
44 g(0,20モル)を室温で30分間で滴下した
。次いで引き続き2時間室温で攪拌した後、内容物をエ
タノール2.51中に再沈した。得られたポリマーをT
HF 600mfに溶解後、水71中に再沈したのち、
減圧乾燥することにより、ポリマー51、9 gを得た
。このポリマーのTHF溶媒中でのU■スペクトル測定
から、エピコート−1009中の水酸基の27%がジア
ジド基に変換されたことがわかった。
次に、このポリマー14.17g (0,0300当量
の水酸基を含む)、無水トリメリット酸、22.58g
(0,120モル)をテトラヒドロフラン150ml’
に溶解した溶液中に、ピリジン18.96g(0,24
0モル)を加え、50℃で10時間攪拌したのち、内容
物を水2.11、メタノールO,’N!、酢酸0.21
の混合液中に再沈した。
得られたポリマーをTHF 150mlに溶解し、水2
.11、メタノール0.71の混合液中に再沈、水洗後
減圧乾桟することによりポリマー15.5 gが得られ
た(i、=11000)。このものの酸価は、2.86
mj!q/gであった。得られたポリマーを構造単位で
示すと、以下の通りである。
U a:b:c=5:68:27 合成例2 合成例1の第1段階目で得られたポリマー14、17 
gをN、N−ジメチルホルムアミド150−に溶解し、
これに4−ジメチルアミノピリジン1.47g(0,0
102モル)、トリエチルアミン10.91g(0,1
08モル)及び無水コハク酸12.0g(0,12モル
)を加え、70℃で3時間反応させ、実施例1と同様な
後処理により、酸価2.40m12q /g  V、 
=5700のポリマーが得られ、a:b:c=3:TO
:27であった。
合成例3 ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル(SR−
NPC,版本薬品工業■社製)29.90g(0,10
0モル)、ビスフェノールA 22.84g(0,10
0モル)及びトリエチルアミン0.40g(0,004
モル)を70℃で6時間、次いで100℃で4時間加熱
することにより、1.=5800のポリマーを得た。次
にこのポリマーの一部を精製することなく合成例1の場
合と同様にして、ナフトキノン−1,2〜ジアジド−5
−スルホニルクロライド、次いで無水トリメリット酸と
反応させることにより酸価3.11mj!q/g。
”IW、 = 17000のポリマーが得られた。第1
段階目の反応で得られたポリマー中の水酸基の22%が
スルホニル基に、72%がエステル基に変換され、構造
単位で示すと、以下の通りである。
\キ/ 合成例4 ビスフェノールA−ジグリシジルエーテル(二ピコート
−828、油化シェル社製、エポキシ当量188)44
.80g (0,119モル)、マロン酸12.40g
(0,119モル)及びトリーn−ブチルアミン0.4
4g (0,00237モル)を85℃で5時間攪拌す
ることにより■。=4700のポリマーが得られた。こ
のポリマーの一部を精製することなく、合成例1と同様
にして、ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホ
ニルクロライドと反応させることにより得られたポリマ
ーは、THF中でのU■スペクトル測定より、第1段階
目の反応で得られたポリマー中の水酸基の30%がスル
ホニル基に変換され以下の構造単位を有することがわか
った。
合成例5 合成例3で用いたビスフェノールAジグリシジルエーテ
ル94.0g(0,50モル)と1.4−ブタンジチオ
ール61.Og(0,5モル)とを、トリーn−ブチル
アミン3.7g(0,02モル)の存在下100℃で1
時間反応させることにより−M″、=12000のポリ
マーが得られた。
このポリマーの一部を精製することなく合成例1の場合
と同様にして、ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホニルクロライド、次いで無水トリメリット酸と反
応させることにより酸価2.85m1q /g、1. 
=27000のポリマーが得られ、第−段階口の反応で
得られたポリマー中の水酸基の30%がスルホニル基に
、65%がエステル基に変換されて以下の構造単位を有
することがわかった。
本発明においてはO−ナフトキノンジアジド化合物とし
て本発明の高分子化合物の他に、次に示すような化合物
を含有してもよい。特公昭43−28403号公報に記
載されているナフトキノン−1,2−ジアゾスルホン酸
クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル
であるものが最も好ましい。その他の好適なオルトキノ
ンジアジド化合物としては、米国特許第3,046,1
20号および同第3,188.210号明細書中に記載
されているナフトキノン−1,2−ジアゾナフトキノン
スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド
樹脂とのエステルがある。その他の有用な0−ナフトキ
ノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され
、知られている。たとえば、特開昭47−5303号、
同町48−63802号、同町48−63803号、同
町48−96575号、同町49−38701号、同町
48−13354号、特公昭41−11222号、同昭
45−9610号、同町49−17481号公報、米国
特許第2.797.213号、同第3,454.400
号、同第3,544,323号、同第3.573.91
7号、同第3,674.495号、同第3.785.8
25号、英国特許 第1,227,602号、同第1,251.345号、
同第1,267.005号、同第1.329.888号
、同第1.330.932号、ドイツ特許第854.8
90号などの各明細書中に記載されているものをあげる
ことができる。
本発明の感光性組成物中に占める0−ナフトキノンジア
ジド化合物の量は10〜50重量%でより好ましくは2
0〜40重量%である。本発明における高分子化合物の
感光性組成物中に占める割合は90〜5重量%でより好
ましくは60〜IO重量%である。
本発明の組成物中には、本発明における高分子化合物の
他にフェノール糸ルムアルデヒドl脂、クレゾールホル
ムアルデヒド樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、ポリ
ヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレ
ン等、公知のアルカリ可溶性の高分子化合物を含有させ
ることができる。かかるアルカリ可溶性の高分子化合物
は全組成物の70重量%以下の添加量で用いられる。
本発明の組成物中には、感度を高めるために環状酸無水
物、露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤、画像着
色剤として染料やその他のフィラーなどを加えることが
できる。環状酸無水物としては米国特許第4.115,
128号明細書に記載されているように無水フタル酸、
テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸
、3.6−ニンドオキシーΔ4−テトラヒドロ無水フタ
ル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、ク
ロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無
水コハク酸、ピロメリット酸等がある。これらの環状酸
無水物を全組成物中の1から15重量%含有させること
によって感度を最大3倍程度に高めることができる。露
光後直ちに可視像を得るための焼出し剤としては露光に
よって酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る有機
染料の組合せを代表としてあげることができる。具体的
には特開昭50−36209号公報、特開昭53−81
28号公報に記載されている0−ナフトキノンジアジド
−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合
せや特開昭53−36223号公報、特開昭54−74
728号公報に記載されているトリハロメチル化合物と
塩形成性有機染料の組合せをあげることができる。画像
の着色剤として前記の塩形成性有機染料以外に他の染料
も用いることができる。塩形成性有機染料を含めて好適
な染料として油溶性染料および塩基染料をあげることが
できる。具体的には、オイルイエロー#101、オイル
イエロー#130、オイルピンク#312、オイルグリ
ーンBG、オイルブルーBO31オイルブルー#603
、オイルブラックBY1オイルブラックBS、オイルブ
ラックT−505(以上、オリエント化学工業株式会社
製)クリスタルバイオレット(CI42555)、メチ
ルバイオレット(CI42535)、ローダミンB(C
I45170B)、マラカイトグリーン(CI4200
0)、メチレンブルー (CI52015)などをあげることができる。
本発明の組成物は、上記各成分を溶解する溶媒に溶かし
て支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒としては、
エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチ
ルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエ
チルアセテート、トルエン、酢酸エチルなどがあり、こ
れらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。そして上
記成分中の濃度(固形分)は、2〜50重量%が適当で
ある。また、塗布量は用途により異なるが、例えば感光
性平版印刷版についていえば一般的に固形分として0.
5〜3.0g/m″が好ましい。塗布量が少くなるにつ
れ感光性は大になるが、感光膜の物性は低下する。
本発明の感光性組成物を用いて平版印刷版を製造する場
合、その支持体としては、親水化処理したアルミニウム
板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、陽極酸化
アルミニウム板、砂目立てしたアルミニウム板、シリケ
ート電着したアルミニウム板があり、その他亜鉛板、ス
テンレス板、クローム処理鋼板、親水化処理したプラス
チックフィルムや紙を上げることができる。
本発明の感光性組成物にたいする現像液としては、珪酸
ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第
ニリン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリ
ン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリ
ウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水溶
液が適当であり、それらの濃度が0.1〜10重量%、
好ましくは0.5〜5重量%になるように添加される。
また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。
つぎに、実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明する
。なお、下記実施例におけるパーセントは、他に指定の
ない限り、すべて重量%である。
実施例1〜5 厚さ0.30のアルミニウム板をナイロンブラシと40
0メツシユのバミストンの水懸濁液を用いその表面を砂
目立てした後、よく水で洗浄した。
10%水酸化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエ
ツチングした後、流水で水洗後20%HNO。
で中和洗浄、水洗した。これをVA=12.TVの条件
下で正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で
160クロ一ン/dm’の陽極特電気量で電解粗面化処
理を行った。その表面粗さを測定したところ、0.6μ
(Ra表示)であった。ひきつづいて30%のH,SO
,水溶液中に浸漬し55℃で2分間デスマットした後、
20%ll2SO,水溶液中、電流密度2.A/drn
2において厚さが2.7 g /m′になるように陽極
酸化した。
このようにして得られたアルミニウム支持体上に表1に
示すような成分の、実施例1.2.3.4.5および比
較例の感光液をホワイラーを用いてそれぞれ塗布し、1
00℃で2分間乾燥させた。
乾燥後の塗布量は2.1g/m’であった。これらの感
光性平版印刷版をそれぞれ2KWのメタルノ\ライドラ
ンプで1mの距離よりポジ透明原画を通して40秒間露
光した。
この印刷版をメタケイ酸ナトリウム(9水塩)の1%水
溶液を含ませたスポンジでこすり現像した。この印刷版
を用いて、ハイデルベルク社製KOR型印刷機で市販の
インキにて、上質紙に印刷し最終印刷枚数を調べた結果
を表1に示した。
(発明の効果) 本発明のナフトキノンジアジドを含む樹脂は従来の樹脂
と比べて印刷枚数が多く、耐刷性が非常に優れている。
手続補正書 61.12.10 昭和  年  月  日 4.7文理人 7、補正の内容 明細書中下記の箇所をそれぞれ下記の如く訂正する。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)▲数式、化学式、表等があります▼で示される構
    造単位と、 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される構造単位とからなる分子量500〜500,
    000の高分子化合物(ただし、A及びBはそれぞれ同
    一又は異なるアルキレン基、置換アルキレン基、アルケ
    ニレン基、置換アルケニレン基、アリーレン基、置換ア
    リーレン基又は▲数式、化学式、表等があります▼はア
    ルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換
    アルケニレン基、アリーレン基、置換アリーレン基を表
    わす)で示される基であり;Xは水素原子、ナフトキノ
    ン−1,2−ジアジド−5−スルホニル基、ナフトキノ
    ン−1,2−ジアジド−4−スルホニル基又は▲数式、
    化学式、表等があります▼(R′は2価以上の置換又は
    未置換の炭化水素基、置換又は未置換の不飽和炭化水素
    基、置換又は未置換の芳香族基を表わし、lは1以上の
    整数である)で示される基であり、1分子中のX100
    個当り1個以上がナフトキノン−1,2−ジアジド−5
    −スルホニル基又はナフトキノン−1,2−ジアジド−
    4−スルホニル基であり;Yは酸素又はイオウ原子であ
    る)を含有することを特徴とする感光性組成物。
  2. (2)高分子化合物が ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される構造単位(aモル)、 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただしR′は特許請求の範囲第(1)項で定義したも
    のと同じで示される構造単位(bモル)、及び ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただしXはナフトキノン−1,2−ジアジド−5−ス
    ルホニル基又はナフトキノン−1,2−ジアジド−4−
    スルホニル基である)で示される構造単位(cモル)と
    からなり、 C/(a+b+c)≧0.01である分子量500〜5
    00,000の高分子化合物(ただし、a及びbはそれ
    ぞれ0以上の整数であり、cは1以上の整数である)で
    あることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の
    感光性組成物。
JP26257086A 1986-11-04 1986-11-04 感光性組成物 Pending JPS63116148A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0253056A (ja) * 1988-07-04 1990-02-22 Hoechst Ag 1,2‐ナフトキノン‐2‐ジアジド スルホン酸アミド、該化合物を含有する感光性組成物および感光性記録材料
US4999274A (en) * 1987-02-02 1991-03-12 Nippon Paint Co., Ltd. Positive type photosensitive resinous composition with 1,2 quinone diazide sulfonyl unit

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JPH0253056A (ja) * 1988-07-04 1990-02-22 Hoechst Ag 1,2‐ナフトキノン‐2‐ジアジド スルホン酸アミド、該化合物を含有する感光性組成物および感光性記録材料

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