JPS6312193A - 電気回路形成方法 - Google Patents

電気回路形成方法

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Publication number
JPS6312193A
JPS6312193A JP15562286A JP15562286A JPS6312193A JP S6312193 A JPS6312193 A JP S6312193A JP 15562286 A JP15562286 A JP 15562286A JP 15562286 A JP15562286 A JP 15562286A JP S6312193 A JPS6312193 A JP S6312193A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
forming
metal foil
electric circuit
cathode material
Prior art date
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Pending
Application number
JP15562286A
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English (en)
Inventor
可伸 安部
水野 俊宏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tamura Corp
Original Assignee
Tamura Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、従来の印刷法または写真法に替りる電気回路
形成方法に関するものである。
(従来の技術) 従来、プリント基板、フレキシブルプリント基板、金属
板上に絶縁層を介し金属張りした基板等の回路形成方法
は、例えば第3図に示されるプリント基板の場合に示さ
れるように、絶縁材(例えばガラスエポキシ樹脂)11
上に張付けられた導電性金属箔(例えば銅箔)12の回
路部13となる部分に印刷法または写真法等の方法によ
りレジスト14を形成しく第3図a、b)、エツチング
することにより前記レジスト14により覆われていない
溶解部15を溶解除去しく第3図C)、最後に前記レジ
スト14を剥離して絶縁材11上に回路部13を形成す
る(第3図d)ことが一般的であった。
(発明が解決しようとする問題点) この従来の印刷法または写真法は、煩雑なレジスト膜形
成プロセスを必要とし、またエツチング液の廃液処理に
多大の費用を要し、さらに前記回路部13にはエツチン
グの段階でアンダーカット16が生ずるので、高精度の
回路部が得られない欠点があった。最近は特に集積回路
の著しい発達に対応できる微細な回路部を得るための高
精度の回路形成方法が要望されている。
本発明はこのような点に鑑みなされたもので、高精度の
回路部を形成できる回路形成方法を提供することを目的
とするものである。
(発明の構成〕 (問題点を解決するための手段) 本発明は、第1図に示す絶縁材21上に導電性の金属箔
22を張付けてなる基板に回路を形成する方法において
、前記絶縁材21上の金属箔22のみに回路パターンに
応じた切込23を設けることにより、この金属箔22を
回路部24と溶解部25とに切り離して電気的に絶縁さ
せた後、前記溶解部25を陽極として陰極材33ととも
に鍍金液32中に浸漬し、この溶解部25と陰極材33
との間に直流電圧を印加することにより溶解部25のみ
を電気化学的に溶解する電気回路形成方法である。
(作用) 本発明は、前記金属箔22に形成された切込23によっ
て回路部24を溶解部25から電気的に絶縁し、前記溶
解部25のみに陽極電位を印加することにより、この溶
解部25のみが鍍金液中に溶解され、回路部24が残留
形成される。
(実施例) 以下、本発明を第1図および第2図に示される実施例を
参照して詳細に説明する。
第1図Aに示されるように、絶縁材(例えばガラスエポ
キシ樹脂)21の全面に導電性の金属箔(例えば銅箔)
22を張付けてなる各種基板にあって、前記金属箔22
のみにカッター、レーザー、高圧水またはプレス等によ
って、第1図Bに示される切込23を回路パターンに応
じて設ける。これにより、前記金属箔22を回路部24
と溶解部25とに切り離し、この回路部24と溶解部2
5とを電気的に絶縁状態とする。
次に、第2図に示されるように鍍金槽31内の硫酸銅鍍
金浴等の鍍金液32中に前記基板を浸漬し、この基板の
溶解部25を陽極とするとともに、前記鍍金液32中に
銅板または他の基板の回路部(tj4箔)を陰極材33
として浸漬し、両極間に直流電源34に接続して直流電
圧を印加することにより、レジストを形成せずとも前記
溶解部25のみが鍍金液32中に溶解し、回路部24は
硫酸銅鍍金浴中に単に浸漬しているのみであるから、全
(侵されずに残留し、その結果第1図Cに示されるよう
に目的とする回路部24が得られる。
なお、このような処理を行っても溶解部25の一部が絶
縁材21上に島状に残留している場合は、以上の処理に
加えて軽くエツチング処理を行えば、その溶解部を完全
になくすことができる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、絶縁材上の金IiA箔のみに回路パタ
ーンに応じた切込を設けることにより、この金属箔を回
路部と溶解部とに切り離して電気的に絶縁させた後、前
記溶解部を陽極として鍍金液中で直流電圧を印加するこ
とによりこの溶解部のみを電気化学的に溶解する回路形
成方法であり、従来のようにレジストを形成する必要が
ないとともに、回路部が溶解部から切り離されているか
ら、この回路部にはエツチングにおけるアンダーカット
が全く生じない。このため高精度の回路断面が得られる
。また従来の印刷法または写真法のような煩雑なレジス
ト膜形成プロセス(例えばレジスト塗布、露光処理等)
を必要としない。ざらに鍍金液中に溶解した金属イオン
を陰極材(金属板または他の基板の回路部等)に析出さ
せることにより再利用でき、省資源の面で優れた効果を
有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の電気回路形成方法の工程を示す基板の
断面図、第2図はその方法における鍍金例を示す断面図
、第3図は従来の電気回路形成方法の工程を示す基板の
断面図である。 21・・絶縁材、22・・金属箔、23・・切込、24
・・回路部、25・・溶解部、32・・鍍金液、33・
・陰極材。 遵人Δ 違ス貝

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)絶縁材上に導電性の金属箔を張付けてなる基板に
    回路を形成する方法において、前記絶縁材上の金属箔の
    みに回路パターンに応じた切込を設けることにより、こ
    の金属箔を回路部と溶解部とに切り離して電気的に絶縁
    させた後、前記溶解部を陽極として陰極材とともに鍍金
    液中に浸漬し、この溶解部と陰極材との間に直流電圧を
    印加することにより溶解部のみを電気化学的に溶解する
    ことを特徴とする電気回路形成方法。
  2. (2)陰極材は、金属板または他の基板の回路部を用い
    たことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の電気回
    路形成方法。
JP15562286A 1986-07-02 1986-07-02 電気回路形成方法 Pending JPS6312193A (ja)

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