JPS63157308A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明はＶＴＲ（ビデオテープレコーダ）等の磁気記録
再生装置に用いられる磁気ヘッドの製造方法に関するも
のであり、特にトラック幅規制溝を形成した時に生じる
トラック欠けを抑えるのに有効な磁気ヘッドの製造方法
に関する。

（ロ）　従来の技術 近年、ＶＴＲ等の磁気記録再生装置においては、記録信
号の高密度化により記録トラックのトラック幅の狭小化
が進められており、これに対応して磁気ヘッドのトラッ
ク幅も極めて狭いものが要求されている。このため、磁
気ヘッドの製造方法においてトラック幅を規制する溝を
加工する時の加工精度、特に前記溝のエツジに生じるト
ラック欠けを抑えることが重要な問題点であった。

従来、この種の磁気ヘッドの製造方法としては例えば特
公昭５６−４５２０７号公報（ＩＰＯ：Ｇ１１　Ｂ　Ｓ
／２５　）がある。

第５図は従来の磁気ヘッドの製造方法を示す図である。

先ず、第５図Ａに示す一対のウェハ（１ａ）（１ｂ）の
ギャップ形成面（２ａ）（２ｂ）を鏡面研磨し、そのギ
ャップ形成面（２ａ）（２ｂ）上に第５図Ｂに示すよう
にα２〜α５μｍの８１０２のギャップスペーサ（３ａ
）（３ｂ）を成膜する。

その後、第５図０に示すように一方のウェハ（１ａ）に
トラック幅規制溝〔４ａ）を一定間隔にダイシング・ソ
ー等により設け、他方のウェハＣ１ｂ）にトラック幅規
制＠（４ｂ）、巻線用溝（５）、及びガラス棒挿入＃　
（６１を設ける。次に、前記トラック幅規制溝（４ａ）
（４ｂ）が対向するように前記両ウェハ（１ａ）（１ｂ
）を衝き合わせ、前記ガラス棒挿入溝（６）にガラス棒
（図示せず）を挿入して、ガラス溶着により第５図りに
示す溶着ウェハ（７１を形成する。そして、前記溶着ウ
エノ１（７１を一点鎖線ａ−ａ’に沿ってブロック状に
切断し、テープ摺動面（８）を研磨することによりギャ
ップのデプス長を規制して第５図Ｅに示すコアブロック
（９）を形成する。そして最後に、前記コアブロック（
９１を二点鎖線ｂ−ｂに沿ってスライスして第５図Ｆに
示す磁気ヘッドチップＣ１Ｏを形成する。

しかし乍ら、上記従来例の場合、ギャップスペーサ（３
ａ）（３ｂ）の膜厚がα２〜α３μｍ程度のため、トラ
ック幅規制溝を加工し友時に、第６図に示すようにトラ
ック幅規制溝Ｗ（４ａ　）（４ｂ）のエツジ曵大きさＫ
が１〜３μｍのトラック欠けαＤが多数生じ、歩留りが
悪かった。

このため、トラック欠けを減少させるには、トラック幅
規制溝の加工速度をα６謁／ｓｅｃ程度まで下げなくて
はならず、生産性が劣化して加工コストが上昇するとい
う問題点かあっ九。

また、前記ギャップスペーサ（３ａ）（５ｂ）の膜厚ｔ
−３μｍ以上に成膜し、トラック幅規制溝を形成した場
合、トラック欠けは減少するが、成膜に多大な時間を要
し、また、加工時にブレードが摩耗及び変形し易いとい
つ欠虞があった。

ヒう　発明が解決しようとする問題点 本発明は上記従来例の欠点に１みなされ之ものであり、
生産性を劣化させることなく、トラツタ た磁気ヘッドの製造方法ｔ−提供することを目的とする
ものである。

に）問題点を解決するための手段 ウェハのギャップ形成面に加工変質層を形成した後、ト
ラック幅規制溝を加工形成し、その加工形成により前記
加工変質層に生じたトラック欠けを鏡面研磨により除去
する。

（ホ）作　用 上記方法に依れば、トラック幅規制＃Ｉ２７１１工によ
シ加工変質層に生じるトラック欠けＦｉ極めて小さく、
該トラック欠けは鏡面研磨により加工変質層と同時に除
去される。

（へ）実施例 以下、図面を参照しつつ本発明の磁気ヘッドの製造方法
を詳細に説明する。

第１図は本実施例の磁気ヘッドの製造方法を示す図であ
る。

先ず、第１図Ａに示す単結晶フェライトより成る一対の
ウェハ（１２ａ）（１２ｂ）を切り出し、該ウェハ（１
２ａ）（１２ｂ）のギャップ形成面（１３ａ）（１３ｂ
）をＪＩＳ規格Ｇ、０−２０００番の砥粒で研磨を行い
、第１図Ｂに示す非晶質の加工変質層（１４ａ）（１４
ｂ）を５μｍ厚形酸形成。次に、前記ウェハ（１２ａ）
（１２ｂ）の加工変質層（１４ａ）（１４ｂ）上にダイ
シング・ソーにより第１図Ｃに示す深さ１５０μｍのＶ
字状のトラック幅規制溝（１５ａ）（１５ｂ）を形成し
て所望のトラック幅Ｔを得る。種々の実験に依ればこの
時、前記トラック幅規制溝（１５ａ）（１５ｂ）のエツ
ジには、加工変質Ｎ（１４ａ）（１４ｂ）上にのみ大き
さｋのトラック欠け（１６１が生じることが確認され九
。次に、前記ウェハ（１２ａ）（１２ｂ）のギャップ形
成面（１３ａ）（１３ｂ）ｔ−平均粒径が１〜２μｍの
多結晶ダイヤ砥粒によυ１５〜２０μｍ研磨して、前記
加工変質層（１４ａ）（１４ｂ）とトラック欠け１９を
同時に除去して第１図りに示すウニ、、（１７ａ）（１
７ｂ）を形成する。更に、このうち一方のウェハ（１７
１））にトラック幅規制溝（１５ｂ）と直父するように
巻線溝■及びガラス溝ｃ！１１を形成し、０．２〜０．
３μｍの５ｉ０２等のギャップスペーサを成膜した後、
第１図Ｅに示すように前記一対のウェハ（１７ａ）（１
７ｂ）を前記トラック幅規制溝（１５ａ）（１５ｂ）が
対向するように衝き合わせて、ガラス溶着により溶着ウ
ェハ帥を形成する。以後は従来技術と同様に第１図Ｆの
コアブロックのに切断してＶＴＲ用フェライト磁気ヘッ
ドチップのを形成する。

第３図は加工変質層の厚みと加工変質層に生じたトラッ
ク欠けの最大値との関係を測定し念結果を示す図である
。この図に依れば加工変質層の厚みを５μｍ以上にする
と、トラック欠けの大きさｋは１μｍ以下と極く小さく
なることが判る。また、萬４図は加工変質層の厚みをパ
ラメータとする加工速度とトラック欠けの最大値との関
係を示す図で、ａ、ｂは夫々加工変質層の厚み３μｍ。

０．５μｍの条件下のデータを示す曲線である。この図
から分かるように、加工変質層が０．５μｍの場合、α
６ｙＶ／ｓｅｃ以下の加工速度でないとトラック欠けを
１μｍ以下に抑えることは出来ず、一方、加工変質層が
６μｍの場合、加工速度ｔ−４ｆｌＪ／ｓｅｃにしても
トラック欠けにはほとんど影響は生じない。

上述のような磁気ヘッドの製造方法では厚みが５μｍ程
度あるいはそれ以上の加工変質層を形成した場合、加工
変質層には極く小さなトラック欠けしか生じず、該トラ
ック欠けは鏡面研磨により該加工変質層と同時に除去さ
れる。

（ト）発明の効果 本発明に依れば、トラック幅規制溝の加工速度を遅くし
たり、ギャップスペーサの膜厚を厚くすること無しにト
ラック幅規制溝加工時に生じるトラック欠けを除去する
ので、生産性を劣化させることかく、磁気ヘッドチップ
のギャップ形成面が傷付くのを防止した磁気ヘッドの製
造方法を提供し得る。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第４図は本発明に係り、第１図は磁気ヘッド
の製造方法を示す図、第２図は加工変質層に生じたトラ
ック欠けを示す図、第５図は加工変質層の厚みとトラッ
ク欠けの大きさとの関係を示す図、第４図はトラック欠
けの大きさとトラック加工の加工速度との関係を示す図
である。第５図及び第６図は従来例に係り、＠５図は磁
気ヘッドの製造方法を示す図、第６図はギャップスペー
サに生じたトラック欠けを示す図である。 （１２ａ）（１２ｂ）−ウェハ（１５ａ　）（１３ｂ）
””ギャップ形成面　　（１４ａ）（１４ｂ　）　・・
・加工変質層　　（１５ａ）（１５ｂ）・・・トラック
幅規制溝　　σ９・・・トラック欠けく　　　　　　　
　　　　　　　　　　の区 滅 第２図 第６図 第８図 第４図 ｆＪＯ工也／Ｌ　ｍｍ／ｓｅｅ 只　　　　　　　　　く　　　　　　　　　　　　　　
　　の一 ↑

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）ウエハのギヤツプ形成面に加工変質層を形成した
   後、トラツク幅規制溝を形成し、その後、前記加工変質
   層に生じた欠けを鏡面研磨にて除去することを特徴とす
   る磁気ヘツドの製造方法。