JPS63201036A - 基板用組成物 - Google Patents
基板用組成物Info
- Publication number
- JPS63201036A JPS63201036A JP62028121A JP2812187A JPS63201036A JP S63201036 A JPS63201036 A JP S63201036A JP 62028121 A JP62028121 A JP 62028121A JP 2812187 A JP2812187 A JP 2812187A JP S63201036 A JPS63201036 A JP S63201036A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass powder
- sio2
- glass
- substrate
- composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
- C03C3/07—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing lead
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、基板用組成物に関するものである。
[従来の技術]
ガラスセラミックのグリーンシート上に導電ペーストを
所定パターンに印刷し、これを複数枚重ねた後焼成し、
多層回路を形成する基板が知られている0層間の接続は
あらかじめグリーンシートにピアホールを形成し、導電
ペーストを印刷するか、又は導電性物質を詰め込むこと
により層間の導通をとる。かかる導電ペーストにAg、
Ag−pdペースト、導電性物質にAg。
所定パターンに印刷し、これを複数枚重ねた後焼成し、
多層回路を形成する基板が知られている0層間の接続は
あらかじめグリーンシートにピアホールを形成し、導電
ペーストを印刷するか、又は導電性物質を詰め込むこと
により層間の導通をとる。かかる導電ペーストにAg、
Ag−pdペースト、導電性物質にAg。
Ag−pdを使用した場合、焼成後基板の導体に近接部
位が黄色に変色し外観が損なわれるという問題点がある
。
位が黄色に変色し外観が損なわれるという問題点がある
。
[発明の解決しようとする問題点]
本発明は従来技術が有していた上記問題点を解決し、焼
成後基板の導体に近接する部位が変色することのない基
板用組成物の提供を目的とする。
成後基板の導体に近接する部位が変色することのない基
板用組成物の提供を目的とする。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、無機成分がS 102−A I 203−P
bO系ガラス粉末又はSiO2−A1203−B203
系ガラス粉末とセラミックス粉末とからなる組成物にお
いて、該無機成分に酸化剤を添加してなる基板用組成物
を提供するものである。
bO系ガラス粉末又はSiO2−A1203−B203
系ガラス粉末とセラミックス粉末とからなる組成物にお
いて、該無機成分に酸化剤を添加してなる基板用組成物
を提供するものである。
本発明において添加する酸化剤は、空気雰囲気中で焼成
し、基板を形成する際、基板中に拡散したAg” に対
して酸化作用を行うものであれば、特に限定されない。
し、基板を形成する際、基板中に拡散したAg” に対
して酸化作用を行うものであれば、特に限定されない。
中でも酸化作用、原料の入手しやすさからTiO2,C
eO2,BaO2,SnO2が特に望ましい。かかる酸
化剤は単独でもよく、2種類以上併用してもよい。
eO2,BaO2,SnO2が特に望ましい。かかる酸
化剤は単独でもよく、2種類以上併用してもよい。
かかる酸化剤の添加量は、ガラス粉末及びセラミックス
粉末の総量である無機成分に対し、重量で0.01〜5
%添加するのが好ましい。酸化剤の添加量が0.01%
未満では添加による効果が少なく、又5%を超えると基
板の耐電圧特性が低下するので好ましくない。酸化剤の
添加量は上記範囲の中0.05〜3%の範囲が特に望ま
しい。
粉末の総量である無機成分に対し、重量で0.01〜5
%添加するのが好ましい。酸化剤の添加量が0.01%
未満では添加による効果が少なく、又5%を超えると基
板の耐電圧特性が低下するので好ましくない。酸化剤の
添加量は上記範囲の中0.05〜3%の範囲が特に望ま
しい。
酸化剤の粒径は、大き過ぎると焼結時の緻密性を悪くす
るので好ましくなく、小さ過ぎると取扱いがしにくくな
ることと入手し難いことの理由で好ましくない。 好ま
しい粒径は0.5〜5ル厘の範囲である。
るので好ましくなく、小さ過ぎると取扱いがしにくくな
ることと入手し難いことの理由で好ましくない。 好ま
しい粒径は0.5〜5ル厘の範囲である。
本発明におけるSiO2−Al2O3−PbO系ガラス
粉末としては次の組成のものが好ましい。
粉末としては次の組成のものが好ましい。
即ち、重量%表示で、
SiO230〜55
A I203 1〜15
PbO 30〜55
B2O3 0〜0.9
MgO+CaO+SrO+BaOl〜15Zn0
0〜1O Li20+Na2O+K2O 0〜5TiO2
+ZrO20〜5 から実質的になるものである。この組成の限定理由は次
の通りである。
0〜1O Li20+Na2O+K2O 0〜5TiO2
+ZrO20〜5 から実質的になるものである。この組成の限定理由は次
の通りである。
S io2はガラスのネットワークフォーマ−であり、
少な過ぎると、軟化点が低くなり過ぎ耐熱性が低下し、
再焼成時に変形を生じ易くなるので好ましくない。一方
SiO2が多過ぎると軟化点が高くなり過ぎセラミック
粉末を充分に濡らすことができず強度が低下するので好
ましくない、S+02は上記範囲中30〜50%の範囲
が特に好ましい。
少な過ぎると、軟化点が低くなり過ぎ耐熱性が低下し、
再焼成時に変形を生じ易くなるので好ましくない。一方
SiO2が多過ぎると軟化点が高くなり過ぎセラミック
粉末を充分に濡らすことができず強度が低下するので好
ましくない、S+02は上記範囲中30〜50%の範囲
が特に好ましい。
Al2O3はガラスの溶解性あるいは、ガラス特性の耐
水性向上の面から必須であり、 1%より少ないとガラ
ス溶解時失透する恐れがあり、また15%より多いとガ
ラス軟化温度が高くなり過ぎる。望ましくは2〜13%
である。
水性向上の面から必須であり、 1%より少ないとガラ
ス溶解時失透する恐れがあり、また15%より多いとガ
ラス軟化温度が高くなり過ぎる。望ましくは2〜13%
である。
PbOはガラスのフラックス成分として用いる。30%
より少ないとガラス軟化点が高くなり過ぎ、溶解困難と
なる。一方55%より多いとガラスの熱膨張係数が大き
くなり過ぎAg、 Ag/Pd等の導体との接着性を低
下させる要因ともなり好ましくない。望ましくは33〜
50%である。
より少ないとガラス軟化点が高くなり過ぎ、溶解困難と
なる。一方55%より多いとガラスの熱膨張係数が大き
くなり過ぎAg、 Ag/Pd等の導体との接着性を低
下させる要因ともなり好ましくない。望ましくは33〜
50%である。
B2O3は必須成分ではないがPbOと同様一部フラッ
クス成分として用いることができる。しかし、0.9%
より多いと耐薬品性、特に耐酸性が著しく低下するので
好ましくない。望ましくは0.8%未満である。
クス成分として用いることができる。しかし、0.9%
より多いと耐薬品性、特に耐酸性が著しく低下するので
好ましくない。望ましくは0.8%未満である。
MgO+CaO+SrO+BaOは、熱膨張係数調整の
目的およびガラス溶解性を向上させるために添加する。
目的およびガラス溶解性を向上させるために添加する。
これら成分が1%より少ないと前記効果が少なく、15
%より多いと溶解時失透しガラス化困難となる。望まし
くは2〜13%である。
%より多いと溶解時失透しガラス化困難となる。望まし
くは2〜13%である。
ZnOは必須ではないがAg−Pd等の導体との適合性
あるいは溶解性改善の目的で10%まで導入し得る。
あるいは溶解性改善の目的で10%まで導入し得る。
L i20+Na2O+K2Oは必須ではないが添加す
ることによりセラミックス粉末との反応性およびガラス
溶解性の向上を図ることができるが、電気的特性、特に
絶縁抵抗特性においては好ましくない成分であるので必
要に応じて5%以下に留めるのが好ましく、望ましくは
3%以下である。
ることによりセラミックス粉末との反応性およびガラス
溶解性の向上を図ることができるが、電気的特性、特に
絶縁抵抗特性においては好ましくない成分であるので必
要に応じて5%以下に留めるのが好ましく、望ましくは
3%以下である。
ZrO2”TiO2は必須ではないが、添加することに
よりガラス耐薬品性を向上させることができる。その量
は5%以下で充分で望ましくは3%以下である。
よりガラス耐薬品性を向上させることができる。その量
は5%以下で充分で望ましくは3%以下である。
以上の成分の総量が85%以上であれば実質的に特性が
変ることがなく残部5%未満については着色剤、耐水性
の向上の面からSnO2を含有することができる。一方
、SiO2−A1203−B2Ch系ガラス粉末として
は1次のm成からなるものが好ましい。即ち、重量%表
示で SiO225〜40 A 1203 4〜15 B2O3 15〜25 BaO+CaO+Mgo 15〜40Zn0
1〜10 ZrQ2 0.5〜5 の組成を実質的に有するものである。この組成の限定理
由は次の通りである。
変ることがなく残部5%未満については着色剤、耐水性
の向上の面からSnO2を含有することができる。一方
、SiO2−A1203−B2Ch系ガラス粉末として
は1次のm成からなるものが好ましい。即ち、重量%表
示で SiO225〜40 A 1203 4〜15 B2O3 15〜25 BaO+CaO+Mgo 15〜40Zn0
1〜10 ZrQ2 0.5〜5 の組成を実質的に有するものである。この組成の限定理
由は次の通りである。
S i02が25%より少ないと、軟化温度が低くなり
焼結時に大きな変形を生じ、40%を超えると焼結温度
が高くなりすぎいずれも好ましくない、より望ましくは
28〜36%の範囲である。
焼結時に大きな変形を生じ、40%を超えると焼結温度
が高くなりすぎいずれも好ましくない、より望ましくは
28〜36%の範囲である。
Al2O3は4%より少ないと、焼結体の耐湿性が劣り
、15%を超えるとガラスの軟化温度が高くなり、焼結
温度が高くなり過ぎいずれも好ましくない。
、15%を超えるとガラスの軟化温度が高くなり、焼結
温度が高くなり過ぎいずれも好ましくない。
B2O3は、フラックスであり、15%より少ないと焼
結温度が高くなり過ぎ、25%を超えるとガラスの化学
的安定性が低下し好ましくない、より望ましくは、16
〜24%の範囲である。
結温度が高くなり過ぎ、25%を超えるとガラスの化学
的安定性が低下し好ましくない、より望ましくは、16
〜24%の範囲である。
BaO、C:aO、MgOはガラス粉末製造時の溶解性
を向上さすため及びガラスの熱膨張係数を調整する目的
で添加する。これらの総量が15%より少ないと上記溶
解性が充分に向上しないと共にガラス粉末製造時に失透
を生じ易く、40%を超えると熱膨張係数が大きくなり
過ぎいずれも望ましくない。より好ましくは、16〜3
9%の範囲である。
を向上さすため及びガラスの熱膨張係数を調整する目的
で添加する。これらの総量が15%より少ないと上記溶
解性が充分に向上しないと共にガラス粉末製造時に失透
を生じ易く、40%を超えると熱膨張係数が大きくなり
過ぎいずれも望ましくない。より好ましくは、16〜3
9%の範囲である。
ZnOは、ガラスの溶解性を向上さすために1%以上添
加されるのが望ましい。一方10%を超える添加はガラ
スの軟化温度が低くなり過ぎ焼結時に大きな変形を生じ
易くいずれも好ましくない。より望ましい範囲は2〜9
%である。
加されるのが望ましい。一方10%を超える添加はガラ
スの軟化温度が低くなり過ぎ焼結時に大きな変形を生じ
易くいずれも好ましくない。より望ましい範囲は2〜9
%である。
Z r02は、ガラスの化学的安定性を向上さすために
0.5%以上添加されるのが望ましいが、55%を超え
る添加は、ガラス粉末製造時の溶解性を悪くするので望
ましくない。より好ましい範囲は、 1〜4%である。
0.5%以上添加されるのが望ましいが、55%を超え
る添加は、ガラス粉末製造時の溶解性を悪くするので望
ましくない。より好ましい範囲は、 1〜4%である。
本発明のガラス粉末はかかる成分で、95%以上構成す
るのが望ましく、残部5%未満については、着色剤、耐
水性の向上を図るためのSnO2を添加することができ
る。
るのが望ましく、残部5%未満については、着色剤、耐
水性の向上を図るためのSnO2を添加することができ
る。
上記組成のSiO2−Al2O3−PbO系ガラス粉末
及びSiO2−A12Ch−B2O3系ガラス粉末は誘
電率が低く1曲げ強度に優れた基板を得ることができる
。
及びSiO2−A12Ch−B2O3系ガラス粉末は誘
電率が低く1曲げ強度に優れた基板を得ることができる
。
セラミック粉末としては、ガラスとなじみ易く、緻密な
基板が得られ、かつ入手が容易であるのでアルミナ、ジ
ルコン、コージェライトが好ましい。これらのセラミッ
クス粉末は単独で使用し又は併用することができる。
基板が得られ、かつ入手が容易であるのでアルミナ、ジ
ルコン、コージェライトが好ましい。これらのセラミッ
クス粉末は単独で使用し又は併用することができる。
ガラス粉末とセラミックス粉末との混合割合は、SiO
2−Al2O3−PbO系ガラスの場合、ガラス粉末3
0〜70重量%とセラミックス粉末30〜70重量%と
になるようにすることが望ましい。
2−Al2O3−PbO系ガラスの場合、ガラス粉末3
0〜70重量%とセラミックス粉末30〜70重量%と
になるようにすることが望ましい。
ガラス粉末の含有量は30重量%より少ないと緻密、焼
結層ができず電気特性が低下し好ましくない、一方70
重量%を超えると、焼結体の曲げ強度が低下し好ましく
ない、ガラス粉末は上記範囲中35〜65重量%の範囲
がより望ましい。
結層ができず電気特性が低下し好ましくない、一方70
重量%を超えると、焼結体の曲げ強度が低下し好ましく
ない、ガラス粉末は上記範囲中35〜65重量%の範囲
がより望ましい。
またSiO2−Al2O2−B2O系ガラスの場合、ガ
ラス粉末35〜95重量%、セラミックス粉末5〜B5
重量%の割合になるゆにすることが好ましい、ガラス粉
末の含有量が上記範囲より少ないと緻密な焼結体が得ら
れ難く、上記範囲より多くなると曲げ強度が低下するの
でいずれも好ましくない、ガラス粉末の含有量は上記範
囲中40〜90重量%の範囲がより望ましい。
ラス粉末35〜95重量%、セラミックス粉末5〜B5
重量%の割合になるゆにすることが好ましい、ガラス粉
末の含有量が上記範囲より少ないと緻密な焼結体が得ら
れ難く、上記範囲より多くなると曲げ強度が低下するの
でいずれも好ましくない、ガラス粉末の含有量は上記範
囲中40〜90重量%の範囲がより望ましい。
本発明の組成物は、各粉末が上記割合にて混合されてい
るものであるが、それを使用した多層回路基板は例えば
次の様にして製造される。
るものであるが、それを使用した多層回路基板は例えば
次の様にして製造される。
本発明の組成物に有機バインダー、可塑剤、溶剤を添加
し、混練してスラリーを作成する。
し、混練してスラリーを作成する。
この有機バインダーとしては、ブチラール樹脂、アクリ
ル樹脂、可塑剤としては、フタル酸ジブチル、フタル酸
ジオクチル、フタル酸ブチルベンジル、溶剤としては、
トルエン、アルコール等いずれも常用されているものが
使用できる。
ル樹脂、可塑剤としては、フタル酸ジブチル、フタル酸
ジオクチル、フタル酸ブチルベンジル、溶剤としては、
トルエン、アルコール等いずれも常用されているものが
使用できる。
次いでこのスラリーをシートに成形し、乾燥することに
より、未焼結のシート、いわゆるグリーンシートが作成
される。次いでこのグリーンシートにピアホール用の穴
を開け、片面にAg又はAg−pdペーストを所定の回
路に厚膜印刷する。
より、未焼結のシート、いわゆるグリーンシートが作成
される。次いでこのグリーンシートにピアホール用の穴
を開け、片面にAg又はAg−pdペーストを所定の回
路に厚膜印刷する。
この時、ピアホールにはAg又はAg−Pdペーストが
満たされる0次にこれらの印刷グリーンシートを所定の
枚数重ね合わせた熱圧着により積層化し、焼成し、グリ
ーンシート及び回路を焼結する。かくして製造されたも
のは回路が絶縁基板を介して多層に、積層されたものと
なる。
満たされる0次にこれらの印刷グリーンシートを所定の
枚数重ね合わせた熱圧着により積層化し、焼成し、グリ
ーンシート及び回路を焼結する。かくして製造されたも
のは回路が絶縁基板を介して多層に、積層されたものと
なる。
[実施例]
表1.2に示した組成のガラスになるように調合し、白
金坩堝に入れ、1400〜1500℃で3〜4時間、加
熱攪拌溶解した。溶解後水砕又はフレーク状とし、同表
■に示す組成のガラス粉末を製造した0次いでこのガラ
ス粉末とセラミックス粉末と酸化剤とが重量%で同表■
に示す割合になるよう秤量し、ボールミルで粉砕混合し
て本発明によっる種類の組成物を得た。
金坩堝に入れ、1400〜1500℃で3〜4時間、加
熱攪拌溶解した。溶解後水砕又はフレーク状とし、同表
■に示す組成のガラス粉末を製造した0次いでこのガラ
ス粉末とセラミックス粉末と酸化剤とが重量%で同表■
に示す割合になるよう秤量し、ボールミルで粉砕混合し
て本発明によっる種類の組成物を得た。
次いでこれらに有機バインダーとしてメチルメタクリレ
ート樹脂、可塑剤としてフタル酸ジブチル並びに溶剤と
してトルエンを添加し、混練してから粘度10000〜
3000cpsのスラリーを作成した。次いでこのスラ
リーを約0.2mm厚のシートにした後、70℃で約2
時間乾燥した0次いでこのシートにAg導体ペースト(
デュポン社製塀8500)又はAg−Pd導体ペースト
(ESL社製19801)をスクリーン印刷により印刷
する。
ート樹脂、可塑剤としてフタル酸ジブチル並びに溶剤と
してトルエンを添加し、混練してから粘度10000〜
3000cpsのスラリーを作成した。次いでこのスラ
リーを約0.2mm厚のシートにした後、70℃で約2
時間乾燥した0次いでこのシートにAg導体ペースト(
デュポン社製塀8500)又はAg−Pd導体ペースト
(ESL社製19801)をスクリーン印刷により印刷
する。
次いでこのシートを空気雰囲気中で900℃1時間焼成
し、焼結基板を製造した。この焼結基板について、絶縁
抵抗、誘電率、誘電正接熱膨張率、曲げ強度、基板の導
体に近接した部位の変色を測定し、その結果を同表の■
に併記した。
し、焼結基板を製造した。この焼結基板について、絶縁
抵抗、誘電率、誘電正接熱膨張率、曲げ強度、基板の導
体に近接した部位の変色を測定し、その結果を同表の■
に併記した。
比較例として本発明以外の組成物により製造した基板に
ついて同様の測定を行いその結果も同表に併記した。
ついて同様の測定を行いその結果も同表に併記した。
同表から明らかなように、本発明による組成物は焼結に
より導体に近接した部位に変色を生ずることがなく電気
特性、熱膨張率及び曲げ強度に優れ、基板として充分使
用できる特性を有する。
より導体に近接した部位に変色を生ずることがなく電気
特性、熱膨張率及び曲げ強度に優れ、基板として充分使
用できる特性を有する。
[発明の効果]
本発明の組成物によれば、焼成によりAg又はAG−P
d導体に近接した部位が黄色に変色し外観を損なうこと
はない。更に°、上述した組成のSiO2−Al2O2
−PbO系ガラス粉末又はS I02−A I203−
B2O3系ガラス粉末を使用すれば、電気特性、膨張率
、曲げ強度にも優れた基板を製造することができる。
d導体に近接した部位が黄色に変色し外観を損なうこと
はない。更に°、上述した組成のSiO2−Al2O2
−PbO系ガラス粉末又はS I02−A I203−
B2O3系ガラス粉末を使用すれば、電気特性、膨張率
、曲げ強度にも優れた基板を製造することができる。
Claims (5)
- (1)無機成分がSiO_2−Al_2O_3−PbO
系ガラス粉末又はSiO_2−Al_2O_3−B_2
O_3系ガラス粉末とセラミックス粉末とからなる組成
物において、該無機成分に酸化剤を添加してなる基板用
組成物。 - (2)前記酸化剤は前記無機成分に対し0.01〜5重
量%添加されている特許請求の範囲第1項記載の組成物
。 - (3)前記酸化剤はTiO_2、CeO_2、BaO_
2及びSnO_2から選ばれた少なくとも1種である特
許請求の範囲第1項又は第2項記載の組成物。 - (4)前記ガラス粉末は重量%表示で実質的にSiO_
230〜55 Al_2O_31〜15 PbO30〜55 MgO+CaO+SrO+BaO1〜15 ZnO0〜10 B_2O_30〜0.9 Li_2O+Na_2O+K_2O0〜5 TiO_2+ZrO_20〜5 からなる特許請求の範囲第3項記載の組成 物。 - (5)前記ガラス粉末は重量%表示で実質的にSiO_
230〜55 Al_2O_31〜15 B_2O_315〜25 BaO+CaO+MgO15〜40 ZnO1〜10 ZrO_20.5〜5 からなる特許請求の範囲第3項記載の組成 物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62028121A JPS63201036A (ja) | 1987-02-12 | 1987-02-12 | 基板用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62028121A JPS63201036A (ja) | 1987-02-12 | 1987-02-12 | 基板用組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63201036A true JPS63201036A (ja) | 1988-08-19 |
Family
ID=12239967
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62028121A Pending JPS63201036A (ja) | 1987-02-12 | 1987-02-12 | 基板用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63201036A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04228449A (ja) * | 1990-05-16 | 1992-08-18 | Corning Inc | マルチチャンネルプレートおよびガラス |
| JP2000351649A (ja) * | 1999-06-08 | 2000-12-19 | Asahi Glass Co Ltd | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
| JP2001196503A (ja) * | 1999-10-29 | 2001-07-19 | Kyocera Corp | ガラスセラミック焼結体およびその製造方法、配線基板ならびにその実装構造 |
| JP2010531287A (ja) * | 2007-11-01 | 2010-09-24 | コリア インスティテュート オブ サイエンス アンド テクノロジー | 高強度及び高q値を有する低温焼成用誘電体セラミック組成物 |
-
1987
- 1987-02-12 JP JP62028121A patent/JPS63201036A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04228449A (ja) * | 1990-05-16 | 1992-08-18 | Corning Inc | マルチチャンネルプレートおよびガラス |
| JP2000351649A (ja) * | 1999-06-08 | 2000-12-19 | Asahi Glass Co Ltd | 基板用ガラスおよびガラス基板 |
| JP2001196503A (ja) * | 1999-10-29 | 2001-07-19 | Kyocera Corp | ガラスセラミック焼結体およびその製造方法、配線基板ならびにその実装構造 |
| JP2010531287A (ja) * | 2007-11-01 | 2010-09-24 | コリア インスティテュート オブ サイエンス アンド テクノロジー | 高強度及び高q値を有する低温焼成用誘電体セラミック組成物 |
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