JPS6320116Y2 - - Google Patents

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JPS6320116Y2
JPS6320116Y2 JP10451081U JP10451081U JPS6320116Y2 JP S6320116 Y2 JPS6320116 Y2 JP S6320116Y2 JP 10451081 U JP10451081 U JP 10451081U JP 10451081 U JP10451081 U JP 10451081U JP S6320116 Y2 JPS6320116 Y2 JP S6320116Y2
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JP
Japan
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cathode
metal ring
main electrode
fixed
semiconductor wafer
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JP10451081U
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JPS5811244U (ja
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Description

【考案の詳細な説明】 この考案は、半導体素子とこれを支持する熱的
補償板とを有する加圧接触形半導体装置に関する
ものである。
以下、加圧接触形ダイオードを例にとつて説明
する。
第1図は従来の加圧接触形ダイオードの一例を
示す断面図である。第1図において、1はPN接
合を有するシリコン(Si)ウエハ、2はアルミニ
ウム(Al)からなりSiウエハ1の一方の主面上
に形成された陰極、3はSiウエハ1に近似した熱
膨張係数を有するモリブデン(Mo)、タングス
テン(W)からなりSiウエハ1の他方の主面にろ
う付けされてこのSiウエハ1を支持すると共に陽
極および熱的補償板として働く支持板、4はSiウ
エハ1、陰極2および支持板3によつて構成され
たダイオード素子、5はSiウエハ1に近似した熱
膨張係数を有するMo、Wからなり陰極2に加圧
接触させられる円板状の陰極補償板、6は銅柱か
らなり陰極補償5に加圧接触させられる陰極導電
体、7はアルミナセラミツクからなりダイオード
素子4の周りに配置された絶縁筒体、8は銅板か
らなり内周部が陰極導電体6に固着され外周部が
絶縁筒体7の一方の端面に固着された陰極リン
グ、9は鉄板からなり内周部が絶縁筒体7の他方
の端面に固着され外周部が外方へ延びた溶接リン
グ、10は鉄板からなり内周部が支持板3に固着
され外周部が溶接リング9の外周部と電気抵抗溶
接法またはアーク溶接法によつて気密封着された
陽極リングである。
上記のように構成された従来装置においては、
支持板3および陰極導電体6のそれぞれの端面に
冷却体(図示せず)を取り付けて、ダイオード素
子4に対する電気および熱の伝導を行う。
ところが、陰極2、陰極補償板5および陰極導
電体6の相互の接触部において、電気および熱に
対する接触抵抗を生じ、電気抵抗および熱抵抗が
大きくなる。また、陰極2上に陰極補償板5を完
全に固定しないと、陰極補償板5がずれてダイオ
ード素子4を破損することがあり、位置決め用ガ
イド(図示せず)が必要となり、構造が複雑にな
る。
この考案は、上述の問題点に鑑みてなされたも
のであり、半導体素子の主面上に形成された主電
極と接触している熱的補償板を絶縁筒体の一方の
端面に固着している金属リングに固着することに
よつて、この熱的補償板に加圧接触させられる主
電極導電体を不要にすると共に位置決め用ガイド
を不要にして、電気抵抗および熱抵抗が小さくか
つ構造が簡単で安価な加圧接触形半導体装置を提
供することを目的としたものである。
以下、実施例に基づいてこの考案を説明する。
第2図はこの考案の一実施例である加圧接触形
ダイオードを示す断面図である。第2図におい
て、第1図と同一符号は第1図にて示したものと
同様のものを表わしている。
5aはSiウエハ1に近似した熱膨張係数を有す
るMo,Wからなりダイオード素子4の陰極2に
加圧接触させられると共に外周部に次記の陰極リ
ングが固着されている陰極補償板、8aは銅板か
らなり内周部が陰極補償板5aの外周部に固着さ
れ外周部が絶縁筒体7の一方の端面に固着された
陰極リングである。このダイオードにおいては、
陰極導電体は存在しない。
上記の実施例装置においては、接触部が、従来
装置では2箇所であるのに対して、陰極2と陰極
補償板5aとの間の1箇所となり、電気抵抗およ
び熱抵抗が約1/2と小さくなる。また、陰極補償
板5aは絶縁筒体7に固着されている陰極リング
8aに直接に固着されているから、従来装置で用
いられた陰極導電体6、および陰極2に対して陰
極補償板5を位置決めする位置決め用ガイドが不
要となり、構造が簡単で安価な加圧接触形ダイオ
ードを得ることができる。
上記の実施例においては、この考案を加圧接触
形ダイオードに適用した場合について述べたが、
この考案は、加圧接触形サイリスタその他の加圧
接触形半導体装置に広く適用することができるも
のである。
以上説明したように、この考案による加圧接触
形半導体装置においては、半導体素子の一主面上
に形成された主電極に加圧接触させられる主電極
補償板を、絶縁筒体に固着されている金属リング
に直接に固着することにより、主電極導電体を除
去したので接触部が減少し電気抵抗および熱抵抗
が小さくなる。また、主電極導電体、および主電
極補償板を主電極に対して位置決めする位置決め
用ガイドが不要になるから、構造が簡単で安価に
なる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の加圧接触形ダイオードの一例を
示す断面図、第2図はこの考案の一実施例である
加圧接触形ダイオードを示す断面図である。 図において、1はSiウエハ(半導体ウエハ)、
2は陰極(第1の主電極)、3は支持板(熱的補
償板)、4はダイオード素子(半導体素子)、5a
は陰極補償板(主電極補償板)、7は絶縁筒体、
8aは陰極リング(第1の金属リング)、9は溶
接リング(第2の金属リング)、10は陽極リン
グ(第3の金属リング)である。なお、図中同一
符号はそれぞれ同一または相当部分を示す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. PN接合を有する半導体ウエハとこの半導体ウ
    エハの一方の主面上に形成された第1の主電極と
    この半導体ウエハに近似した熱膨張係数を有しこ
    の半導体ウエハの他方の主面にろう付けされてこ
    の半導体ウエハを支持すると共に第2の主電極を
    構成する熱的補償板とを有する半導体素子、上記
    半導体ウエハに近似した熱膨張係数を有し上記半
    導体素子の上記第1の主電極に加圧接触させられ
    る主電極補償板、上記半導体素子を取り囲むよう
    に設けられた絶縁筒体、内周部が上記主電極補償
    板に固着され外周部が上記絶縁筒体の一方の端面
    に固着された第1の金属リング、内周部が上記絶
    縁筒体の他方の端面に固着された第2の金属リン
    グ、および内周部が上記熱的補償板の外周面に固
    着され外周部が上記第2の金属リングの外周部と
    気密封着されている第3の金属リングを備えてな
    る加圧接触形半導体装置。
JP10451081U 1981-07-13 1981-07-13 加圧接触形半導体装置 Granted JPS5811244U (ja)

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JP10451081U JPS5811244U (ja) 1981-07-13 1981-07-13 加圧接触形半導体装置

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JP10451081U JPS5811244U (ja) 1981-07-13 1981-07-13 加圧接触形半導体装置

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Publication Number Publication Date
JPS5811244U JPS5811244U (ja) 1983-01-25
JPS6320116Y2 true JPS6320116Y2 (ja) 1988-06-03

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JP10451081U Granted JPS5811244U (ja) 1981-07-13 1981-07-13 加圧接触形半導体装置

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JPS5811244U (ja) 1983-01-25

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