JPS63214918A - 薄膜形成装置等におけるフイルム走行装置 - Google Patents
薄膜形成装置等におけるフイルム走行装置Info
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- JPS63214918A JPS63214918A JP4917787A JP4917787A JPS63214918A JP S63214918 A JPS63214918 A JP S63214918A JP 4917787 A JP4917787 A JP 4917787A JP 4917787 A JP4917787 A JP 4917787A JP S63214918 A JPS63214918 A JP S63214918A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気テープ等の製造工程において高分子フィル
ム等の表面に磁性薄膜等を連続的に形成する薄膜形成装
置等におけるフィルム走行装置に間するものである。
ム等の表面に磁性薄膜等を連続的に形成する薄膜形成装
置等におけるフィルム走行装置に間するものである。
高分子フィルム等の表面に磁気記録用の磁性膜や、包装
用等の非磁性膜を形成する場合、真空蒸着又はスパッタ
リング等の手段によることが多い。
用等の非磁性膜を形成する場合、真空蒸着又はスパッタ
リング等の手段によることが多い。
該手段において、前記高分子フィルム等が長巻きのもの
であり、これに対して連続的に薄膜形成せしめる場合、
前記高分子フィルム等を連続的かつ安定に走行せしめる
ためのフィルム走行装置が必要である。
であり、これに対して連続的に薄膜形成せしめる場合、
前記高分子フィルム等を連続的かつ安定に走行せしめる
ためのフィルム走行装置が必要である。
従来、この種の装置として第４図及び第５図に示すもの
があった。第４図に示す第１の従来例において、１は金
属性の円筒でなるキャンであり、該キャン１の周囲に高
分子フィルム３を半周以上に亘って巡らすように、ゴム
系材料の円筒でなり従動するニップローラ２で前記高分
子フィルム３の前記キャンｌへの巻き始めから巻き終り
までの部分を前記キャンｌの周面へ当接せしめ、該キャ
ン１の周面に対して滑らすことなくフィルム走行を可能
とする。５は本装置が真空蒸着装置の場合には蒸着ルツ
ボであり、本装置がスパッタリング装置である場合には
スパッタターゲットである。
があった。第４図に示す第１の従来例において、１は金
属性の円筒でなるキャンであり、該キャン１の周囲に高
分子フィルム３を半周以上に亘って巡らすように、ゴム
系材料の円筒でなり従動するニップローラ２で前記高分
子フィルム３の前記キャンｌへの巻き始めから巻き終り
までの部分を前記キャンｌの周面へ当接せしめ、該キャ
ン１の周面に対して滑らすことなくフィルム走行を可能
とする。５は本装置が真空蒸着装置の場合には蒸着ルツ
ボであり、本装置がスパッタリング装置である場合には
スパッタターゲットである。
又、第５８！Ｉに示す第２の従来例では、前記ニップロ
ーラ２の代りに中間ローラ６を用いている。
ーラ２の代りに中間ローラ６を用いている。
前記第１の従来例と異なる点は、前記した中間ローラ６
はキャンｌから離れているため、該キャンｌから直接に
熱伝導されない、従って前記キャンｌが高温に加熱され
ても、前記中間ローラ６は著しく温度上昇することもな
い、又、前記したキャン１と中間ローラ６とは、それら
の周速及び当接爾の移動方向を一致させるように図示せ
ぬ歯車等により回転速度及び方向を規制され、図示せぬ
モータ等がこれらを駆動することにより、前記したキャ
ン１．の周囲に巡らされた前記高分子フィルム３を滑ら
すことなく所定の速度で走行せしめるようになっている
。しかし、後述する理由により、前記したキャン１の巻
き取り周速と、中間ローラ６の送り周速とは精密に一致
してはいない。
はキャンｌから離れているため、該キャンｌから直接に
熱伝導されない、従って前記キャンｌが高温に加熱され
ても、前記中間ローラ６は著しく温度上昇することもな
い、又、前記したキャン１と中間ローラ６とは、それら
の周速及び当接爾の移動方向を一致させるように図示せ
ぬ歯車等により回転速度及び方向を規制され、図示せぬ
モータ等がこれらを駆動することにより、前記したキャ
ン１．の周囲に巡らされた前記高分子フィルム３を滑ら
すことなく所定の速度で走行せしめるようになっている
。しかし、後述する理由により、前記したキャン１の巻
き取り周速と、中間ローラ６の送り周速とは精密に一致
してはいない。
従来の薄膜形成装置等におけるフィルム−走行装置は上
記ニップローラ２がゴム系の材料で構成されているため
、該ゴム系材料の性質上、上記ニップローラ２の使用温
度の上限を低く制限する必要がある。しかるにＣｏ−Ｃ
ｒ等の垂直磁気記録媒体においては薄膜形成時に上記キ
ャン１の温度を１００″Ｃ以上に加熱する必要がある。
記ニップローラ２がゴム系の材料で構成されているため
、該ゴム系材料の性質上、上記ニップローラ２の使用温
度の上限を低く制限する必要がある。しかるにＣｏ−Ｃ
ｒ等の垂直磁気記録媒体においては薄膜形成時に上記キ
ャン１の温度を１００″Ｃ以上に加熱する必要がある。
又、非磁性膜であフても、特に薄膜の上記高分子フィル
ム３への付着強度を高めようとする場合には、前記Ｃｏ
−Ｃｒ同様に上記キャンｌの温度を高める必要もある。
ム３への付着強度を高めようとする場合には、前記Ｃｏ
−Ｃｒ同様に上記キャンｌの温度を高める必要もある。
尚、上記ゴム系材料でなるニップローラ２の使用温度上
限を無視して１００ＩＣ以上に加熱すれば、該ニップロ
ーラ２が変形する他、特殊ガスを発生して磁性膜の特性
を劣化させたりする。
限を無視して１００ＩＣ以上に加熱すれば、該ニップロ
ーラ２が変形する他、特殊ガスを発生して磁性膜の特性
を劣化させたりする。
又、上記ニップローラ２の使用温度上限を高めるべく、
上記ニップローラ２を耐熱性の高い金属材料で構成した
場合、該金属材料は上記したゴム系の材料に比べて弾力
性に乏しいので、前記した金属製のキャンｌとの間に高
分子フィルム３を介して当接する際に弾力的な密着が得
られない、従って高精度に安定かつ連続したフィルム走
行は期待できない上に、前記金属材料でなるニップロー
ラ２及びキャンｌではそれらのわずかな寸法誤差及び表
面仕上の悪さ等の影響を吸収できず、それらの凹凸によ
り前記したキャンｌ、ニップローラ２及び高分子フィル
ム３が互いに傷つけ合う。
上記ニップローラ２を耐熱性の高い金属材料で構成した
場合、該金属材料は上記したゴム系の材料に比べて弾力
性に乏しいので、前記した金属製のキャンｌとの間に高
分子フィルム３を介して当接する際に弾力的な密着が得
られない、従って高精度に安定かつ連続したフィルム走
行は期待できない上に、前記金属材料でなるニップロー
ラ２及びキャンｌではそれらのわずかな寸法誤差及び表
面仕上の悪さ等の影響を吸収できず、それらの凹凸によ
り前記したキャンｌ、ニップローラ２及び高分子フィル
ム３が互いに傷つけ合う。
このように、上記ニップローラ２には弾力性と耐熱性が
合わせて要求されるにもかかわらず、これらの要求を満
足できる材料の選定が困難であるという欠点があった。
合わせて要求されるにもかかわらず、これらの要求を満
足できる材料の選定が困難であるという欠点があった。
又、上記したキャンｌの直径ＤＩは約５０ｃｍ、中間ロ
ーラ６の直径Ｄ２は約１０ｃｍ位であり、これらキャン
ｌと中間ローラ６の周面速度及び回転方向を決定するた
めの図示せぬ送り歯車の歯数比と、前記した直径ＤＩ、
Ｄ２の直径比とを完全に一致させるために、前記ＤＩ、
Ｄ２をミクロン単位で精密に仕上げてこれを保つことは
前記キャンｌ及び中間ローラ６の周面研磨及び熱膨張等
の都合上、不可能である。従って上記第２の従来例の装
置では上記したキャンｌと中間ローラ６の夫々のフィル
ム送り速度に微少な差が生じ、しかもその速度差は上記
したキャンｌと中間ローラ６の周面の状態に応じて常に
微少に変動し得る。従って、上記高分子フィルム３及び
成膜面はフィルム走行に応じて常時、微少な伸縮を繰り
返すためにシワを発生する。特に上記高分子フィルム３
０両面に磁性膜を形成する場合には前記シワの発生が顕
著になる。
ーラ６の直径Ｄ２は約１０ｃｍ位であり、これらキャン
ｌと中間ローラ６の周面速度及び回転方向を決定するた
めの図示せぬ送り歯車の歯数比と、前記した直径ＤＩ、
Ｄ２の直径比とを完全に一致させるために、前記ＤＩ、
Ｄ２をミクロン単位で精密に仕上げてこれを保つことは
前記キャンｌ及び中間ローラ６の周面研磨及び熱膨張等
の都合上、不可能である。従って上記第２の従来例の装
置では上記したキャンｌと中間ローラ６の夫々のフィル
ム送り速度に微少な差が生じ、しかもその速度差は上記
したキャンｌと中間ローラ６の周面の状態に応じて常に
微少に変動し得る。従って、上記高分子フィルム３及び
成膜面はフィルム走行に応じて常時、微少な伸縮を繰り
返すためにシワを発生する。特に上記高分子フィルム３
０両面に磁性膜を形成する場合には前記シワの発生が顕
著になる。
このように上記したキャン１と中間ローラ６には直径寸
法及び周面研磨等に高精度な仕上げを必要とする欠点が
あった。
法及び周面研磨等に高精度な仕上げを必要とする欠点が
あった。
本発明は上記した欠点を除去するためになされたもので
、上記ニップローラ２の両端部近傍のローラ面だけが上
記高分子フィルム３に当接する構造となすことにより、
耐熱性の高い金属材料等を上記ニップローラ２の材料と
して使用できるようにした、薄膜形成装置等におけるフ
ィルム走行装置を提供することを目的としている。
、上記ニップローラ２の両端部近傍のローラ面だけが上
記高分子フィルム３に当接する構造となすことにより、
耐熱性の高い金属材料等を上記ニップローラ２の材料と
して使用できるようにした、薄膜形成装置等におけるフ
ィルム走行装置を提供することを目的としている。
本発明は断る問題点を解決するために、金属等の耐熱材
料でなる副コーラの軸方向の両＃部近傍以外の直径を細
くし、両端部近傍のみでなるローラ面により、上記高分
子フィルム等を巡らした主ロー８接し、フィルム走行せ
しめる。
料でなる副コーラの軸方向の両＃部近傍以外の直径を細
くし、両端部近傍のみでなるローラ面により、上記高分
子フィルム等を巡らした主ロー８接し、フィルム走行せ
しめる。
回転する主ローラと副ローラとにより、高分子フィルム
等を挟持してフィルム走行せしめる装置において、前記
した両ローラが弾力性少なく剛性の高い金属等の材料で
構成されている場合、前記した高分子フィルム等のうち
前記副ローラのローラ面が当接した部分には、傷等を生
じるが、前記副ローラが当接しない部分にはそれらが生
じることもない。
等を挟持してフィルム走行せしめる装置において、前記
した両ローラが弾力性少なく剛性の高い金属等の材料で
構成されている場合、前記した高分子フィルム等のうち
前記副ローラのローラ面が当接した部分には、傷等を生
じるが、前記副ローラが当接しない部分にはそれらが生
じることもない。
第１図乃至第３図は本発明の実施例を示す図であり、第
１図は第１の実施例の斜視図、第２図は第２の実施例の
要部平面図、第３図は第３の実施例の要部平面図である
。
１図は第１の実施例の斜視図、第２図は第２の実施例の
要部平面図、第３図は第３の実施例の要部平面図である
。
尚、各図に亘り同効のものは同一符号を付している。
第１図において２８はステンレス又はアルミニウム等の
金属でなる空転自在のニップローラであり、該ニップロ
ーラ２ａはその軸方向の両端部近傍の周面だけをローラ
面４として残し、中央部近傍の大部分の直径を前記ロー
ラ面４よりも細くして、軸だけを残すように構成してい
る。このため、上記高分子フィルム３０幅方向の両側近
傍だけに前記ローラ面４が圧接して上記キャン１どの間
に上記高分子フィルム３を挟持し、これを精密かつ安定
に連続走行せしめている。
金属でなる空転自在のニップローラであり、該ニップロ
ーラ２ａはその軸方向の両端部近傍の周面だけをローラ
面４として残し、中央部近傍の大部分の直径を前記ロー
ラ面４よりも細くして、軸だけを残すように構成してい
る。このため、上記高分子フィルム３０幅方向の両側近
傍だけに前記ローラ面４が圧接して上記キャン１どの間
に上記高分子フィルム３を挟持し、これを精密かつ安定
に連続走行せしめている。
第２図は第２の実施例であり、前記ニップローラ２ａの
応用例として鼓型のニップローラ２ｂを示す平面図であ
る。該ニップローラ２ｂはローラ面４ｂ以外の部分の形
状に特徴があり、旋盤及び研磨機等の工作機械の都合に
合わせて適当な形状とすれば良い。
応用例として鼓型のニップローラ２ｂを示す平面図であ
る。該ニップローラ２ｂはローラ面４ｂ以外の部分の形
状に特徴があり、旋盤及び研磨機等の工作機械の都合に
合わせて適当な形状とすれば良い。
第３図は第３の実施例であり、前記ニップローラ２ｂの
応用例としてのニップローラ２Ｃを示す平面図である。
応用例としてのニップローラ２Ｃを示す平面図である。
該ニップローラ２Ｃはローラ面４ｃが円錐面を形成して
おり、該ローラ面４Ｃは前記ニップローラ２ｃの軸方向
における最両端部から中央部に向かって微少角度θで収
束するような形状である。すなわち、前記ローラ２Ｃの
軸方向における最両端部から中央部に向かうに従ってな
だらかにローラ４Ｃの直径を小さくしている。
おり、該ローラ面４Ｃは前記ニップローラ２ｃの軸方向
における最両端部から中央部に向かって微少角度θで収
束するような形状である。すなわち、前記ローラ２Ｃの
軸方向における最両端部から中央部に向かうに従ってな
だらかにローラ４Ｃの直径を小さくしている。
又、前記ローラ面４ ａ ＋ ４ ｂ面を前記微少角度
θてなる円錐面となしてもよい（図示せず）。
θてなる円錐面となしてもよい（図示せず）。
又、前記した二・ンプローラ２ａ、２ｂ、２ｃの材料に
は、ステンレス又はアルミニウム等の金属を用い、該金
属製のニップローラ２ａ、２ｂ。
は、ステンレス又はアルミニウム等の金属を用い、該金
属製のニップローラ２ａ、２ｂ。
２ｃのローラ面４ａ、４ｂ、４ｃにポリイミド等の耐熱
性高分子膜をコーティングすることにより（図示せず）
、上記した金属でなるローラ＠ ４ ａ 。
性高分子膜をコーティングすることにより（図示せず）
、上記した金属でなるローラ＠ ４ ａ 。
４ｂ、４ｃどうし又は該金属ローラから上記高分子フィ
ルム３への傷つきを防止する他、上記したローラ面４
ａ ＊ ４ ｂ ＋ ４ ｃと高分子フィルム３とのす
べりをも防止しながら精密かつ安定にフィルム走行せし
める。
ルム３への傷つきを防止する他、上記したローラ面４
ａ ＊ ４ ｂ ＋ ４ ｃと高分子フィルム３とのす
べりをも防止しながら精密かつ安定にフィルム走行せし
める。
以上のように本発明のものでは、前記ニップローラ２ａ
、２ｂ、２ｃの軸方向における両端近傍のローラ面だけ
で上記高分子フィルム３０幅方向の両側近傍に当接する
ので、該両側近傍の当接面だけに上記した傷付等のトラ
ブル発生を限定できる。従フて上記高分子フィルム３の
両側近傍を切り捨てれば、残りの大部分は完全な製品と
なし得る。
、２ｂ、２ｃの軸方向における両端近傍のローラ面だけ
で上記高分子フィルム３０幅方向の両側近傍に当接する
ので、該両側近傍の当接面だけに上記した傷付等のトラ
ブル発生を限定できる。従フて上記高分子フィルム３の
両側近傍を切り捨てれば、残りの大部分は完全な製品と
なし得る。
尚、本発明の要旨とする上記した金属等の耐熱材料でな
る副ローラのうち、該副ローラの軸方向の両端近傍のロ
ーラ面だけで、上記主ローラへ上記高分子フィルム等を
圧接てきるようになした構成のものは全て本発明に含ま
れる。又、上記副ローラの数を２個に限定するものでは
ない。又、該副ローラの耐熱材料としてセラミックを用
いてもよい。
る副ローラのうち、該副ローラの軸方向の両端近傍のロ
ーラ面だけで、上記主ローラへ上記高分子フィルム等を
圧接てきるようになした構成のものは全て本発明に含ま
れる。又、上記副ローラの数を２個に限定するものでは
ない。又、該副ローラの耐熱材料としてセラミックを用
いてもよい。
本発明のものは真空蒸着又はスパッタリング等の手段に
より、磁性膜等を長巻き状の高分子フィルム等に被着せ
しめる薄膜形成装置等におけるフィルム走行装置であり
、主ローラと副ローラとを備え、前記主ローラに巡らし
た前記高分子フィルム等に前記副ローラを当接し、該高
分子フィルム等を連続的かつ安定に走行せしめるように
した、薄膜形成装置等におけるフィルム走行装置におい
て、前記副ローラを金属等の耐熱材料で構成し、該副ロ
ーラの軸方向の略中央近傍の直径を前記軸方向の両端近
傍の直径に比べて小さくし、前記両端近傍のローラ面だ
けで前記高分子フィルム等の軸方向の両側近傍に当接す
るようにしたから、前記主ローラと副ローラの回転周速
をミクロン単位で完全に一致させることなく、前記高分
子フィルムの大部分に亘りシワ及び傷等を発生させずに
薄膜形成することができる。
より、磁性膜等を長巻き状の高分子フィルム等に被着せ
しめる薄膜形成装置等におけるフィルム走行装置であり
、主ローラと副ローラとを備え、前記主ローラに巡らし
た前記高分子フィルム等に前記副ローラを当接し、該高
分子フィルム等を連続的かつ安定に走行せしめるように
した、薄膜形成装置等におけるフィルム走行装置におい
て、前記副ローラを金属等の耐熱材料で構成し、該副ロ
ーラの軸方向の略中央近傍の直径を前記軸方向の両端近
傍の直径に比べて小さくし、前記両端近傍のローラ面だ
けで前記高分子フィルム等の軸方向の両側近傍に当接す
るようにしたから、前記主ローラと副ローラの回転周速
をミクロン単位で完全に一致させることなく、前記高分
子フィルムの大部分に亘りシワ及び傷等を発生させずに
薄膜形成することができる。
第１図乃至第３図は本発明の実施例を示す図であり、第
１図は第１の実施例の斜視図、第２図は第２の実施例の
要部平面図、第３図は第３の実施例の要部平面図である
。 第４図及び第５図は夫々第１．第２の従来例を示す斜視
図である。 ｌ：キャン ２．２ａ、２ｂ、２ｃ ：ニップローラ３：高分子フィ
ルム ４．４ａ、４ｃ ：ローラ面 ５：蒸着ルツボ又はターゲット ６：中間ローラ Ｄｌ：キャンｌの直径 Ｄ２：中間ローラ６の直径
１図は第１の実施例の斜視図、第２図は第２の実施例の
要部平面図、第３図は第３の実施例の要部平面図である
。 第４図及び第５図は夫々第１．第２の従来例を示す斜視
図である。 ｌ：キャン ２．２ａ、２ｂ、２ｃ ：ニップローラ３：高分子フィ
ルム ４．４ａ、４ｃ ：ローラ面 ５：蒸着ルツボ又はターゲット ６：中間ローラ Ｄｌ：キャンｌの直径 Ｄ２：中間ローラ６の直径
Claims (2)
- （１）真空蒸着又はスパッタリング等の手段により、磁
性膜等を長巻き状の高分子フィルム等に被着せしめる薄
膜形成装置等におけるフィルム走行装置であり、主ロー
ラと副ローラとを備え、前記主ローラに巡らした前記高
分子フィルム等に前記副ローラを当接し、該高分子フィ
ルム等を連続的かつ安定に走行せしめるようにした、薄
膜形成装置等におけるフィルム走行装置において、前記
副ローラを金属等の耐熱材料で構成し、該副ローラの軸
方向の略中央近傍の直径を前記軸方向の両端近傍の直径
に比べて小さくし、前記両端近傍のローラ面だけで前記
高分子フィルム等の軸方向の両側近傍に当接するように
したことを特徴とする薄膜形成装置等におけるフィルム
走行装置。 - （２）副ローラのローラ面に耐熱性高分子膜を形成した
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の薄膜形成
装置等におけるフィルム走行装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4917787A JPS63214918A (ja) | 1987-03-04 | 1987-03-04 | 薄膜形成装置等におけるフイルム走行装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4917787A JPS63214918A (ja) | 1987-03-04 | 1987-03-04 | 薄膜形成装置等におけるフイルム走行装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63214918A true JPS63214918A (ja) | 1988-09-07 |
| JPH047014B2 JPH047014B2 (ja) | 1992-02-07 |
Family
ID=12823772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4917787A Granted JPS63214918A (ja) | 1987-03-04 | 1987-03-04 | 薄膜形成装置等におけるフイルム走行装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63214918A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017137543A (ja) * | 2016-02-05 | 2017-08-10 | 住友金属鉱山株式会社 | キャンロールと長尺体の処理装置および処理方法 |
| JP2018002386A (ja) * | 2016-07-01 | 2018-01-11 | 住友金属鉱山株式会社 | 長尺樹脂フィルムの巻取方法及び巻取装置 |
-
1987
- 1987-03-04 JP JP4917787A patent/JPS63214918A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017137543A (ja) * | 2016-02-05 | 2017-08-10 | 住友金属鉱山株式会社 | キャンロールと長尺体の処理装置および処理方法 |
| JP2018002386A (ja) * | 2016-07-01 | 2018-01-11 | 住友金属鉱山株式会社 | 長尺樹脂フィルムの巻取方法及び巻取装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH047014B2 (ja) | 1992-02-07 |
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