JPH0145625B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0145625B2 JPH0145625B2 JP7797581A JP7797581A JPH0145625B2 JP H0145625 B2 JPH0145625 B2 JP H0145625B2 JP 7797581 A JP7797581 A JP 7797581A JP 7797581 A JP7797581 A JP 7797581A JP H0145625 B2 JPH0145625 B2 JP H0145625B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicone rubber
- photosensitive layer
- layer
- rubber layer
- photosensitive
- Prior art date
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- Expired
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、湿し水不要なネガ型平版印刷版の定
着方法に関するものである。十数年ほど前からシ
リコーンゴムをインキ反撥層として湿し水を用い
ずに平版印刷を行なうための版の研究が始められ
ている。例えば特公昭44−23042号はインキ反撥
層としてシリコーンゴムを用いることを示した最
初の技術であり、その後も種々の構成による湿し
水不要平版印刷に関する特許出願がなされてい
る。かかる湿し水不要平版印刷版のなかで、支持
体に裏打ちされた感光層上にシリコーンゴム層を
塗設してなるネガテイブワーキング用湿し水不要
平版印刷版については過去にいくつかの提案がな
されている。例えば、特願昭54−156871において
は、支持体に裏打ちされた光はくり性感光層の上
にシリコーンゴム層を設ける予備増感された平版
印刷版が提案されている。ここに提案された印刷
版は、ネガフイルムを通して活性光線で露光し、
露光部の感光層を変化せしめ、現像液を用いて実
質的に露光部分のシリコーンゴム層のみを除去
し、光はくり性感光層を露出せしめ、画線部とす
るものである。
着方法に関するものである。十数年ほど前からシ
リコーンゴムをインキ反撥層として湿し水を用い
ずに平版印刷を行なうための版の研究が始められ
ている。例えば特公昭44−23042号はインキ反撥
層としてシリコーンゴムを用いることを示した最
初の技術であり、その後も種々の構成による湿し
水不要平版印刷に関する特許出願がなされてい
る。かかる湿し水不要平版印刷版のなかで、支持
体に裏打ちされた感光層上にシリコーンゴム層を
塗設してなるネガテイブワーキング用湿し水不要
平版印刷版については過去にいくつかの提案がな
されている。例えば、特願昭54−156871において
は、支持体に裏打ちされた光はくり性感光層の上
にシリコーンゴム層を設ける予備増感された平版
印刷版が提案されている。ここに提案された印刷
版は、ネガフイルムを通して活性光線で露光し、
露光部の感光層を変化せしめ、現像液を用いて実
質的に露光部分のシリコーンゴム層のみを除去
し、光はくり性感光層を露出せしめ、画線部とす
るものである。
しかし、かかる版構成では、未露光部で非画線
部となつているシリコーンゴム層を保持している
光はくり性感光層の感光性物質は、現像以降もそ
の感光性を保つており、太陽光あるいは室内螢光
灯により感光し変化する。一方、印刷版は印刷工
程における版面洗浄あるいは印刷インキとの接触
などにおいて現像液に類似の有機溶媒に触れる機
会が考えられ、この場合、現像工程までにいかに
良好な画像再現が得られていても、それ以降に再
露光を受けると、現像液に類似の有機溶媒により
非画線部を形成しているシリコーン層がはくり、
脱落し、版面での画像再現性が保持できなくなる
という致命的欠陥を持つている。
部となつているシリコーンゴム層を保持している
光はくり性感光層の感光性物質は、現像以降もそ
の感光性を保つており、太陽光あるいは室内螢光
灯により感光し変化する。一方、印刷版は印刷工
程における版面洗浄あるいは印刷インキとの接触
などにおいて現像液に類似の有機溶媒に触れる機
会が考えられ、この場合、現像工程までにいかに
良好な画像再現が得られていても、それ以降に再
露光を受けると、現像液に類似の有機溶媒により
非画線部を形成しているシリコーン層がはくり、
脱落し、版面での画像再現性が保持できなくなる
という致命的欠陥を持つている。
かかる問題点を解決するために、本発明者らは
支持体上に光はくり性感光層、シリコーンゴム層
をこの順に塗設してなる構成を持つ湿し水不要ネ
ガ型平版印刷版において露光・現像後、定着する
方法について鋭意検討した結果本発明に到達し
た。即ち、本発明は、支持体、該支持体上に設け
られた光はくり性感光層、ならびに該光はくり性
感光層上に設けられたシリコーンゴム層からなる
湿し水不要ネガ平版印刷原版を露光後、現像によ
つて実質的に露光部分のシリコーンゴム層のみを
除去してなる印刷版を熱処理することを特徴とす
る湿し水不要ネガ型平版印刷版の定着方法に関す
るものである。
支持体上に光はくり性感光層、シリコーンゴム層
をこの順に塗設してなる構成を持つ湿し水不要ネ
ガ型平版印刷版において露光・現像後、定着する
方法について鋭意検討した結果本発明に到達し
た。即ち、本発明は、支持体、該支持体上に設け
られた光はくり性感光層、ならびに該光はくり性
感光層上に設けられたシリコーンゴム層からなる
湿し水不要ネガ平版印刷原版を露光後、現像によ
つて実質的に露光部分のシリコーンゴム層のみを
除去してなる印刷版を熱処理することを特徴とす
る湿し水不要ネガ型平版印刷版の定着方法に関す
るものである。
本発明で用いられる光はくり性感光層とは特願
昭54−156871で提案されたようなものからなるも
のである。
昭54−156871で提案されたようなものからなるも
のである。
即ち、光はくり性感光層とは、現像により、露
光部感光層が実質的に除去されることなく、その
上のシリコーンゴム層が除去されるものである。
光部感光層が実質的に除去されることなく、その
上のシリコーンゴム層が除去されるものである。
このような光はくり性感光層は、公知の光可溶
化型感光性化合物を多官能化合物で架橋せしめる
か、あるいは光可溶化型感光性化合物中の活性基
を単官能化合物と結合するなどして変性し、現像
液に難溶もしくは不溶とすることにより得られ
る。ここでいう光可溶化型感光性化合物として
は、通常ポジ型PS版、ワイポン版、フオトレジ
ストなどに用いられているキノンジアジド類、例
えばベンゾキノン−1,2−ジアジドスルホン酸
とポリヒドロキシフエニルとのエステル、ナフト
キノン−1,2−ジアジドスルホン酸とピロガロ
ールアセトン樹脂とのエステル、ナフトキノン−
1,2−ジアジドスルホン酸とフエノールホルム
アルデヒドノボラツク樹脂とのエステルなど、あ
るいはジアゾ化合物の無機酸や有機酸とのコンプ
レツクス、例えばジアゾフエニルアミンとリンタ
ングステン酸との感光性コンプレツクスなどがあ
げられる。
化型感光性化合物を多官能化合物で架橋せしめる
か、あるいは光可溶化型感光性化合物中の活性基
を単官能化合物と結合するなどして変性し、現像
液に難溶もしくは不溶とすることにより得られ
る。ここでいう光可溶化型感光性化合物として
は、通常ポジ型PS版、ワイポン版、フオトレジ
ストなどに用いられているキノンジアジド類、例
えばベンゾキノン−1,2−ジアジドスルホン酸
とポリヒドロキシフエニルとのエステル、ナフト
キノン−1,2−ジアジドスルホン酸とピロガロ
ールアセトン樹脂とのエステル、ナフトキノン−
1,2−ジアジドスルホン酸とフエノールホルム
アルデヒドノボラツク樹脂とのエステルなど、あ
るいはジアゾ化合物の無機酸や有機酸とのコンプ
レツクス、例えばジアゾフエニルアミンとリンタ
ングステン酸との感光性コンプレツクスなどがあ
げられる。
このような光可溶化型感光性化合物に架橋構造
を導入せしめる方法としては、該感光性化合物が
有する反応性基、例えば水酸基、アミノ基などを
多官能性の架橋剤で架橋せしめる方法があげられ
る。
を導入せしめる方法としては、該感光性化合物が
有する反応性基、例えば水酸基、アミノ基などを
多官能性の架橋剤で架橋せしめる方法があげられ
る。
架橋剤としては多官能性イソシアナート類、例
えば、パラフエニレンジイソシアナート、2,4
−または2,6−トルエンジイソシアナート、
4,4−ジフエニルメタンジイソシアナート、ヘ
キサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイ
ソシアナート、もしくはこれらのアダクト体な
ど、或いは多官能エポキシ化合物、例えばポリエ
チレングリコールジクリシジルエーテル類、ポリ
プロピレングリコールジグリシジルエーテル類、
ビスフエノールAジグリシジルエーテル、トリメ
チロールプロパントリグリシジルエーテルなどが
ある。これらの熱硬化は感光性物質の感光性を失
わせない範囲、通常130℃以下で行う必要があり、
このために触媒等が併用される。
えば、パラフエニレンジイソシアナート、2,4
−または2,6−トルエンジイソシアナート、
4,4−ジフエニルメタンジイソシアナート、ヘ
キサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイ
ソシアナート、もしくはこれらのアダクト体な
ど、或いは多官能エポキシ化合物、例えばポリエ
チレングリコールジクリシジルエーテル類、ポリ
プロピレングリコールジグリシジルエーテル類、
ビスフエノールAジグリシジルエーテル、トリメ
チロールプロパントリグリシジルエーテルなどが
ある。これらの熱硬化は感光性物質の感光性を失
わせない範囲、通常130℃以下で行う必要があり、
このために触媒等が併用される。
また光可溶化型感光性化合物に、現像液に難溶
もしくは不溶の成分を導入する方法としては、同
様に該感光性化合物の活性な基を、例えばエステ
ル化、アミド化、ウレタン化することなどがあげ
られる。感光性化合物の活性な基と反応させる化
合物としては低分子であつても、比較的高分子で
あつても良いし、感光性化合物にモノマをグラフ
ト重合させても良い。
もしくは不溶の成分を導入する方法としては、同
様に該感光性化合物の活性な基を、例えばエステ
ル化、アミド化、ウレタン化することなどがあげ
られる。感光性化合物の活性な基と反応させる化
合物としては低分子であつても、比較的高分子で
あつても良いし、感光性化合物にモノマをグラフ
ト重合させても良い。
本発明で用いられる感光層として特に好ましい
ものは、ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラ
ツク樹脂の部分エステル化物を多官能もしくは単
官能イソシアネートで架橋もしくは変性して得ら
れる。
ものは、ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラ
ツク樹脂の部分エステル化物を多官能もしくは単
官能イソシアネートで架橋もしくは変性して得ら
れる。
光はくり性感光層の厚さは約0.1〜100μ、好ま
しくは約0.5〜10μが適当で、薄すぎると塗工時に
ピンホール等の欠陥が生じ易くなり、一方厚すぎ
ると経済的見地から不利である。
しくは約0.5〜10μが適当で、薄すぎると塗工時に
ピンホール等の欠陥が生じ易くなり、一方厚すぎ
ると経済的見地から不利である。
また感光層中には本発明の効果を損わない範囲
で塗膜形成性向上や支持体との接着性向上などの
目的で他成分を加えたり、また現像時あるいは露
光時に画像を可視化するために染料などを加えた
りすることは可能である。
で塗膜形成性向上や支持体との接着性向上などの
目的で他成分を加えたり、また現像時あるいは露
光時に画像を可視化するために染料などを加えた
りすることは可能である。
本発明に用いられるシリコーンゴム層は、次の
ようなくり返し単位を有する分子量数千〜数十万
の線状有機ポリシロキサンを主成分とする。
ようなくり返し単位を有する分子量数千〜数十万
の線状有機ポリシロキサンを主成分とする。
ここでnは1以上の整数、Rは炭素数1〜10の
アルキル基、アルケニル基あるいはフエニル基で
あり、Rの60%以上がメチル基であるものが好ま
しい。このような線状有機ポリシロキサンは有機
過酸化物を添加して熱処理等を施すことにより、
まばらに架橋しシリコーンゴムとすることも可能
である。
アルキル基、アルケニル基あるいはフエニル基で
あり、Rの60%以上がメチル基であるものが好ま
しい。このような線状有機ポリシロキサンは有機
過酸化物を添加して熱処理等を施すことにより、
まばらに架橋しシリコーンゴムとすることも可能
である。
この線状有機ポリシロキサンにはまた架橋剤が
添加される。架橋剤としては、いわゆる室温(低
温)硬化型のシリコーンゴムに使われるものとし
て、アセトキシシラン、ケトオキシムシラン、ア
ルコキシシラン、アミノシラン、アミドシランな
どがあり、通常線状有機ポリシロキサンとして末
端が水酸基であるものとくみ合わせて、各々脱酢
酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン
型、脱アミド型のシリコーンゴムとなる。これら
のシリコーンゴムには、更に触媒として少量の有
機スズ化合物等が添加されるのが一般的である。
添加される。架橋剤としては、いわゆる室温(低
温)硬化型のシリコーンゴムに使われるものとし
て、アセトキシシラン、ケトオキシムシラン、ア
ルコキシシラン、アミノシラン、アミドシランな
どがあり、通常線状有機ポリシロキサンとして末
端が水酸基であるものとくみ合わせて、各々脱酢
酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン
型、脱アミド型のシリコーンゴムとなる。これら
のシリコーンゴムには、更に触媒として少量の有
機スズ化合物等が添加されるのが一般的である。
シリコーンゴム層の厚さは、約0.5〜100μ、好
ましくは約0.5〜10μが適当であり、薄すぎる場合
は耐刷力の点で問題を生じることがあり、一方厚
すぎる場合は経済的に不利であるばかりでなく、
現像時シリコーンゴム層を除去するのが困難とな
り画像再現性の低下をもたらす。
ましくは約0.5〜10μが適当であり、薄すぎる場合
は耐刷力の点で問題を生じることがあり、一方厚
すぎる場合は経済的に不利であるばかりでなく、
現像時シリコーンゴム層を除去するのが困難とな
り画像再現性の低下をもたらす。
本発明の平版印刷版において、支持体と感光
層、感光層とシリコーンゴム層との接着は、画像
再現性、耐刷力などの基本的な版性能にとり、非
常に重要であるので、必要に応じて各層間に接着
剤層を設けたり、各層に接着改良性成分を添加し
たりすることが可能である。特に感光層とシリコ
ーンゴム層間の接着のために、層間に公知のシリ
コーンプライマやシランカツプリング剤層を設け
たり、シリコーンゴム層あるいは感光層にシリコ
ーンプライマやシランカツプリング剤を添加する
と効果的である。
層、感光層とシリコーンゴム層との接着は、画像
再現性、耐刷力などの基本的な版性能にとり、非
常に重要であるので、必要に応じて各層間に接着
剤層を設けたり、各層に接着改良性成分を添加し
たりすることが可能である。特に感光層とシリコ
ーンゴム層間の接着のために、層間に公知のシリ
コーンプライマやシランカツプリング剤層を設け
たり、シリコーンゴム層あるいは感光層にシリコ
ーンプライマやシランカツプリング剤を添加する
と効果的である。
支持体としては、通常の平版印刷機にセツトで
きるたわみ性と印刷時に加わる荷重に耐えうるも
のでなければならない。代表的なものとしてはア
ルミ、銅、鋼等の金属板、ポリエチレンテレフタ
レートのようなプラスチツクフイルムあるいはコ
ート紙等があげられる。これらのシート上にハレ
ーシヨン防止その他の目的でさらにコーテイング
を施して支持体とすることも可能である。
きるたわみ性と印刷時に加わる荷重に耐えうるも
のでなければならない。代表的なものとしてはア
ルミ、銅、鋼等の金属板、ポリエチレンテレフタ
レートのようなプラスチツクフイルムあるいはコ
ート紙等があげられる。これらのシート上にハレ
ーシヨン防止その他の目的でさらにコーテイング
を施して支持体とすることも可能である。
以上説明したようにして構成された湿し水不要
の平版印刷版の表面を形成するシリコーンゴム層
を保護するなどの目的で、シリコーンゴム層の表
面に薄い保護フイルムをラミネートすることもで
きる。
の平版印刷版の表面を形成するシリコーンゴム層
を保護するなどの目的で、シリコーンゴム層の表
面に薄い保護フイルムをラミネートすることもで
きる。
以上説明したように本発明に用いられる湿し水
不要の平版印刷版は、例えば次のようにして製造
される。まず支持体のうえに、リバースロールコ
ータ、エアーナイフコータ、メーヤバーコータな
どの通常のコータあるいはホエラーのような回転
塗布装置を用い感光層を構成すべき組成物溶液を
塗布、乾燥および必要に応じて熱キユア後、必要
ならば該感光層のうえに同様な方法で接着層を塗
布、乾燥後、シリコーンガム溶液を接着層上に同
様の方法で塗布し、通常100〜120℃の温度で数分
間熱処理して、十分に硬化せしめてシリコーンゴ
ム層を形成する。必要ならば、保護フイルムを該
シリコーンゴム層上にラミネーター等を用いカバ
ーする。
不要の平版印刷版は、例えば次のようにして製造
される。まず支持体のうえに、リバースロールコ
ータ、エアーナイフコータ、メーヤバーコータな
どの通常のコータあるいはホエラーのような回転
塗布装置を用い感光層を構成すべき組成物溶液を
塗布、乾燥および必要に応じて熱キユア後、必要
ならば該感光層のうえに同様な方法で接着層を塗
布、乾燥後、シリコーンガム溶液を接着層上に同
様の方法で塗布し、通常100〜120℃の温度で数分
間熱処理して、十分に硬化せしめてシリコーンゴ
ム層を形成する。必要ならば、保護フイルムを該
シリコーンゴム層上にラミネーター等を用いカバ
ーする。
このようにして製造された湿し水不要の平版印
刷版は、例えば真空密着されたネガフイルムを通
して活性光線に露光される。この露光工程で用い
られる光源は、紫外線を豊富に発生するものであ
り、水銀灯、カーボンアーク灯、キセノンラン
プ、メタルハライドランプ、螢光灯などを使うこ
とができる。
刷版は、例えば真空密着されたネガフイルムを通
して活性光線に露光される。この露光工程で用い
られる光源は、紫外線を豊富に発生するものであ
り、水銀灯、カーボンアーク灯、キセノンラン
プ、メタルハライドランプ、螢光灯などを使うこ
とができる。
次いで版面を現像液を含んだ現像用パツドでこ
すると露光部のシリコーンゴム層のみが除去さ
れ、架橋されたり、変性されることにより現像液
に不溶である感光層は実質的にその厚みを減じる
ことなく残存し、その露出した感光層表面がイン
キ受容部となる。
すると露光部のシリコーンゴム層のみが除去さ
れ、架橋されたり、変性されることにより現像液
に不溶である感光層は実質的にその厚みを減じる
ことなく残存し、その露出した感光層表面がイン
キ受容部となる。
本発明において用いられる現像液としては、シ
リコーンゴムを膨潤させ得る脂肪族炭化水素類
(ヘキサン、ヘプタンあるいはガソリン、灯油な
ど)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレンな
ど)あるいはハロゲン化炭化水素類(トリクレン
など)に下記の極性溶媒を添加したものが好適で
ある。
リコーンゴムを膨潤させ得る脂肪族炭化水素類
(ヘキサン、ヘプタンあるいはガソリン、灯油な
ど)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレンな
ど)あるいはハロゲン化炭化水素類(トリクレン
など)に下記の極性溶媒を添加したものが好適で
ある。
アルコール類(メタノール、エタノールなど)
エーテル類(エチルセロソルブ、ジオキサンな
ど) ケトン類(アセトン、メチルエチルケトンな
ど) エステル類(酢酸エチル、セロソルブアセテー
トなど) このようにして現像された印刷版は、好ましく
は約120℃以上、より好ましくは約130℃〜220℃
の温度で熱処理することで定着され、再露光され
ても再露光部のシリコーン層が、現像剤等の有機
溶媒で侵されることはなくなる。この場合、温度
が低すぎる時は定着が行なわれないかあるいは定
着されるに要する熱処理時間が極めて長くかかり
実用的でない。通常熱処理時間は好ましくは10分
以内、より好ましくは2〜5分以内が選ばれる。
また熱処理温度が高すぎる場合は、定着作用とい
う点からは何ら問題はないが、印刷版支持体の変
形をもたらすとともに経済的な面で不利を招く。
ど) ケトン類(アセトン、メチルエチルケトンな
ど) エステル類(酢酸エチル、セロソルブアセテー
トなど) このようにして現像された印刷版は、好ましく
は約120℃以上、より好ましくは約130℃〜220℃
の温度で熱処理することで定着され、再露光され
ても再露光部のシリコーン層が、現像剤等の有機
溶媒で侵されることはなくなる。この場合、温度
が低すぎる時は定着が行なわれないかあるいは定
着されるに要する熱処理時間が極めて長くかかり
実用的でない。通常熱処理時間は好ましくは10分
以内、より好ましくは2〜5分以内が選ばれる。
また熱処理温度が高すぎる場合は、定着作用とい
う点からは何ら問題はないが、印刷版支持体の変
形をもたらすとともに経済的な面で不利を招く。
上記熱処理によつて定着作用が得られることに
ついて、必ずしもその作用機構は明らかでない
が、熱処理温度においてオルトキノンジアジド化
合物が熱変性され、光はくりに寄与する能力を失
なうものと考えられる。
ついて、必ずしもその作用機構は明らかでない
が、熱処理温度においてオルトキノンジアジド化
合物が熱変性され、光はくりに寄与する能力を失
なうものと考えられる。
本発明によつて得られる効果としては例えば次
のようなものがあげられる。
のようなものがあげられる。
(1) 感光層の耐容剤性の増大
(2) 感光層−シリコーンゴム層間の接着力の増大
以上のような効果によつて刷版の耐溶剤性、耐
刷性は飛躍的に向上する。
刷性は飛躍的に向上する。
以下に実施例をあげて本発明を詳細に説明す
る。
る。
実施例1 比較例1
(A) 住友金属製、化成処理アルミ板(厚さ0.3mm)
に下記の感光層組成物を回転塗布し、120℃、
2分加熱処理して厚さ2.6μの感光層を設けた。
に下記の感光層組成物を回転塗布し、120℃、
2分加熱処理して厚さ2.6μの感光層を設けた。
(a) エステル化度44%のフエノールボラツク樹
脂(スミライトレジンPR50235、住友デユレ
ンス製)のナフトキノン−1,2−ジアジド
−5−スルホン酸エステル 100部 (b) 4,4′−ジフエニルメタンジイソシアナー
ト 20部 (c) ジブチル錫ジラウレート 0.2部 (d) メチルセロソルブアセテート 2000部 続いてこの上に下記の組成のシリコーンゴム組
成物を回転塗布後、120℃,2分で加熱硬化して
厚み2.2μのシリコーンゴム層を設けた。
脂(スミライトレジンPR50235、住友デユレ
ンス製)のナフトキノン−1,2−ジアジド
−5−スルホン酸エステル 100部 (b) 4,4′−ジフエニルメタンジイソシアナー
ト 20部 (c) ジブチル錫ジラウレート 0.2部 (d) メチルセロソルブアセテート 2000部 続いてこの上に下記の組成のシリコーンゴム組
成物を回転塗布後、120℃,2分で加熱硬化して
厚み2.2μのシリコーンゴム層を設けた。
(a) ジメチルポリシロキサン(分子量
約80000、末満水酸基) 100部
(b) エチルトリアセトキシシラン 5部
(c) ジブチル錫ジアセテート 0.2部
(d) γ−アミノプロピルトリエトキシシラン 3部
(e) アイソパーE 1650部
上記のようにして得られた印刷原版に、175線
の網点画像を有するネガフイルムを、常法に従つ
て真空密着し、メタルハライドランプを用いて画
像露光を施した。続いてこの版をエタノール/ア
イソパーE(エツソ化学製)(20/80)混合液に浸
漬し現像パツドで軽くこすると、露光部のシリコ
ーンゴム層が除去されて感光層表面が露出し、原
画フイルムに忠実な画像が得られた。
の網点画像を有するネガフイルムを、常法に従つ
て真空密着し、メタルハライドランプを用いて画
像露光を施した。続いてこの版をエタノール/ア
イソパーE(エツソ化学製)(20/80)混合液に浸
漬し現像パツドで軽くこすると、露光部のシリコ
ーンゴム層が除去されて感光層表面が露出し、原
画フイルムに忠実な画像が得られた。
この版を熱風オーブン中180℃,6分間熱処理
して定着を行つた。それからメタルハライドラン
プで全面再露光し、エタノールまたは上記現像液
で版面をこすつたが、版の画像は、熱処理前の画
像と比べて何ら変化がみられなかつた。一方熱処
理されていない版はシリコーンゴム層がはがれて
版面の損傷がみられた。
して定着を行つた。それからメタルハライドラン
プで全面再露光し、エタノールまたは上記現像液
で版面をこすつたが、版の画像は、熱処理前の画
像と比べて何ら変化がみられなかつた。一方熱処
理されていない版はシリコーンゴム層がはがれて
版面の損傷がみられた。
実施例2 比較例2
厚み0.24mmのアルミ板(住友軽金属製)にレゾ
ール樹脂(スミライトレジンPC−1、住友デユ
レズ製)を2μの厚みに塗布し、180℃,3分間キ
ユアして支持体とした。この支持体上に下記の感
光層組成物を回転塗布、120℃,2分間加熱硬化
させ、厚み2.4μの感光層を設けた。
ール樹脂(スミライトレジンPC−1、住友デユ
レズ製)を2μの厚みに塗布し、180℃,3分間キ
ユアして支持体とした。この支持体上に下記の感
光層組成物を回転塗布、120℃,2分間加熱硬化
させ、厚み2.4μの感光層を設けた。
(a) フエノールノボラツク樹脂のナフトキノン−
1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
(実施例1のもの) 100部 (b) 2,6−トルエンジイソシアナート 20部 (c) ジブチル錫ジラウレート 0.2部 (d) ジオキサン 2000部 この上にγ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン(ユニオンカーバイド製、“A1100”0.5重量%
“アイソパーE”(エツソ製)溶液をホエラーで回
転塗布し、1日放置後 この上に下記の組成を持つシリコーンゴム組成
液を回転塗布し、120℃,2分間加熱硬化させて
2.1μのシリコーンゴム層を設けた。
1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
(実施例1のもの) 100部 (b) 2,6−トルエンジイソシアナート 20部 (c) ジブチル錫ジラウレート 0.2部 (d) ジオキサン 2000部 この上にγ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン(ユニオンカーバイド製、“A1100”0.5重量%
“アイソパーE”(エツソ製)溶液をホエラーで回
転塗布し、1日放置後 この上に下記の組成を持つシリコーンゴム組成
液を回転塗布し、120℃,2分間加熱硬化させて
2.1μのシリコーンゴム層を設けた。
(a) ジメチルポリシロキサン(分子量約80000、
末端水酸基) 100部 (b) ビニルトリ(メチルエチルケトキシム)シラ
ン 8部 (c) ジブチル錫ジアセテート 0.2部 (d) アイソパーE 1800部 上記のようにして得られた印刷原版に真空密着
した150線の網点画像を持つネガフイルムを通し
てメタルハライドランプを用い1mの距離から60
秒露光した。
末端水酸基) 100部 (b) ビニルトリ(メチルエチルケトキシム)シラ
ン 8部 (c) ジブチル錫ジアセテート 0.2部 (d) アイソパーE 1800部 上記のようにして得られた印刷原版に真空密着
した150線の網点画像を持つネガフイルムを通し
てメタルハライドランプを用い1mの距離から60
秒露光した。
現像液(アイソパーE/エタノール=9/1)
に浸漬し、現像パツドで軽くこすると露光部シリ
コーンゴム層のみが除去され、ネガフイルムの画
像を忠実に再現した感光層の露出した印刷版が得
られた。
に浸漬し、現像パツドで軽くこすると露光部シリ
コーンゴム層のみが除去され、ネガフイルムの画
像を忠実に再現した感光層の露出した印刷版が得
られた。
この印刷版を160℃10分間熱処理した後、10
g/cm2の荷重をかけ、UVインキ“ダイキユア”
用ローラ洗い油(大日本インキ製)に浸漬させた
“ソフパツド”(大日本スクリーン発売)付きヘツ
ドを備えた摩擦試験機でこすりテストを行なつた
ところ、往復500回の摩擦試験ではシリコーンゴ
ム層のはくりがみられなかつた。一方、熱処理し
ない印刷版は100〜300回の往復こすり回数でシリ
コーンゴム層のはくりが認められた。
g/cm2の荷重をかけ、UVインキ“ダイキユア”
用ローラ洗い油(大日本インキ製)に浸漬させた
“ソフパツド”(大日本スクリーン発売)付きヘツ
ドを備えた摩擦試験機でこすりテストを行なつた
ところ、往復500回の摩擦試験ではシリコーンゴ
ム層のはくりがみられなかつた。一方、熱処理し
ない印刷版は100〜300回の往復こすり回数でシリ
コーンゴム層のはくりが認められた。
Claims (1)
- 1 支持体、該支持体上に設けられた光はくり性
感光層、ならびに該光はくり性感光層上に設けら
れたシリコーンゴム層からなる湿し水不要ネガ型
平版印刷原版を露光後、実質的に露光部分のシリ
コーンゴム層のみを除去してなる印刷版を熱処理
することを特徴とする湿し水不要ネガ型平版印刷
版の定着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7797581A JPS57192957A (en) | 1981-05-25 | 1981-05-25 | Fixing method for moistening-unrequired negative type lithography printing board |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7797581A JPS57192957A (en) | 1981-05-25 | 1981-05-25 | Fixing method for moistening-unrequired negative type lithography printing board |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57192957A JPS57192957A (en) | 1982-11-27 |
| JPH0145625B2 true JPH0145625B2 (ja) | 1989-10-04 |
Family
ID=13648891
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7797581A Granted JPS57192957A (en) | 1981-05-25 | 1981-05-25 | Fixing method for moistening-unrequired negative type lithography printing board |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57192957A (ja) |
-
1981
- 1981-05-25 JP JP7797581A patent/JPS57192957A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57192957A (en) | 1982-11-27 |
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