JPS63226945A - 保護回路 - Google Patents

保護回路

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JPS63226945A
JPS63226945A JP62060393A JP6039387A JPS63226945A JP S63226945 A JPS63226945 A JP S63226945A JP 62060393 A JP62060393 A JP 62060393A JP 6039387 A JP6039387 A JP 6039387A JP S63226945 A JPS63226945 A JP S63226945A
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JP
Japan
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metal film
layer
protective
pad
polycrystalline silicon
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JP62060393A
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JPH069205B2 (ja
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Makoto Segawa
瀬川 真
Kenichi Nakamura
健一 中村
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D89/00Aspects of integrated devices not covered by groups H10D84/00 - H10D88/00
    • H10D89/60Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD]
    • H10D89/601Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD] for devices having insulated gate electrodes, e.g. for IGFETs or IGBTs
    • H10D89/911Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD] for devices having insulated gate electrodes, e.g. for IGFETs or IGBTs using passive elements as protective elements

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  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的コ (産業上の利用分野) 本発明は保護回路に関し、特に集積回路への外部からの
接続部に使用されるものである。
(従来の技術) 一般に保護回路の抵抗を形成している多結晶シリコンは
、高電界になりやすい縁の部分が静電破壊をおこす。そ
こで第2図に示すように、多結晶シリコン(入力保護抵
抗)層11をパッド121と同電位の金属膜12−で覆
い上記縁の部分の高電界を緩和し、静電破壊を防ぐ方法
が知られている。第2図において123は集積回路内部
のトランジスタと接続され金属膜122と同層ノーの金
属膜、13は金属Kl 2*  e 123と多結晶シ
リコンノー11とを侭続するコンタクトホールである。
(発明が解決しようとする問題点) ところで抵抗を形成している多結晶シリコン層11から
金属配置!!123を引き出した場合、この金属配線1
23の近傍(t#にコンタクト13の近傍)では、金属
膜122と123とが同一階層であるため、電界緩和用
の金属膜123によって抵抗用多結晶シリコンJ@11
を榎うことができなくなる。このため多結晶シリコン層
1ノから金属配線123を引き出す個所の近傍が静電破
壊に弱くなる問題があった。
本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、保護抵抗ノ
ーでの静電破壊を防止でき、静電耐圧の高い保護回路を
提供しよう七するものである。
[発明の構成コ (問題点を解決するための手段と作用)本発明は、半導
体集積回路のパッドに接続される保護抵抗ノーと、この
抵抗ノーの少くとも周辺上を覆いかつ前記バットと同様
の電位を有する第1の金mgと、#記抵抗ノーから引き
出され前記第1゛の金M4IIgとは階ノーの異なる第
2の金属膜とを具備したことを特徴とする。即ち本発明
は、多結晶シリコン等の保護抵抗ノーから引き出す金属
配縁と、電界緩和用の金属膜とを別々のノーに形成して
、多結晶シリコン等の保譲疵抗層の周辺部分を全てパッ
ドと同電位の金属膜で覆うことによって上記周辺部分の
全てにわたり高電界を緩和し、静電耐圧の高い保護回路
を得るものである。
(実施例) 以下図面を参照して本発明の一実施例を説明する。第1
図は同実施例のパターン平面図である。
図において2ノは保護抵抗となる多結晶シリコン層、2
21.221は第1層目の金属膜、23は第2層目の金
属膜で、集積回路内部のトランゾスタに接続される。2
4は多結晶シリコンノー2ノと第1層目の金属膜22.
とを接続するためのコンタクトホール、252は第1層
目の金属膜222と第2層目の金属1!X23とを接続
するためのコンタクトホールである。
第1図において、第1層目の金属膜221は静電破壊に
対する保護膜に用いられ、第1層目の金M膜223は多
結晶シリコン層2ノと第2層目の金属膜23とを接続す
るための媒体に用いられ、第21−目の金属膜23は多
結晶シリコン層21から信号を引き出す配線として用い
られる。ポリシリコン層21.第1層目金属膜221,
222 。
第2層目金属膜23の階層関係は、一番下(半導体基板
に一番近い側〕がポリシリコン層21・第2層目金属膜
23が一番上、第1ノー目金属膜22122□か前記両
者の中間に位置すると考えてよいこのような第1図の構
造にすると、多結晶シリコン層2ノの緑の部分を全て金
属膜221 で穂うことができる。
なお本発明は実施例のみに限られず、a[々の応用が可
能である。例えば実施例では、保護抵抗として多結晶シ
リコンを用いたが、これのみに限られず、例えば半導体
基板上に不純物拡散でつくったN型、P撤半導体によっ
てつくった抵抗を用いてもよい。また入カトランノスタ
配If1123とパッド223 (第1層目金m膜〕の
上下関係は、実施例の場合とは逆でもよい。
[発明の効果] 以上説明した如く本発明によれば、保護抵抗層の周辺上
の部分を金属膜により全て榎うことができるので、従来
よシも静電耐圧の尚り保護回路を提供することができる
ものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示すパターン平面図、第2
図は従来例のパターン平面図である。 2ノ・・・多結晶シリコン)*、zxl 、2z2・・
、第1層目金属膜、223・・・パッド(第1層目金属
膜)、23・・・第2層目金属膜、24 、251.2
5.・・・コンタクトホール。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体集積回路のパッドに接続される保護抵抗層
    と、この抵抗層の少くとも周辺上を覆いかつ前記パッド
    と同様の電位を有する第1の金属膜と、前記抵抗層から
    引き出され前記第1の金属膜とは階層の異なる第2の金
    属膜とを具備したことを特徴とする保護回路。
  2. (2)前記第2の金属膜は前記半導体集積回路のトラン
    ジスタに接続されることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項に記載の保護回路。
  3. (3)前記パッドは、前記抵抗層上の第1の金属膜と連
    続する第1の金属膜であることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項に記載の保護回路。
  4. (4)前記第1の金属膜は、前記抵抗層上の少くとも周
    辺全体を覆うものであることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項に記載の保護回路。
JP62060393A 1987-03-16 1987-03-16 保護回路 Expired - Fee Related JPH069205B2 (ja)

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