JPS63227787A - ほうろう粉体静電施釉方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はほうろう柚楽に＃電気力を与え、その吸引力で
施釉を行う、はうろう靜篭施釉法に保シ、ｔＰ！ｊＶｃ
均一な膜厚を得るのｆ（浚れた施釉方法に関するもので
ある。

〔従来の技術〕

従来のほうろう施釉は平板の外向又はバスタブのような
開放した形状の円面を施釉するものでめったため、特囲
昭ｊＯ−１６１５１３に記載のように施釉面を水平に保
持し、施釉ガンに対し固定した状態に保つ方法であった
。しかしこの方法では筒状又は球状容器の内面（Ｃはり
ろう皮１！Ｉｌｆ：均一に塗着させる事につ−ては配慮
されていなかった〔発明が解決しようとする問題点〕 上記従来技術はほうろう靜電施醜法を用いて筒状又は球
状容器の内面にほうろう皮膜を均一に形成させる点につ
いては配慮がされてンらず、膜厚不均一となり溶解寿命
にばらつきが生じる問題があった。本発明の目的はこう
した筒状又は球状溶器の内面に、膜厚が均一なほうろう
皮膜を、はうろう静電施釉方法を用いて得ることを目的
とすることにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記の目的は靜寛施柚中に被施釉容器を静かにゆつくり
した速度で連続的に回転させることにより、達成される
。

〔作用〕

施釉ガンから吐出される軸系は円周方向において必ずし
も均一でなり。被施釉容器金ゆっくり回転させることは
、この円周方向における吐出不均−の影響を少なくして
、膜厚を均一にすることとなるので品質が安定する。

被施釉容器である缶体は回転ローラの厚韻力によつて回
転してフリ、この回転中に下部挿入口から挿入した靜電
施袖用ガンから釉＃＆を噴霧し、缶体内壁１１ｉｉに施
釉する。

〔実施例〕

以下本発明の一実施例を第１図および第２図により説明
する。コンベア１４ｖｃＦｉ板施猶容＃１が吊具２３に
より吊下げられている。施釉ガン１５は容器１の下側に
設けた開口部１０から容器内部へ差込み、施ｍを行う。

°１７は床面で、この床面にはハウジング１８が固定さ
れている。３３は先端に施釉ガン１５を備えたロッドで
上下方向に移動可能にハウジング１８ｖｃ挿入されてい
る。１９は装置の壁面で、シリンダハウジング３０が固
定されており、該シリンダハウジング３０の−６Ｖｃｉ
ｄロッド３１，３２が挿入されており、このロッドのど
ちらか一方、または、両方が用人自在に挿入されている
。

被施釉容器は吊具２３に吊下げ、搬送コンベア１４で運
搬されるが、施釉場所においてｒｉ容器の前后からロー
ラ２１がホルダー２０と共１Ｃ前進して缶体の掘れを止
める。このロー：）２１の一方はフリーで回転するが他
の一方ｒｚ＊励テ、−ン２５を介して駆動モータ２４ｖ
ｃ連結されており、容器をゆっくり回転させる。この容
器の回転は、施釉が行われている間、連続して行う。

この回転する速度は、施釉する容器の大きさによって、
異なりてくるが、大体５〜４　Ｑ　ｒｐｍ位が適切であ
る。回転速度が藁くなると内部の噴務釉業のガンから被
塗着面までの飛来軌跡が乱れ、塗層効率が悪くなると共
に膜厚の均一性も低下する。又、−回塗着した釉薬もず
シ落ちる可能性も生じる。反対に回転速度が遅い場合に
は回転を与えた効果が表われず、静止した状態で施釉し
たのと同じ結果となる。

本実施例によれば容器内部の膜厚が均一にできるので品
質を向上させかつ安定させる効果がある例えば容器を回
転させない場合の膜厚は円周方向で４０〜５０μのばら
つきを生じるが、回転を与えることによシ１０μ以下に
することが可能となった。

〔発明の効果〕

本発明によれば、容器内部の施釉膜厚を均一にできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の施油装置の縦断面図、第２
図は缶体の回転装置の平面図である。 １・・・缶体　　１０・・・挿入口　　１４・・・コン
ベア１５・・・ｆ＃電電施釉ガン　　２０・・・回転装
置２１・・・回転ローラ　　２４・・・回転用モータ２
５・・・駆動チェーン。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 筒状および球状等の容器内面にほうろう粉体釉薬を静電
   施釉する場合において、被施釉容器を回転させながら施
   釉を行うことを特徴とするほうろう粉体静電施釉方法。