JPS63264565A - エチニルシクロヘキセン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はゼアキサンチン及びゼアキサンチンの合成にお
ける中間体の新規な製造方法並びに該方法における新規
なエチニルシクロヘキセン誘導体に関する。

イソホロン、ケトイソホロンまたはその誘導体から出発
するゼアキサンチンの種々な製造方法がすでに文献に記
載されている。しかしながら、公知の方法はある欠点、
例えば全体に大多数の工程または問題の個々の工程を有
し、全体に不満足な収量を与える。

ゼアキサンチン及びゼアキサンチン中間体の製造に対す
る本発明における方法は一般式式中　Ｒ１はヒドロキシ
またはエーテル化されたヒドロキシ基を表わす、 の化合物を不活性有機溶媒中でアセチレニドに転化し、
そしてこのものをメチルヒニルケトンと反応させ、得ら
れる一般式 式中、Ｒ１は上記の意味を有する、 ノアルコレートまたはアルコール（アルコレートの加水
分解後に得られる）を不活性有機溶媒中にて一般式 ％式％ 式中、Ｍはアルカリ金属を表わし、ＲはＣＩ〜Ｃ１ｏ−
アルコキシまたは式 ％式％１ ｍ及びｎはそれぞれ独立に１〜７の整数を表わし、そし
てＸはＯｌｌ、２または３を表わす、 の水素化アルミニウムで還元し、次に加水分解して式■ 式中、Ｒ１は上記の意味を有する、 の化合物を生成させ、そして必要に応じて、得られる式
ＩＶの化合物をゼアキサンチンに転化することからなる
。

本発明に従えば、弐ＩＶの化合物の製造は、式■の化合
物を介して３−ヒドロキシ−３−メチル−１，４−ヘン
タジエニル基の段階的導入、そしてａ、β−不飽和ケト
ンとの反応により式■の化合物またはそのアルコレート
の生成によって行われる。驚くべきことに、この方法に
おいて、全体の収量における顕著な改善及び全体の方法
の簡単化を達成することができる。この方法の全工程を
、式Ｉの化合物の製造も含めて、工業的規模において容
易に行うことかできる。更に、費用のがかる精製操作を
避けることができる。例えは式ＩＶの化合物をホスホニ
ウム塩を介してゼアキサンチンに転化する場合、式■、
■及びＩＶの化合物の精製を省くことができ、ホスホニ
ウム塩の再結晶化のみを行う。また必要に応じて、式Ｉ
のヒドロキシ化合物は再結晶化によって容易に精製する
ことができる。

本発明における方法は天然の（３Ｒ，３’Ｒ）−ゼアキ
サンチンの製造に対して特に適している。

また式■の化合物の式ＩＶの化合物への転化を、エーテ
ル化されたヒドロキシ基Ｒ１の導入も含めて、好ましく
はワン−ポット法（ｏｎｅ−ｐｏｔ　ｐｒｏｃｅｓｓ）
として行うことができる。

「エーテル化されたヒドロキシ基」なる用語には、本発
明の範囲において、通常のエルチル保護基、例えばアル
コキシ、例えはメトキシ、エトキン、ｔ−ブトキシまた
はイソブトキシ、アリールアルコキシ、例えばベンジル
オキシ、トリアルキルシリルオキシ、例えばトリメチル
ンリル丁キ７、或いは一般式 Ｉ Ｒ”０−Ｃ−０−Ｖ 式中、Ｒ２はアルキルを表わし、Ｒ３及びＲ４は各々独
立して水素またはアルキルを表わすか、或いはまたＲ２
及びＲ３は一緒になってテトラメチレンを表わす、 の基か包含される。好ましくは上記の基において、アル
キルは０１〜Ｃ７−アルキルを表わし、アルコキシはＣ
１〜Ｃ２−アルコキシを表わし、そしてアリールはフェ
ニルを表わす。好ましいエーテル化されたヒドロキシ基
はトリアルキルシリルオキシ及び式Ｖの基、例えばトリ
メチルシリルオキシ、■−メトキシー１−メチルエトキ
シ、テトラヒドロピラニルオキシ等である。

「アルカリ金属」なる用語にはリチウム、ナトリウム及
びカリウムが包含される。「ノ＼ロゲン」なる用語には
フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が包含され、好ましくは
塩素及び臭素である。「アルキル」なる用語には特にＣ
Ｉ’＝　Ｃｙ−アルキル、例えはメチル、エチルまたは
ブチルが包含される。

「アリール」なる用語には特に炭素環式基、例えばフェ
ニル、トリル等、特にフェニルが包含される。「ア／ル
オキシ」なる用語は通常のエーテル保護基、例えばベン
ゾイルオキシ及びＣ１〜Ｃ７−アルカノイルオキシ、特
にアセトキシを表わす。

式Ｉの化合物とメチルビニルケトンとの反応による式■
のアルコールまたはそのアルコレートの生成をそれ自体
公知の方法において不活性有機溶媒中で行うことができ
る。適当な溶媒の例はエーテル及び飽和または芳香族炭
化水素、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエ
チルエーテル、石油エーテル、ヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン等である。エーテル、特にテトラヒド
ロフランが好ましい溶媒である。反応はＲ１がヒドロキ
シを表わす式Ｉの化合物を用いて行うことができる。し
かしながら、好ましくはＲ’がエーテル化されたヒドロ
キシ基、特にトリアルキルシリルオキシまたは式Ｖの基
を表わす式■の化合物を用いる。

式Ｉの化合物の脱プロトン化をアセチレンの脱プロトン
化に対して普通の適当な塩基、特にリチウム、ナトリウ
ムまたはマグネシウム塩基によって行うことができる。

適当な塩基の例はリチウム−有機化合物、例えばメチル
リチウム、プチルリチヮムまだはフェニルリチウム、グ
リニアール試薬、例えはアルキルマグネシウムハライド
及びジアルキルマグネシウム、アミド例えばリチウムア
ミド及びナトリウムアミド、水素化物、例えば水素化リ
チウム及び水素化ナトリウム、等である。

アルキルリチウム及びアルキルマグネシウムブロマイド
が好ましい塩基である。式■の化合物を基準にして、や
や過剰量の塩基、例えば約１．１〜１．３当量を用いる
ことが好ましい。

メチルビニルケトンを、好ましくは式Ｉの化合物を基準
にして過剰量で用いる。好ましくは、少なくとも約１．
３モル当量のメチルビニルケトンを、用いる。一般に、
約１．４〜２．０モル当量、特に’ｆ、’Ｅ　ｌ　、　
５〜１．８モル当量の金か好ましい。

メチルビニルケトンとの反応は好ましくは無機リチウム
またはセリウム塩の存在下において行われる。この場合
、塩が用いる溶媒に十分に可溶性であることを注意すべ
きである。適当な塩の例はハロゲン化リチウム、ハロゲ
ン化セリウム、リチウムテトラフルオロポレート等であ
る。三塩化セリウム及び特に臭化リチウムが好ましい。

リチウムまたはセリウム塩の量は臨界的でなく、例えば
式Ｉの化合物を基準にして、約０．５〜２．０当量また
はこれ以下の量であることができる。

式Ｉの化合物の式■の化合物のアルコレートへの転化に
対する温度及び圧力は臨界的でない。しかしながら、転
化は一般に大気圧及び室温またはこれより低い温度、例
えは約−３０°Ｃまでで行われる。約−２０°Ｃ〜０°
Ｃの温度範囲が特に好ましい。好ましい塩基に対応して
、好ましくは式■の化合物のリチウム、ナトリウムまた
はマグネシウムアルコレートか得られる。

必要に応じて、得られるアルコレートを式■のアルコー
ルに加水分解することができる。加水分解をアルコレー
トの加水分解に対する普通の方法に従って、例えば水を
用いて行うことかできる。

しかしながら、アルコレートを加水分解せずに、直接式
ＩＶの化合物に転化し、この方法においては還元剤の消
費が少い。

式■の化合物またはそのアルコレートをそれ自体公知の
方法において、弐ＩＩＩの水素化アルミニウムで還元す
ることかできる。この場合、一般に三重結合がもっばら
トランス二重結合に還元される。

この還元は不活性有機溶媒中で有利に行われる。

適当な溶媒の例は式■の化合物の反応に関連して上に示
した溶媒、特に好ましいものとして示した溶媒である。

好ましくは、アルコレートを単離せずに、同一溶媒中で
弐ＩＩＩの水素化アルミニウムで直接還元することがで
きる。温度及び圧力は臨界的でない。特にアルコレート
の場合に低温でも還元が速かに進行するために、還元を
好ましくは約−５０°Ｃ乃至室温、特に約−２０°Ｃ〜
０°Ｃで行う。

式■のアルコールの還元の場合には、高温、例えば室温
が有利である。

好ましい弐ＩＩＩの還元剤はＭがリチウムまたはすトリ
ウムを表わすものである。更に、Ｘは好ましくはｌ、２
または３、特に２を表わす。Ｒは好ましくは、弐ＣＨ−
０−ＣｍＨ２ｍ−〇−ｎ　　　２ｎ＋１ の基を表わす。ｍ及びｎは好ましくは１〜３の数を表わ
す。ジヒドリド−ビス（２−メトキシェトモン）アルミ
ン酸ナトリウムが特に好ましい還元剤である。還元剤を
ほぼ当量または好ましくは過剰量で用いることができる
。還元剤の少なくとも約１．２当量、例えは約１．２８
〜１．５当量が好ましい。しかしながら、大過剰量を用
いても害はない。式■のアルコールを反応させる場合、
還元剤がアルコールの脱プロトン化に一部消費されるた
めに、適当に多量を用いることが好ましい。

中間的に生じたアルミニウム錯体の加水分解をそれ自体
公知の方法において、例えば水、有機酸または無機酸、
例えば希硫酸、希塩酸等、或いは好ましくはアルカリ、
例えは水酸化ナトリウム溶液または水酸化カリウム溶液
によって行うことができる。必要に応して、随時存在し
ていてもよいエーテル基が同時に加水分解されるような
方法で加水分解を行うことができる。用いた保護基が残
るか、または開裂する条件は当該分野に精通せる者にと
っては基本的に公知である。しかしながら、一般に保護
基は中性または弱塩基性条件下で、そしである場合には
また弱酸性条件下では残り、一方、酸性条件、特に弱酸
性条件下では開裂すると言える。温度及び圧力は臨界的
ではない。しかしながら、一般に加水分解は大気圧及び
室温またはこれ以下の温度、好ましくは約０℃乃至室温
で行われる。

式■の化合物を公知の方法に従ってゼアキサンチンに転
化することができる。好ましい方法によれば、式ＩＶの
化合物をハロゲン化水素及びトリアリールホスフィンと
反応させて、一般式式中　Ｒ５はアリールを表わし、そ
してＹはハロゲンを表わす のホスホニウム塩を生成させ、次に該ホスホニウム塩を
式 のジアルデヒドと縮合させてゼアキサンチンを生成させ
る。この反応はピュア・アンド・アプライド・ケミスト
リイ（Ｐｕｒｅ　ａｎｄ　Ａｐｐｌ、　Ｃｈｅｍ）　　
５ユ、５３５（１９７’ｌ）及びジャーナル・オブ・ザ
・ケミカル・ソサエテ（（Ｊ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、
）Ｃ４０４（１９７１）に記載された方法に従って行う
ことができる。式■に随時存在していてもよいエーテル
保護基をホスホニウム塩の生成前または生成中に開裂さ
せることができる。精製はホスホニウム塩の再結晶化に
よって有利に行われる。必要に応して、トランス化合物
の部分を熱異性化、例えはトルエン中で加熱して改善す
ることかできる。

式Ｉ及び■の化合物並びに式■の化合物のアルコレート
は新規なものであり、そしてまた本発明の目的である。

式■の化合物は反応式ｌに示した方法に従って製造する
ことかできる；式中、Ｒ１は上記の意味を有し　Ｒ６は
エーテル化されたヒドロキシ基、特に上記のエーテル化
されたヒドロキシ基の１つを表わし、そしてＲ７はアシ
ルオキシ基、特にアセトキシ基を表わすっ 反応式１ 式Ｉの化合物の製造は一般式 式中、Ｒ８はヒドロキシ、エーテル化されたヒドロキシ
基またはアシルオキシ基を表わす、を併有させ得る式■
、Ｘまたは■の化合物を介して式■の化合物から反応式
１に従って行われる。

式■の化合物の式■の化合物への転化はヒドロキシ基の
エーテル化、次にケト基でのエチニル化によって行われ
る。適当なエーテル化法、例えばアルキルハライド、ア
ラルキルハライド、トリアルキルクロロシラン、アルキ
ルｌ−アルケニルエーテル、３．４−ジヒドロ−２Ｈ−
ピラン等との反応は当該分野に精通せる者にとって公知
である。

またエチニル化をそれ自体公知の方法において、例えば
液体アンモニア中のリチウム、ナトリウムまたはカルシ
ウムアセチリド、或いは好ましくは不活性有機溶媒、例
えはテトラヒドロフランまたはヘキサン中のりチウムア
セチリド−アンモニア錯体によって行うことができる。

得られる生成物は隣接水素原子に対して所望のシス−位
置に主としてヒドロキシ基を有する。

式■の化合物の式Ｘの化合物への加水分解をそれ自体公
知の方法において、例えば有機酸または無機酸、例えば
ピリジニウムｐ−１シレート、ｐ−トルエンスルホン厳
、硫酸等によって行うことができる。

また式Ｘのジオールを式■の化合物から、上記方法と同
様にして、ケト基のエチニル化によって直接得ることが
できる。しかしながら、この場合、一般に第三ヒドロキ
シ基及び隣接水素原子の位置に関してシス／トランス混
合物か得られる。

また式Ｘのジオールのアシル化による式■の化合物の生
成はそれ自体公知の方法において、例えはアノル無水物
またはアシルハライドを用いて行うことかでき、第二ヒ
ドロキシ基で選択的に行われる。

また弐■の化合物は式■の化合物から、ヒドロキシ基の
アシル化、次にケト基でのエチニル化によって直接得る
ことができる。アシル化はそれ自体公知の方法において
、例えばアシル無水物またはアシルハライドを用いて行
うことかできる。またエチニル化はそれ自体公知の方法
において、例えば式■の化合物の製造において示した方
法に従って行うことができる。この場合、またヒドロキ
シ基が隣接水素原子に関してシス−位置に主として生ず
る。

式Ｉの化合物を直接誘導する式■及びＸの化合物の脱水
並びに弐■の化合物の脱水は好ましくは硫酸銅の存在下
において行われる。この反応は好ましくは少なくとも約
１４０°Ｃに加熱して行われ、好ましくは少なくとも約
１４０°Ｃの沸点を有する不活性溶媒、例えば０−キシ
レンまたはシリコン油中で行われる。硫酸銅を触媒量、
好ましくは遊離体を基準にして約１〜２０モル％の量で
用いることができる。

式■の化合物をそれ自体公知の方法において、エステル
基Ｒ７の加水分解及び必要に応じて、ヒドロキン基のエ
チニル化によって式Ｉの化合物に転化することかできる
。エステル基Ｒ７の加不分解は好ましくはアルコール例
えはメタノールまたはエタノール中の水酸化すトリウム
溶液または水酸化カリウム溶液の如きアルカリを用いて
行われる。適当なエーテル化法、例えばアルキルハライ
ド、アラルキルハライド、トリアルキルクロロンラン、
アルキルｌ−アルケニルエーテル、３．４−ジヒドロ−
２Ｈ−ピランとの反応は当該分野に精通せる者にとって
はよく知られている。

一般に、弐℃及び■の化合物を介しての転化は式■及び
Ｘの化合物の直接エチニル化よりも高収量を生じ、そし
て更に、式■の化合物の蒸留による簡単な精製を可能に
する。

従って、式Ｉの化合物の製造は好ましくは硫酸銅の存在
下において弐ＸＩＩＩの化合物を脱水し、存在し得るア
シルオキシ基を加水分解し、そして必要に応じて、遊離
ヒドロキシ基をエーテル化スることによって行われる。

好ましくは、エーテル化を、更に反応させる前にその場
で行うことができる。

本方法は式■の化合物を基準にして約７０％の収率でゼ
アキサンチンを製造することができる。

本方法は特に天然の（３Ｒ，３’Ｒ）−ゼアキサンチン
の製造に適している。この場合、好ましくは式■の出発
物質として、（４Ｒ，６Ｒ）−４−ヒドロキシ−２，２
，６−ドリメチルシクロヘキサノンを用いる。この方法
において、Ｒ−立体配置に随時保護されていてもよい第
二ヒドロキシ基を有する上記式の化合物、並びに式ＸＩ
Ｉ［の中間体の場合には、Ｓ−立体配置に第三ヒドロキ
シ基及びＲ−立体配置にメチル基を有する化合物が主と
して得られる。

本発明における方法及び出発物質の製造を以下の実施例
によって更に詳細に説明する。

実施例１ ａ）（Ｒ）−４−エチニル−３，５，５−トリメチル−
３−シクロヘキセン−１−オール３０ｇをアルゴン下で
無水テトラヒドロフラン２００ｍ１２に溶解した。この
溶液をピリジニウムｐ−トンレート０．５ｇで処理し、
次に２０〜２４°Ｃにて１０分以内にインプロペニルメ
チルエーテル４３．５ｍＱで処理し、室温で更に１時間
撹拌した。

ｂ）生じｊ：、（Ｒ）−４−エチニル−１−（１−メト
キシ−１−メチルエトキシ）−３，５，５−トリメチル
−３−シクロヘキセンの溶液を−１０°Ｃ乃至−１２℃
にて１０分以内にヘキサン中の１．５６Ｍブチルリチウ
ム溶液１４０ｍ＋２で処理し、この温度で更に１０分間
撹拌した。次に混合物を一１０°Ｃにて５分以内に無水
テトラヒドロフラン１５０ｍｆｆ中の臭化リチウム１５
．６ｇの溶液で滴下処理し、更に１５分間撹拌した。次
いで反応溶液を一１２°Ｃ乃至−１０℃にて約１０分以
内に、メチルビニルケトン２２ｍ１２で処理し、更に３
０分間撹拌した。

Ｃ）その後、反応溶液［（Ｒ）−１−［４−（ｌ−メト
キシ−１−メチルエトキシ）−２，６゜６−ドリメチル
ー１−シクロへキセニルｌ　−３−メチル−４−ペンテ
ン−■−インー３−オールのリチウム塩を含有する］を
１２°Ｃ乃至−８°Ｃにて５分以内に、トルエン中のジ
ヒドリドーヒス（２−メトキシエトキシ）アルミン酸ナ
トリウムの３．５Ｍ溶液６３ｍ４で地理した。生じた懸
濁液を一１０°Ｃで１０分間、０°Ｃで４０分間撹拌し
た。

その後、懸濁液を一５℃に冷却し、まず１０分以内にエ
タノール４０ｍＱ及びヘキサン６０ｍ（２の混合物、次
に５分以内に２８％水酸化ナトリウム溶液３００ｍ（２
で処理し、０〜５°Ｃで更に１０分間はげしく撹拌した
。次いで反応混合物を２８％水酸化ナトリウム溶液６０
０ｍα及びヘキサン１２００＋ｙ＋Ｑの混Ｂ物中に注い
だ。水相を分離し、ヘキサン各８００ｍ１２で２回抽出
した。有機相を２８％水酸化ナトリウム溶液各２５Ｏｎ
＋１２で２回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そし
て濾過した。濾液を水流ポンプによる真空下にて４０℃
で回転蒸発機で蒸発させ、油状残渣を高真空下にて６０
℃で４時間乾燥した。かくして、淡黄色油として粗製の
（Ｒ）−１−［４−（１−メトキシ−１−メチルエトキ
シ）−２，，６，６−１−ジメチル−ｌ−シクロへキセ
ニル］−３−メチル−ＩＥ、４−ペンタジェン−３−オ
ール　５４．０ｇが得られ、このものを更に精製せずに
用いることができた。

実施例２ ａ）トリフェニルホスフィン５６．６ｇをアルゴン下に
てメタノール１７５ｍ１２に懸濁させた。この懸濁液を
Ｑ　’Ｏに冷却し、０°Ｃで撹拌しながら５分以内に３
７％塩酸１９ｍ（２で処理し、０°Ｃで更に１０分間撹
拌した。次に懸濁液を０°Ｃにて約３時間以内に、メタ
ノール５６ｍ１２中の粗製の（Ｒ）−１−［４−（１−
メトキシ−１−メチルエ［キン）−２，６，６−ドリメ
チルー１−シクロへキセニル］−３−メチル−ＩＥ、４
−ペンタジェン−３−オール（実施例１に従って製造し
たもの）５４．８９の溶液で処理した。反応混合物を０
°Ｃで３０分間、室温で１６時間撹拌し、次に水９０ｍ
＋２で希釈し、ヘキサン２００ｍ１２中に注いだ。メタ
ノール相をヘキサン各２００ｍ＋２で３回抽出し、水１
５０ｍ４及び活性炭７．５ｇで処理し、室温で２０分間
撹拌し、そして濾過した。濾液を水流ポンプによる真空
下にて４０〜４５°Ｃの浴温で回転蒸発機によって容量
２５０〜３００ｍ（２に濃縮しくメタノールの除去）、
次に水２５０ｍＱ及び飽和塩化すｌ−ＩＪウム溶液９０
ｍｆｆで処理した。混合物を塩化メチレン各２５０ｍ１
２で３回抽出した。有機相を水２５０ｍＱ及び飽和塩化
ナトリウム溶液９０ｎ＋Ｑで洗浄し、硫酸ナトリウム上
で乾燥し、そして濾過した。濾液を水流ポンプによる真
空下にて浴温４０℃で回転蒸発機によって蒸発させた。

帯赤色残渣（１１６゜５ｇ）をアルゴン下にて３０〜４
０°Ｃで１．２−ジクロロエタン１１０ｍ（２に溶解し
た。この溶液を室温にて４時間以内に酢酸エチル６００
ｍｆ２で処理した。得られた懸濁液を室温で一夜撹拌し
、次に０°Ｃに冷却し、０°Ｃで更に３０分間撹拌した
。結晶を吸引濾別し、冷酢酸エチル３００ｎ＋Ｑ及びヘ
キサン３００ｍ（２で洗浄し、水流ポンプによる真空下
にて４５〜５０°Ｃで１時間、次に高真空下で一夜乾燥
した。かくして、融点１９３〜１９５°Ｃを有する白色
結晶として、（Ｒ）−５−（４−ヒドロキン−２，６，
６−ドリメチルー１−シクロへキセニル）−３−メチル
−２，４−ペンタジェニル−トリフェニルホスホニウム
クロライド［（２Ｅ。

４Ｅ）異性体８４．８％及び（２Ｅ、４Ｚ）異性体４．
７％を含有する）８１．９７ｇが得られた。必要に応じ
て、この物質を次のビッティヒ（Ｗｉｔｔｉｇ）反応に
直接用いることができた。

ｂ）得られたホスホニウム塩５３．５４ｇをアルゴン下
にてトルエン８７０ｍＱに懸濁させた。この懸濁液をは
げしく撹拌しながら還流下で２５分間加熱し、次に３０
分以内に約６０°Ｃに冷却し、最後に水浴によって室温
に冷却した。結晶を吸引濾別し、トルエン各１５０ｍ＋
２で３回、ヘキサン３ＱＱｍＱで１回洗浄し、水流ポン
プによる真空下にて５０°Ｃで１時間、そして高真空下
にて室温で２０時間乾燥した。かくして、融点１９６〜
１９８°Ｃの（Ｒ）−５−（４−ヒドロキシ−２，６’
、６−ドリフチル−ｌ−シクロへキセニル）−３−メチ
ル−２Ｅ、４Ｅ−ペンタジェニル−トリフェニルホスホ
ニウムクロライド（２Ｅ、４Ｚ異性体１．３％含有）３
８．８２ｇが得られた。

実施例３゜ （Ｒ）−５−（４−ヒドロキシ−２，６，６−ドリメチ
ルー１−シクロへキセニル）−３−メチル−２Ｅ、４Ｅ
−ペンタジェニル−トリフェニルホスホニウムクロライ
ド（実施例２に従って製造したもの）２２ｇ、２．７−
シメチルー２．４．６−オクタトリエンジオール３．２
８ｇ、エタノール８０＋ｎＱ及び１，２−ブチレンオキ
シド１６ｍＱの混合物を、撹拌し且つアルゴン通気しな
がら、還流下で２０時間加熱し、次に一１Ｏ°Ｃに冷却
し、−１０°Ｃで１時間撹拌した。結晶性の生成物を吸
引濾別し、冷エタノール各２５ｍＱで３回洗浄し、高真
空下にて８０℃で一夜乾燥した。かくして赤色の結晶１
０．０９ｇが得られた。母液を水流ポンプによる真空下
にて浴温４０°Ｃで回転蒸発機で濃縮した。残渣（１６
，７ｇ）をエタノール５０ｍ（１及び１．２−ブチレン
ジオキシド５ｍＱに溶解し、撹拌し且つアルゴン通気し
ながら還流下で２０時間加熱した。混合物を一１Ｏ°Ｃ
に冷却し、−１０°Ｃで１時間撹拌した。分離した結晶
を吸引濾別し、冷エタノール各１０ｍＱで３回洗浄し、
最初の結晶と一緒にして加温し且つアルゴン通気しなが
らクロロホルム４０Ｏｎ＋ｉ２に溶解した。クロロホル
ム約２５０ｍ（２を留去した後、（３Ｒ，３’Ｒ）−ゼ
アキサンチンが一部結晶化し始めた。残りのクロロホル
ムを１．５時間以内に留去し、同時ｌこエタノール３０
０ｍ４の滴下によって入れ換えた。懸濁液を還流下で更
に１時間沸騰させ、次に室温に冷却し、室温で更に１時
間撹拌した。結晶を吸引濾別し、エタノール各２５ｍ１
２で３回洗浄し、まず８０°Ｃで、次に高真空下にて一
定重量になるまで乾燥した。

かくして、融点２０１〜２０２°Ｃを有する暗赤色の結
晶として、（３Ｒ，３’Ｒ）−ゼアキサンチン９．７６
ｇが得られた。

実施例４ ａ）（Ｒ）−４−エチニル−３，５，５−トリメチル−
３−シクロヘキセン−１−オール１０９をアルゴン下に
て無水テトラヒドロフラン７０ｍｆｆに溶解した。この
溶液を一２０°Ｃに冷却し、ヘキサン中の１．５６Ｍブ
チルリチウム溶液８５．９ｍＱで５分以内に処理し、−
２０℃で更に１０分間撹拌した。その後、混合物を一２
０°Ｃにて２分以内に無水テトラヒドロフラン５０ｍ４
中の臭化リチウム５．３ｇの溶液で処理し、−２０°Ｃ
で更に１５分間撹拌した。次いで反応混合物を一２０°
Ｃにて３分以内にメチルビニルケトン９．９２ｍ（２で
処理し、−２０°Ｃで更に１時間撹拌した。

ｂ）その後、反応混合物［（Ｒ）−１−（４−ヒドロキ
シ−２，６，６−ドリメチルー１−シクロへキセニル）
−３−メチル−４−ペンテン−１−イン−３−オールの
ニリチウム塩を含有する１を一２０°Ｃで５分以内に、
トルエン中のジヒドリド−ビス（２−メトキシエトキシ
）アルミン酸ナトリウムの３．５Ｍ溶液３４．８ｍＱで
処理した。反応混合物をＯ′Ｃで更に１時間撹拌し、次
いでまず一２０°Ｃで１０分以内にエタノール１５ｍ１
２及びヘキサン２０ｍ（ｌの混合物で、次に０°Ｃで１
０分以内に２８％水酸化ナトリウム溶液３００ｍＱで処
理し、更に５分間撹拌した。その後、反応混合物をヘキ
サン３０ＯｍＱ中に注いだ。水相を分離し、ヘキサン各
１５０ｍ４で２回抽出した。有機相を２８％水酸化ナト
リウム溶液各１５０ｍ１２で２回洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、そして濾過した。濾液を水流ポンプによ
る真空下にて浴温４０°Ｃで回転蒸発機で蒸発させ、残
渣を高真空下にて室温で２時間乾燥した。かくして、帯
黄色の油として、粗製の（Ｒ）−１−（４−ヒドロキシ
−２，６，６−ドリメチルー■−シクロへキセニル）−
３−メチル−ＩＥ、４−ペンタジェン−３−オール１３
．５９が得られた。シリカゲル上でヘキサン／ジエチル
エーテルを用いてクロマトグラフ的に精製し、無色の油
として生成物９．０ｇを得た。

実施例５ ａ）（Ｒ）−４−エチニル−３，５，５−トリメチル−
３−シクロヘキセン−１−オール１０ｇをアルゴン下に
て塩化メチレン３０ｍ（２に溶解した。

この溶液をＱ　′Ｃに冷却し、トリエチルアミン１２゜
７ｍＱで処理した。その後、反応混合物にトリメチルク
ロロンラン９．２ｍＱをＯ′Ｃで徐々に滴下した。

反応混合物を放置して室温に加温し、室温で更に１．５
時間撹拌した。次に反応混合物を飽和重炭酸ナトリウム
溶液１５０ｍυ中に注ぎ、塩化メチレン各１００ｍｆｆ
で３回抽出した。有機相を半飽和重炭酸ナトリウム溶液
１００ｍＱで洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、吸引
濾過し、そして濃縮した。

かくして、紫色の油として、（Ｒ＞−４−エチニル−３
，５，５−トリメチル−１−トリメチルシリルオキシ−
３−シクロヘキセン１４．２４ｇが得られた。

ｂ）（Ｒ）−４−エチニル−３，５，５−トリメチル−
１−トリメチルシリルオキシ−３−シクロヘキセン７．
１２９をアルゴン下にてテトラヒドロ７ラン３５ｍＱに
溶解した。この溶液を一１５°Ｃに冷却し、−１５°Ｃ
乃至−１Ｏ℃にて５分以内にヘキサン中の１．６５Ｍブ
チルリチウム溶液２２゜６ｍＱで処理し、−１７°Ｃで
更に５分間撹拌した。

次に混合物を一１７℃乃至−９°Ｃにて５分以内に、テ
トラヒドロフラン２５ｍＩ２中の臭化リチウム２゜５ｇ
の溶液で処理し、−２０°Ｃで更に１０分間撹拌した。

反応混合物を一１７°Ｃにて３分以内にメチルビニルケ
トン３．６ｍＱで処理し、−２５°Ｃで更に３５分間撹
拌した。

Ｃ）その後、反応混合物［（Ｒ）　−１−Ｃ２゜６．６
−ドリメチルー４−トリメチルシリルオキシ−１−シク
ロへキセニル）−３−メチル−４−ペンテン−１−イン
−３−オールのリチウム塩を含有する１を一２０°Ｃ乃
至−１３°Ｃにて５分以内に、トルエン中のジヒドリド
−ビス（２−メトキシエトキシ）アルミン酸ナトリウム
の３．５Ｍ溶液１０．２ｍＱで処理し、０°Ｃで更に３
０分間撹拌した。次に反応混合物をまずエタノール６．
５ｎｏ２及びヘキサン１０ｍ１２の混合物で、次に２８
％水酸化ナトリウム溶液５０ｍ１２で滴下処理した。実
施例１ｃと同様に処理した後、紫色の油として、粗製の
（Ｒ）−１−（２，６，６−１−リフチル−４−トリメ
チルシリルオキシ−１−シクロへキセニル）−３−メチ
ル−ＩＥ、４−ペンタジェン−３−オール１０．６５ｇ
が得られた；Ｒｆ値＝０．６０（ジイソプロピルエーテ
ル）。

ｄ）粗製の（’Ｒ）−１−（２，６，６−トリメチル−
４−トリメチルシリルオキシ−１−シクロへキセニル）
−３−メチル−１’Ｅ、４−ペンタジェン−３−オール
１０．６５ｇを窒素下にてテトラヒドロフラン３０ｍＱ
に溶解した。この溶液を７ツ化テトラブチルアンモニウ
ム三水和物１３．８ｇで処理し、更に２０分間撹拌した
。次に反応混合物を飽和重炭酸ナトリウム溶液５０ｍ（
ｌ中に注ぎ、酢酸エチル各１００ｎ＋１２で３回抽出し
た。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、吸引濾過し、
そして濃縮した。生じた褐色油（９，８ｇ）をシリカゲ
ル上でヘキサン／ジエチルエーテルを用いてクロマトグ
ラフ的に精製し、次に高真空下で乾燥し、（Ｒ）−１−
（４−ヒドロキシ−２，６，６−ドリフチル−ｌ−シク
ロへキセニル）−３−メチル−ＩＥ、４−ペンタジェン
−３−オール６．０２ｇを得　ｔこ　。

実施例６ ａ）（Ｒ）−４−−Ｌテニル−３，５，５−トリメチル
−３−シクロヘキセン−１−オール１０ｇをアルゴン下
にて無水テトラヒドロフラン１００ｍ１２に溶解した。

この溶液をピリジニウムｐ−トシレ−）０．２ｇで処理
し、次に２２〜３２°Ｃにて１０分以内にインプロペニ
ルメチルエーテル１５ｎｏ２で滴下処理し、室温で更に
１時間撹拌した。

ｂ）生じた（Ｒ）−４−エチニル−１−（１−メトキシ
−１−メチルエトキシ）−３，５，５−トリメチルシク
ロヘキセンの溶液を一２４°Ｃ乃至−２０℃にて１０分
以内に、ヘキサン中の１．５６Ｍブチルリチウム溶液５
０ｍ＋＋２で処理し、この温度で更に１５分間撹拌した
。次に混合物を一２５°Ｃ乃至−２０°Ｃにて５分以内
に無水テトラヒドロフラン１００＋ｎＱ中の臭化リチウ
ム５．２８ｇの溶液で滴下処理し、続いて１０分以内に
無水テトラヒドロ７ラン４０ｍＱ中のメチルビニルケト
ン１０ｍＱの溶液で滴下処理した。反応混合物を一２０
°Ｃで更に４５分間撹拌し、氷水２０ＯｍＱ中に注ぎ、
２０％重硫酸カリウム溶液でｐＨ３〜４に調節し、ジエ
チルエーテル各１００ｍ１２で３回抽出した。有機相を
飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、８６ナトリウム上で
乾燥し、そして濃縮した黄色油として、（Ｒ）−１−［
４−（１−メトキシ−１−メチルエトキシ）−２，６，
６−１−リッチルーｌ−シクロへキセニル］−３−メチ
ルー４−ペンテン−１−イン−３−オールの粗製の生成
物２５．４ｇが得られた。

Ｃ）得られた粗製の生成物をテトラヒドロフラン１５０
ｍ＋２に溶解した。この溶液を水３ｍ＋２及びピリジニ
ウムｐ−１−シレート０．３ｇで処理し、室温で４５分
間撹拌した。次に反応混合物を飽和重炭酸ナトリウム溶
液２００ｍ（２中に注ぎ、酢酸エチル各２００ｍ１２で
２回抽出した。有機相を飽和塩化ナトリウム溶液１００
ｍ１２で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして濃
縮した。得られた黄色油（２３，４ｇ）をシリカゲル上
で、ヘキサン／ジエチルエーテルを用いてクロマトグラ
フィーによって精製した。かくして、白色結晶性の塊と
して、（Ｒ）−１−（４−ヒドロキシ−２，６，６−ド
リメチルー１−シクロへキセニル）−３−メチル−４−
ペンテン−１−イン−３−オール１３．６５ｇ　　（９
５，６％）が得られた。

実施例７ ａ）（４Ｒ，６Ｒ）−４−ヒドロキシ−２，６゜６−ド
リメチルンクロへキサノン３ｏｏｇをピリジン１５４．
７ｍ１２に溶解した。この溶液を一３°Ｃ〜Ｑ　’Ｃに
て１０分以内に無水酢酸１．２Ｑで地理し、次に室温で
更に４．２５時間撹拌した。次いで反応混合物を６０°
Ｃ／１６ミリバールにて回転蒸発機で濃縮し、かくして
、黄色油として粗製の生成物３９４．７ｇが得られた。

粗製の生成物を蒸留し、約９５°Ｏ１０，０７ミＵバー
ルで無色の油として、（４Ｒ，６Ｒ）−４−アセトキシ
−２゜６．６−ドリメチルシクロヘキ＋ｊｙン３７Ｂ−
４９（９９，，４％）が得られた。

ｂ）液体アンモニア１５０ｍＱをスルホン化用フラスコ
に入れ、リチウム線２．８ｇを一４５°Ｃ乃至−４０°
Ｃで１５分以内に一部づつ加えた。混合物を一４０°Ｃ
で更に３０分間撹拌した。次に混合物中に約４５分以内
にアセチレン６０Ｑ　（２，４モル）を導入し、これに
よって、アセチレン約１６．５Ｑを導入した後、青色が
ら白色への色の変化が起こった。次いで反応混合物にテ
トラヒドロ７ラン１５０ｍαを滴下し、アセチレンの弱
い気流下で混合物からアンモニアを留去した。内部室温
が０°Ｃに達したならば直ちにアセチレンの導入を止め
た。反応混合物を一１Ｏ℃に冷却し、−１５°Ｃ乃至−
１０°Ｃにて無水テトラヒドロ７ラン５０ｍＱ中の（４
Ｒ，６Ｒ）−４−アセトキシ−２，２，６−ドリメチル
シクロへキサノン３９．６５ｇの溶液で滴下処理し、−
１５°Ｃ乃至−１０°Ｃで更に１５分間撹拌した。その
後、反応混合物を−ｌＯ°Ｃ〜０°Ｃにて１０分以内に
氷酢酸１００ｍ（２で処理した。次に混合物を−ＩＯ°
Ｃ〜０°Ｃにて２Ｎ硫酸１００ｍ（２で、そして約０℃
にて水２００ｍ１２で処理し、塩化メチレン各２００ｍ
４で３回抽出した。有機相を半飽和塩化ナトリウム溶液
２００ｍ１２で１回、そして半飽和重炭酸ナトリウム溶
液各２００ｎｏ２で２回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾
燥し、そして濃縮した。橙色油として粗製の生成物４８
．４ｇが得られ、このものはガスクロマトグラフィーに
よれば、（ＩＲ，４３，５Ｒ）　　４−エチニル−４−
ヒドロキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキシルア
セテート及び８．８％の（Ｉｓ、４Ｒ，６Ｒ）−１−エ
チニル−２，２，６−１リメチル−１，４−シクロヘキ
サ〉′ジオールを含有していた。

得られた粗製の生成物を実施例ＩＯに述べた方法に従っ
て直接反応させることができた。必要に応じて、更に反
応させる前に、粗製の生成物を無水酢酸と共に加温して
、ジオールを（ＩＲ，４５゜５Ｒ）−４−エチニル−４
−ヒドロキン−３，３゜５−トリメチルシクロヘキシル
アセテートに転化することかできた。

実施例８ ａ）（４Ｒ，６Ｒ）　−４−ヒドロキシ−２，２゜６−
ドリメチルシクロへキサノン１５６．２ｇをアルゴン下
で無水テトラヒドロ７ラン２５０ｒｎＣに溶解した。こ
の溶液をまずピリジニウムｐ−トシレート０．２５ｇで
、次に１５〜２５°Ｃにて約２０分以内にイソプロピル
メチルエーテル１５６゜５９で処理した。（４Ｒ，６Ｒ
）−４−（１−メトキノ−■−メチルエトキ／−２，２
，６−トリノチルンクロヘキサノンを含む得られた溶液
を室温で更に９０分間撹拌し、次に直接地理した。

ｂ）ｌ’ｌアンモニア７５０ｖ２をスルホン化用フラス
コに入れ、内部温度約−４０°Ｃで４０分以内にリチウ
ム線１４ｇを一部づつ加えた。混合物を一４０°Ｃで更
に３０分間撹拌した。次に混合物にアセチレンｌ　５０
Ｑ　　（６，１モル）を２〜３時間以内に導入し、これ
によって、アセチレン約８０Ｃを導入した後、青色から
白色への色の変化が起こった。反応混合物に無水テトラ
ヒドロ７ラン７５０ｍＱを加え、アセチレンを連続的に
導入しながら、約１時間以内に混合物からアンモニアを
留去した。内部温度が約０°Ｃに達したならば直ちにア
セチレンの導入も止め、反応混合物を０〜２°Ｃにて約
３０分以内に上記節ａ）で製造した（４Ｒ１６Ｒ）−４
−（１−メトキシ−１−メチルエトキシ）−２，２，６
−ドリメチルシクロヘキサノンの溶液で処理した。反応
混合物を０〜２°Ｃで更に３０分間撹拌し、次に２〜２
０°Ｃにて１０分以内に水４００ｍｆｆで処理し、室温
で一夜放置した。次に反応混合物をヘキサン７００ｍＱ
の助けによって分液ロートに入れた。水相を分離し、ヘ
キサン各７００ｍ１＋で２回抽出した。有機相を半飽和
塩化アンモニウム溶液７００ｍ（２及び半飽和塩化ナト
リウム溶液７００ｍＱで洗浄し、硫酸ナトリウム２００
ｇ上で乾燥し、そして濾過した。濾液を水流ポンプによ
る真空下にて４０°Ｃで回転蒸発機で蒸発させ、残渣を
高真空下にて室温で４時間乾燥した。かくして、黄色結
晶として粗製の（ｉｓ、４Ｒ，６Ｒ）−１−エチニル−
４−（ｌ−メトキシ−１−メチルエトキシ）−２，２，
６−ドリメチルー１−シクロヘキサノール２６０ｇが得
られた。

Ｃ）粗製の（ｉｓ、４Ｒ，６Ｒ）−１−エチニル−４−
（１−メトキシ−１−メチルエトキシ）−２，２，６−
トリメチル−ｌ−シクロヘキサノール２６０ｇをアルゴ
ン下にてテトラヒドロフラン１３００ｍｆ２及び水５２
ｍＱに溶解した。この溶液を室温にてピリジニウムｐ−
トンレート２．５４ｇで処理し、１時間撹拌した。次に
反応混合物を酢酸エチル７００ｍ１２の助けによって分
液ロートに移し、飽和重炭酸ナトリウム溶液５００ｍＱ
及び飽和塩化ナトリウム溶液５００ｍＱで洗浄した。水
相を酢酸エチルで２回逆抽出した。有機相を硫酸ナトリ
ウム上で乾燥し、そして濾過した。濾液を水流ポンプに
よる真空下にて４０℃で回転蒸発機で濃縮し、残渣を高
真空下で乾燥した。かくして、無色の結晶として、粗製
の（ｉｓ、４Ｒ，６Ｒ）−１−エチニル−２，２，６−
ドリメチルー１．４−シクロヘキサンジオール２０１ｇ
が得られた；Ｒｆ値（ヘキサン／ジエチルエーテル 実施例９ 粗製の（ｉｓ，４Ｒ，６Ｒ）−１−エチニル−２。

２、６−ドリメチルー１．４−シクロヘキサンジオール
（実施例８に従って製造したもの）２０１ｇをピリジン
３８０ｍＱに溶解した。この溶液を０°Ｃにて２０分以
内に無水酢酸５００ｍ４で処理し、次に室温で更に１６
時間撹拌した。反応混合物を水流ポンプによる真空下に
て回転蒸発機で蒸発させた。得られた黄色を塩化メチレ
ン１ｉ２に溶解し、順次、２Ｎ塩酸５　０　０　ｍＱ，
冷飽和塩化すｉ・リウム溶液４００ｍＣ及び飽和重炭酸
ナトリウム溶液４００−で洗浄した。洗液を塩化メチレ
ン各２００ｍ４で２回逆抽出した。有機相を硫酸ナトリ
ウム上で乾燥し、そして濾過した。濾液を水流ポンプに
よる真空下にて４０℃で回転蒸発機で濃縮し、残渣を高
真空下にて室温で３時間乾燥した。かくして、黄−褐色
の結晶として、粗製の（ＩＲ，４Ｓ，５Ｒ）−４−エチ
ニル−４−ヒドロキシ−３．３．５−１−リメチルシク
ロヘキシルアセテート２４６．９ｇが得られた；Ｒｆ値
（ジイソプロピルエーテル）０、７０。

実施例１０ 粗製の（ＩＲ，４５，５Ｒ）−４−エチニル−４−ヒド
ロキシ−３．３．５−トリメチルシクロヘキシルアセテ
ート（実施例９に従って製造したもの）１２１、６ｇを
アルゴン下にて水分離器を有するスルホン化用フラスコ
中の０−キシレン１１２に溶解した。混合物を硫酸銅（
ｕ）７．９ｇで処理し、還流下で水の分離に伴って、２
時間沸騰させ且つはけしく撹拌した。次に反応混合物を
室温に冷却し、不溶性硫酸銅を濾別した（ヘキサン４０
０ｍＱですすいだ）。濾液を水４００ｍ（２及び半飽和
重炭酸ナトリウム溶液４００ｍｆｆで洗浄した。洗液を
ヘキサン各３００ｍＱで逆抽出した。有機相を硫酸ナト
リウム上で乾燥し、そして濾過した。濾液を８０　Ｔｏ
ｒｒ及び浴温４０〜６０°Ｃにて回転蒸発機で容量２０
０〜３００ｍＱ、に濃縮した。残ったキシレン溶液を高
真空下で蒸留し、約８３°Ｃ！１０．１９０．９９Ｔｏ
ｒｒで無色の油として、（Ｒ）　−４−エチニル−３，
５，５−１−ツメチル−３−シクロヘキセン−１−イル
アセテート（純度９８．１％）９６．５ｇを得た；沸点
７８−８２°Ｏ１０，１４Ｔｏｒｒｏ　　化学的収率は
（４Ｒ，６Ｒ）−４−ヒドロキシ−２，２，６−ドリメ
チルシクロヘキサノンを基準にして９３％であった。

実施例１１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I 式中、Ｒ＾１はヒドロキシまたはエーテル化されたヒド
   ロキシ基を表わす、 の化合物を不活性有機溶媒中でアセチレニドに転化し、
   そしてこのものをメチルビニルケトンと反応させ、得ら
   れる一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼II 式中、Ｒ＾１は上記の意味を有する、 のアルコレートまたはアルコール（アルコレートの加水
   分解後に得られる）を不活性有機溶媒中にて一般式 Ｒ＿ｘＭＡ１Ｈ＿４＿−＿ｘ　III 式中、Ｍはアルカリ金属を表わし、ＲはＣ＿１〜Ｃ＿１
   ＿０−アルコキシまたは式 Ｃ＿ｎＨ＿２＿ｎ＿＋＿１−Ｏ−Ｃ＿ｍＨ＿２＿ｍ−Ｏ
   −の基を表わし、ｍ及びｎはそれぞれ独立に１〜７の整
   数を表わし、そしてｘは０、１、２または３を表わす、 の水素化アルミニウムで還元し、次に加水分解して式I
   V ▲数式、化学式、表等があります▼IV 式中、Ｒ＾１は上記の意味を有する、 の化合物を生成させ、そして必要に応じて、得られる式
   IVの化合物をゼアキサンチンに転化することを特徴とす
   る上記一般式IVの化合物及びゼアキサンチンの製造方法
   。 ２、Ｒ＾１がトリアルキルシリルオキシまたは一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼Ｖ 式中、Ｒ＾２はアルキルを表わし、Ｒ＾３及びＲ＾４は
   各々独立して水素またはアルキルを表わすか、或いはま
   たＲ＾２及びＲ＾３は一緒になつてテトラメチレンを表
   わす、 の基を表わす特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３、式 I の化合物をリチウム、ナトリウムまたはマグ
   ネシウム塩基によつてそのアセチレニドに転化する特許
   請求の範囲第１項または第２項記載の方法。 ４、メチルビニルケトンとの反応をリチウムまたはセリ
   ウム塩の存在下において、好ましくは臭化リチウムの存
   在下において行う特許請求の範囲第１〜３項のいずれか
   に記載の方法。 ５、式 I の化合物を基準にして少なくとも１．３モル
   当量のメチルビニルケトンを用いる特許請求の範囲第１
   〜４項のいずれかに記載の方法。 ６、不活性有機溶媒として、エーテル、好ましくはテト
   ラヒドロフランを用いる特許請求の範囲第１〜５項のい
   ずれかに記載の方法。 ７、式IIIの還元剤として、ジヒドリド−ビス（メトキ
   シエトキシ）アルミン酸ナトリウムを用いる特許請求の
   範囲第１〜６項のいずれかに記載の方法。 ８、式 I の化合物のＲ−型を反応させる特許請求の範
   囲第１〜７項のいずれかに記載の方法。 ９、得られる式IVの化合物をハロゲン化水素及びトリア
   リールホスフィンと反応させて一般式▲数式、化学式、
   表等があります▼VI 式中、Ｒ＾５はアリールを表わし、そしてＹはハロゲン
   を表わす、 のホスホニウム塩を生成させ、そして該ホスホニウム塩
   を式 ▲数式、化学式、表等があります▼VII のジアルデヒドと縮合させてゼアキサンチンを生成させ
   る特許請求の範囲第１〜８項のいずれかに記載の方法。 １０、式 I の化合物を製造するために、一般式▲数式
   、化学式、表等があります▼ＸIII 式中、Ｒ＾８はヒドロキシ、エーテル化されたヒドロキ
   シ基またはアシルオキシ基を表わす、の化合物を硫酸銅
   の存在下において脱水し、随時存在するアシルオキシ基
   を加水分解し、そして必要に応じて、遊離ヒドロキシ基
   をエーテル化する特許請求の範囲第１〜９項のいずれか
   に記載の方法。 １１、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼II 式中、Ｒ＾１はヒドロキシまたはエーテル化されたヒド
   ロキシ基を表わす、 の化合物及びそのアルコレート。 １２、特許請求の範囲第１１項記載の式IIの化合物並び
   にそのリチウム、ナトリウム及びマグネシウムアルコレ
   ート。 １３、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I 式中、Ｒ＾１はヒドロキシまたはエーテル化されたヒド
   ロキシ基を表わす、 の化合物。