JPS63273610A - 気体分離膜 - Google Patents
気体分離膜Info
- Publication number
- JPS63273610A JPS63273610A JP10836087A JP10836087A JPS63273610A JP S63273610 A JPS63273610 A JP S63273610A JP 10836087 A JP10836087 A JP 10836087A JP 10836087 A JP10836087 A JP 10836087A JP S63273610 A JPS63273610 A JP S63273610A
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- JP
- Japan
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- formula
- fluorine
- polymer
- tungsten
- polyphenylacetylenes
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- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F38/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more carbon-to-carbon triple bonds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、含フツ素ポリフェニルアセチレン類及びその
製法に関する。
製法に関する。
従来の技術
本発明含フツ素ポリフェニルアセチレン類は、文献未記
載の新規化合物である。
載の新規化合物である。
発明が解決しようとする問題点
本発明は、後記するように強靭なフィルムを形成するこ
とができ、例えば、気体分離膜として有用な化合物を提
供することを目的とする。
とができ、例えば、気体分離膜として有用な化合物を提
供することを目的とする。
本発明によれば、下記一般式ＣＩ）で表わされる含フツ
素ポリフェニルアセチレン類が提供される。
素ポリフェニルアセチレン類が提供される。
〔式中、Ｒはフッ素原子又は炭素数１〜１０のアルキル
基を示し、ｎは２以上の整数を示す。〕本発明の上記一
般式〔１〕で表わされる含フツ素ポリフェニルアセチレ
ン類は、強靭なフィルムを形成でき、例えば、気体分離
膜として有用である。
基を示し、ｎは２以上の整数を示す。〕本発明の上記一
般式〔１〕で表わされる含フツ素ポリフェニルアセチレ
ン類は、強靭なフィルムを形成でき、例えば、気体分離
膜として有用である。
上記一般式〔１〕で表わされる本発明化合物は、タング
ステンカルボニル若しくは六塩化タングステンの存在下
又は六塩化タングステンと有機金属化合物との共存下に
、一般式 〔式中、Ｒは上記に同じ。〕 で表わされる化合物を重合させることにより製造される
。
ステンカルボニル若しくは六塩化タングステンの存在下
又は六塩化タングステンと有機金属化合物との共存下に
、一般式 〔式中、Ｒは上記に同じ。〕 で表わされる化合物を重合させることにより製造される
。
上記重合反応は常法に従って行なえばよく、例えば以下
のようにして行なわれる。即ち、タングステンカルボニ
ル若しくは六塩化タングステン又は六塩化タングステン
と有機金属化合物との混合物（以下これらを「重合触媒
」と総称する。）を適当な溶剤に添加し、必要に応じて
公知の方法に準じてこれら重合触媒を活性化した後、更
に上記一般式〔２〕で表わされる化合物を添加して反応
させればよい。
のようにして行なわれる。即ち、タングステンカルボニ
ル若しくは六塩化タングステン又は六塩化タングステン
と有機金属化合物との混合物（以下これらを「重合触媒
」と総称する。）を適当な溶剤に添加し、必要に応じて
公知の方法に準じてこれら重合触媒を活性化した後、更
に上記一般式〔２〕で表わされる化合物を添加して反応
させればよい。
有機金属化合物とは、アルキル基又はアリール基等の炭
化水素基と金属原子との結合した化合物の他に、前記炭
化水素基と珪素、硼素等のような金属性の少ない原子（
半金属）との結合した化合物であり、その具体例として
は、例えば、テトラフェニルスズ、テトラブチルスズ、
トリエチルシラン、トリフェニルビスマス、トリフェニ
ルアンチモン、ブチルリチウム、トリエチルアルミニウ
ム等を挙げることができる。重合触媒の濃度は特に制限
されないが、通常上記一般式〔２〕のモノマーと溶剤と
の合計量に対し、５〜１００ミリモル／Ｑ程度とすれば
よい。また、六塩化タングステンと有機金属化合物とを
併用する場合には、その使用割合は特に制限されないが
、通常モル比で１：０．１〜１：１０程度、好ましくは
１：１とすればよい。適当な溶剤としては、重合触媒に
タングステンカルボニルを使用する場合は四塩化炭素、
他の重合触媒を使用する場合は、例えば、トルエン等の
炭化水素類、六フッ化ベンゼン、１゜３−ビス（トリフ
ルオロメチル）ベンゼン、トリクロロトリフルオロエタ
ン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類等を挙げるこ
とができる。上記一般式〔２〕で表わされるモノマーの
濃度は特に制限されないが、通常溶媒台に対して０．１
〜５モル／Ｑ程度、好ましくは０．２５〜２．０モル／
Ｑ程度とすればよい。重合温度は、上記一般式〔２〕中
の符号Ｒがフッ素原子であるモノマーを使用する場合に
は、通常０〜８０℃程度、好ましくは３０〜８０℃程度
とすればよい。また、符号Ｒが炭素数１〜１０のアルキ
ル基であるモノマーを使用する場合には、−３０〜８０
℃程度とすればよく、温度が低くなるほど分子母の大き
な重合体が得られる。重合時間は特に制限されないが、
通常１〜２４時間程度とすればよい。
化水素基と金属原子との結合した化合物の他に、前記炭
化水素基と珪素、硼素等のような金属性の少ない原子（
半金属）との結合した化合物であり、その具体例として
は、例えば、テトラフェニルスズ、テトラブチルスズ、
トリエチルシラン、トリフェニルビスマス、トリフェニ
ルアンチモン、ブチルリチウム、トリエチルアルミニウ
ム等を挙げることができる。重合触媒の濃度は特に制限
されないが、通常上記一般式〔２〕のモノマーと溶剤と
の合計量に対し、５〜１００ミリモル／Ｑ程度とすれば
よい。また、六塩化タングステンと有機金属化合物とを
併用する場合には、その使用割合は特に制限されないが
、通常モル比で１：０．１〜１：１０程度、好ましくは
１：１とすればよい。適当な溶剤としては、重合触媒に
タングステンカルボニルを使用する場合は四塩化炭素、
他の重合触媒を使用する場合は、例えば、トルエン等の
炭化水素類、六フッ化ベンゼン、１゜３−ビス（トリフ
ルオロメチル）ベンゼン、トリクロロトリフルオロエタ
ン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類等を挙げるこ
とができる。上記一般式〔２〕で表わされるモノマーの
濃度は特に制限されないが、通常溶媒台に対して０．１
〜５モル／Ｑ程度、好ましくは０．２５〜２．０モル／
Ｑ程度とすればよい。重合温度は、上記一般式〔２〕中
の符号Ｒがフッ素原子であるモノマーを使用する場合に
は、通常０〜８０℃程度、好ましくは３０〜８０℃程度
とすればよい。また、符号Ｒが炭素数１〜１０のアルキ
ル基であるモノマーを使用する場合には、−３０〜８０
℃程度とすればよく、温度が低くなるほど分子母の大き
な重合体が得られる。重合時間は特に制限されないが、
通常１〜２４時間程度とすればよい。
上記重合反応で得られた重合体を精製するに際しては、
公知の方法が何れも採用でき、例えば、重合体溶液に大
量のメタノール等の溶媒を加えて重合体を沈澱させ、濾
別、乾燥すればよい。
公知の方法が何れも採用でき、例えば、重合体溶液に大
量のメタノール等の溶媒を加えて重合体を沈澱させ、濾
別、乾燥すればよい。
かくして得られる一般式〔１〕で表わされる本発明重合
体はこげ茶乃至黒色固体であり、その重量平均分子ｉ
（Ｍｗ）は１０万〜２００万程度、数平均分子ｆｆｉ（
Ｍｎ）は５万〜１００万程度及び極限粘度〔η〕 （六
フッ化ベンゼン中３０℃で測定）は０．１〜２．０程度
である。また、その重量損失開始温度は、２２０〜２４
０℃である。
体はこげ茶乃至黒色固体であり、その重量平均分子ｉ
（Ｍｗ）は１０万〜２００万程度、数平均分子ｆｆｉ（
Ｍｎ）は５万〜１００万程度及び極限粘度〔η〕 （六
フッ化ベンゼン中３０℃で測定）は０．１〜２．０程度
である。また、その重量損失開始温度は、２２０〜２４
０℃である。
尚、上記一般式〔２〕で表わされる化合物は公知化合物
であり、公知の方法、例えば、コーエらの方法ＣＰ、
Ｌ、 Ｃｏｅ、 Ｒ，Ｇ、 Ｐｌｅｖｅｙ ａｎ
ｄＪ、 Ｃ，Ｔａｔｌｏｗ、 Ｊ、 Ｃｈｅｍ、
Ｓｏｃ、 （ｃ） 。
であり、公知の方法、例えば、コーエらの方法ＣＰ、
Ｌ、 Ｃｏｅ、 Ｒ，Ｇ、 Ｐｌｅｖｅｙ ａｎ
ｄＪ、 Ｃ，Ｔａｔｌｏｗ、 Ｊ、 Ｃｈｅｍ、
Ｓｏｃ、 （ｃ） 。
１９６６．５９６） 、マトウらの方法（Ｆ、Ｓ。
Ｍａｔｏｕｇｈ、 Ｒ，Ｍｕｋｈｔａｒ ａｎｄ
Ｐ、 Ｌ、 Ｃｏｅ。
Ｐ、 Ｌ、 Ｃｏｅ。
Ｌｉｂｙａｎ Ｊ、Ｓｃｉ、、８Ａ、２７ （１９７
８））、奥原らの方法〔奥原・小平、第８回ヨーロッパ
フッ素化学シンポジウム、０〜２１．要旨；Ｊ。
８））、奥原らの方法〔奥原・小平、第８回ヨーロッパ
フッ素化学シンポジウム、０〜２１．要旨；Ｊ。
Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｈｅｍ、＋ ２３．４９７ （
１９８３） ）に準じて製造できる。
１９８３） ）に準じて製造できる。
本発明重合体を用いて、例えば、気体分離膜を製造する
に際しては、公知の方法が何れも採用できる。例えば、
本発明重合体を適当な溶媒に溶解し、この溶液をガラス
板等の上に塗布し、室温下３〜４８時間程度放置するこ
とにより気体分離膜を得ることができる。
に際しては、公知の方法が何れも採用できる。例えば、
本発明重合体を適当な溶媒に溶解し、この溶液をガラス
板等の上に塗布し、室温下３〜４８時間程度放置するこ
とにより気体分離膜を得ることができる。
発明の効果
本発明によって提供される新規な含フツ素ポリフェニル
アセチレン類は強靭なフィルムを形成できる。当該フィ
ルムは、酸素透過係数が大きく、しかも酸素と窒素との
分離係数も大きいため、例えば、気体分離膜として有用
である。
アセチレン類は強靭なフィルムを形成できる。当該フィ
ルムは、酸素透過係数が大きく、しかも酸素と窒素との
分離係数も大きいため、例えば、気体分離膜として有用
である。
実施例
以下に実施例を挙げ、本発明をより一層明瞭なものとす
る。
る。
実施例１
撹拌機、温度計及び窒素導入管を備えた５〇−容の三ロ
フラスコに六塩化タングステン７９ｍｇ（０，２ｍｍｏ
Ｑ）を仕込み、次いで水素化カル、シウムで乾燥した六
フッ化ベンゼン２０ｍＱを窒素゛気流下で仕込んだ。３
０℃で１０分間撹拌した後、ペンタフルオロフェニルア
セチレン４．０ｇ（２０，６ｍｍｏ９）を加え、同温度
で２４時間反応させた。反応が終了した後、反応液を多
量のメタノールに注ぎ、沈澱したポリマーを濾別回収し
た。得られたポリマーを室温で２４時間乾燥を行い、２
．Ｏｒ（収率４９％）の黒色固体の本発明ポリマーを得
た。
フラスコに六塩化タングステン７９ｍｇ（０，２ｍｍｏ
Ｑ）を仕込み、次いで水素化カル、シウムで乾燥した六
フッ化ベンゼン２０ｍＱを窒素゛気流下で仕込んだ。３
０℃で１０分間撹拌した後、ペンタフルオロフェニルア
セチレン４．０ｇ（２０，６ｍｍｏ９）を加え、同温度
で２４時間反応させた。反応が終了した後、反応液を多
量のメタノールに注ぎ、沈澱したポリマーを濾別回収し
た。得られたポリマーを室温で２４時間乾燥を行い、２
．Ｏｒ（収率４９％）の黒色固体の本発明ポリマーを得
た。
生成ポリマーの極限粘度〔η〕 （溶媒穴フッ化ベンゼ
ン、３０℃）は、０．３３ｄ９／ｇであった。
ン、３０℃）は、０．３３ｄ９／ｇであった。
Ｆ
計算値、 （ＣｅＨＦｓ）ｎとして： ５０．０２．
４９．４５実測値 ：４９．８
５．４９．２２また上記ポリマーの赤外線吸収スペクト
ルを第１図に示す。
４９．４５実測値 ：４９．８
５．４９．２２また上記ポリマーの赤外線吸収スペクト
ルを第１図に示す。
実施例２〜８
重合触媒を下記の物に代える以外は、実施例１と同様に
して本発明ポリマーを得た。結果を第１表に示す。
して本発明ポリマーを得た。結果を第１表に示す。
実施例９
実施例１と同様な容器に、タングステンカルボニル３５
ｍｇ（０，１ｍｍｏＱ）と四塩化炭素２０戒を仕込み、
乾燥窒素を通気し容器内を窒素置換した後、３０℃に保
ちながら１００Ｗ高圧水銀ランプから３０分間紫外線を
照射した。照射後、ペンタフルオロフェニルアセチレン
４．Ｏｇ −（２０，６ｍｍｏ９）を加え、同温
度で２４時間反応させた。反応が終了した後、反応液を
多量のメタノールに注ぎ、沈澱したポリマーを濾別回収
した。得られたポリマーを室温で２４時間乾燥を行い、
３．７ｇ（収率９２％）の黒色固体の本発明ポリマーを
得た。
ｍｇ（０，１ｍｍｏＱ）と四塩化炭素２０戒を仕込み、
乾燥窒素を通気し容器内を窒素置換した後、３０℃に保
ちながら１００Ｗ高圧水銀ランプから３０分間紫外線を
照射した。照射後、ペンタフルオロフェニルアセチレン
４．Ｏｇ −（２０，６ｍｍｏ９）を加え、同温
度で２４時間反応させた。反応が終了した後、反応液を
多量のメタノールに注ぎ、沈澱したポリマーを濾別回収
した。得られたポリマーを室温で２４時間乾燥を行い、
３．７ｇ（収率９２％）の黒色固体の本発明ポリマーを
得た。
実施例１０
モノマーとしてペンタフルオロフェニルアセチレンに代
えてｐ−（ｎ−ブチル）テトラフルオロフェニルアセチ
レ：／４．７ｇ （２０，６ｍｍｏＱ）を使用し、並び
に溶媒として六フッ化ベンゼンに代えてトルエンを使用
する以外は、実施例１と同様にして本発明ポリマーを得
た。
えてｐ−（ｎ−ブチル）テトラフルオロフェニルアセチ
レ：／４．７ｇ （２０，６ｍｍｏＱ）を使用し、並び
に溶媒として六フッ化ベンゼンに代えてトルエンを使用
する以外は、実施例１と同様にして本発明ポリマーを得
た。
生成ポリマーの分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエイショ
ン りロマトグラフイ：クロロホルム溶媒）により、ｖ
ＩＷ（重金平均分子ｆｆ１）１４Ｘ１０’、ｉｎ（数平
均分子ｆｆ１） ６． ９ｘｌＯ’であった。また、当
該ポリマーの赤外線吸収スペクトルを第２図に示す。
ン りロマトグラフイ：クロロホルム溶媒）により、ｖ
ＩＷ（重金平均分子ｆｆ１）１４Ｘ１０’、ｉｎ（数平
均分子ｆｆ１） ６． ９ｘｌＯ’であった。また、当
該ポリマーの赤外線吸収スペクトルを第２図に示す。
実施例１１〜１７
重合触媒として実施例２〜８で使用されたもの（触媒量
も同じ）を夫々使用する以外は、実施例１０と同様にし
て本発明ポリマーを得た。結果を第２表に示す。
も同じ）を夫々使用する以外は、実施例１０と同様にし
て本発明ポリマーを得た。結果を第２表に示す。
実施例１８
モノマーとしてペンタフルオロフェニルアセチレンに代
えてｐ−（ｎ−ブチル）テトラフルオロフェニルアセチ
レン４．７ ｇ （２０，６ｍｍｏＱ）を使用する以外
は、実施例９と同様にしてこげ茶色固体の本発明ポリマ
ー４．３ｇ（収率９１％）を得た。
えてｐ−（ｎ−ブチル）テトラフルオロフェニルアセチ
レン４．７ ｇ （２０，６ｍｍｏＱ）を使用する以外
は、実施例９と同様にしてこげ茶色固体の本発明ポリマ
ー４．３ｇ（収率９１％）を得た。
生成ポリマーの、Ｍｗ（重量平均分子量）は９０Ｘ１０
’ 、Ｍｎ （数平均分子量）は５７Ｘ１０４であった
。
’ 、Ｍｎ （数平均分子量）は５７Ｘ１０４であった
。
参考例
実施例１０で得られたポリ（ｐ−（ｎ−ブチル）テトラ
フルオロフェニルアセチレン〕をトルエンに濃度が１０
重量％になるように溶解した、この溶解液をガラス板上
にドクターブレードで塗布し、室温で２４時間放置した
。その後、塗布物をガラス板から剥がし、気体分離膜を
得た。膜厚は、１１μｍであった。
フルオロフェニルアセチレン〕をトルエンに濃度が１０
重量％になるように溶解した、この溶解液をガラス板上
にドクターブレードで塗布し、室温で２４時間放置した
。その後、塗布物をガラス板から剥がし、気体分離膜を
得た。膜厚は、１１μｍであった。
得られた膜について、酸素の透過係数（ＫＯ２）をＡＳ
ＴＭ １４３４ Ｖ法に準じ、下記条件で測定した
。
ＴＭ １４３４ Ｖ法に準じ、下記条件で測定した
。
使用気体：窒素７９容全％および酸素２１容量％の標準
混合ガス 試験圧カニー次圧４ ｋｇ ／ ｃｄ 二次圧１ｋｇ／ｃＪ （いずれも絶対圧） 気体透過合：４ｃｃ 試験時間二上記気体透過に要した時間（秒）気体分離膜
試料の膜厚：ポリマー型苗をポリマー面積とポリマー比
重で除した値 気体の組成分析は、ガスクロマトグラフィーで行った。
混合ガス 試験圧カニー次圧４ ｋｇ ／ ｃｄ 二次圧１ｋｇ／ｃＪ （いずれも絶対圧） 気体透過合：４ｃｃ 試験時間二上記気体透過に要した時間（秒）気体分離膜
試料の膜厚：ポリマー型苗をポリマー面積とポリマー比
重で除した値 気体の組成分析は、ガスクロマトグラフィーで行った。
結果を下記に示す。
ＫＯ２： ｌ、 ８ｘｌ Ｑ−８ｃ ｃ （ＳＴＰ
） Φｃｍ／ｃＩＩＹ・ｓｅｃ 壷ｃｍｌ１ｇα
：３．５
） Φｃｍ／ｃＩＩＹ・ｓｅｃ 壷ｃｍｌ１ｇα
：３．５
第１図及び第２図は、本発明ポリマーの赤外線吸収スペ
クトルである。 （以 上） 第１図 第２図
クトルである。 （以 上） 第１図 第２図
Claims (3)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒはフッ素原子又は炭素数１〜１０のアルキル
基を示し、ｎは２以上の整数を示す。〕で表わされる含
フッ素ポリフェニルアセチレン類。 - （２）タングステンカルボニル若しくは六塩化タングス
テンの存在下又は六塩化タングステンと有機金属化合物
との共存下に、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒはフッ素原子又は炭素数１〜１０のアルキル
基を示す。〕 で表わされる化合物を重合させることを特徴とする、一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは上記に同じ。ｎは２以上の整数を示す。〕 で表わされる含フッ素ポリフェニルアセチレン類の製法
。 - （３）有機金属化合物が、テトラフェニルスズ、テトラ
ブチルスズ、トリエチルシラン、トリフェニルビスマス
、トリフェニルアンチモン、ブチルリチウム及びトリエ
チルアルミニウムからなる群から選ばれた化合物である
特許請求の範囲第２項に記載の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62108360A JP2559588B2 (ja) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | 気体分離膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62108360A JP2559588B2 (ja) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | 気体分離膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63273610A true JPS63273610A (ja) | 1988-11-10 |
| JP2559588B2 JP2559588B2 (ja) | 1996-12-04 |
Family
ID=14482761
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62108360A Expired - Lifetime JP2559588B2 (ja) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | 気体分離膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2559588B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63275614A (ja) * | 1987-05-07 | 1988-11-14 | Masayoshi Tabata | パラ置換フェニルアセチレン類重合体の製造方法 |
| WO2006062255A1 (ja) * | 2004-12-10 | 2006-06-15 | Otsuka Chemical Co., Ltd. | 有機ビスマス化合物、その製造方法、リビングラジカル重合開始剤、それを用いるポリマーの製造方法及びポリマー |
| WO2016047351A1 (ja) * | 2014-09-22 | 2016-03-31 | 富士フイルム株式会社 | ガス分離膜、ガス分離モジュール、ガス分離装置、及びガス分離方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4948778A (ja) * | 1972-09-11 | 1974-05-11 | ||
| JPS5130892A (en) * | 1974-09-10 | 1976-03-16 | Mitsubishi Chem Ind | Fueniruasechiren no jugohoho |
| JPS5365384A (en) * | 1976-11-24 | 1978-06-10 | Toshinobu Higashimura | Polymerization process of phenyl acetylenes |
| JPS5441989A (en) * | 1977-09-09 | 1979-04-03 | Toshinobu Higashimura | Method of polymerizing phenylacetylenes |
| JPS60166309A (ja) * | 1984-02-09 | 1985-08-29 | Agency Of Ind Science & Technol | フツ素またはトリフルオロメチル基を有するポリフエニルアセチレン類 |
-
1987
- 1987-04-30 JP JP62108360A patent/JP2559588B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| WO2006062255A1 (ja) * | 2004-12-10 | 2006-06-15 | Otsuka Chemical Co., Ltd. | 有機ビスマス化合物、その製造方法、リビングラジカル重合開始剤、それを用いるポリマーの製造方法及びポリマー |
| US7847043B2 (en) | 2004-12-10 | 2010-12-07 | Otsuka Chemical Co., Ltd. | Organic bismuth compound, method for producing same, living radical polymerization initiator, method for producing polymer using same, and polymer |
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