JPS632834A - 光学ガラスフアイバ−用一次被覆材料 - Google Patents
光学ガラスフアイバ−用一次被覆材料Info
- Publication number
- JPS632834A JPS632834A JP61081864A JP8186486A JPS632834A JP S632834 A JPS632834 A JP S632834A JP 61081864 A JP61081864 A JP 61081864A JP 8186486 A JP8186486 A JP 8186486A JP S632834 A JPS632834 A JP S632834A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acrylate
- coating material
- epoxy
- primary coating
- polyether polyol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は紫外線で硬化させることKより、低温で低いヤ
ング率を保持できる皮膜を与える光伝送用光学ガラスフ
ァイバー−次被覆用樹脂組成物に関するものである。
ング率を保持できる皮膜を与える光伝送用光学ガラスフ
ァイバー−次被覆用樹脂組成物に関するものである。
光伝送に用いられる光学ガラスファイバー(以下、光フ
ァイバーという)の被覆は、通常、低ヤング率材料の内
層と高ヤング率材料の外層とからなる2層となっており
、それぞれ、−次被覆、二次被覆と呼ばれている。
ァイバーという)の被覆は、通常、低ヤング率材料の内
層と高ヤング率材料の外層とからなる2層となっており
、それぞれ、−次被覆、二次被覆と呼ばれている。
一次被覆は伝送損失の低減と初期強度を維持するため、
光ファイバーをガラス母材から紡糸した直後にその表面
に被覆されるが、従来この一次被覆材料としては熱硬化
性のシリコーン樹脂が用いられてきた(エレクトロニク
ス レターズ、16巻、100頁(1980年))。
光ファイバーをガラス母材から紡糸した直後にその表面
に被覆されるが、従来この一次被覆材料としては熱硬化
性のシリコーン樹脂が用いられてきた(エレクトロニク
ス レターズ、16巻、100頁(1980年))。
最近は、伝送媒体である光ファイバーの価格低減が求め
られ、低価格かつ光ファイバーの高速製造が可能なポリ
ブタジェンアクリレート、ポリエステルウレタンアクリ
レート等の紫外線硬化性樹脂匝よる一次被覆材料が種々
検討されてきている(特開昭58−223638号)。
られ、低価格かつ光ファイバーの高速製造が可能なポリ
ブタジェンアクリレート、ポリエステルウレタンアクリ
レート等の紫外線硬化性樹脂匝よる一次被覆材料が種々
検討されてきている(特開昭58−223638号)。
これら紫外線硬化型−次被覆材料は熱硬化型シリコーン
樹脂と比較して低温でのヤング率が高く、このため低温
での収縮による圧縮歪が大きくなり伝送損失が増加する
という欠点があった。
樹脂と比較して低温でのヤング率が高く、このため低温
での収縮による圧縮歪が大きくなり伝送損失が増加する
という欠点があった。
本発明は、低温での低いヤング率を保持する皮膜を与え
る紫外線で硬化する光ファイバーの一次被覆用樹脂組成
物を提供することを目的とする。
る紫外線で硬化する光ファイバーの一次被覆用樹脂組成
物を提供することを目的とする。
即ち、本発明は、一般式、
HO(RO)nH
〔式中、Rは炭素数2〜4のアルキレン基であり、nは
6〜80の数である〕 で示されるポリエーテルポリオールにエピハロヒドリン
を反応させてハロヒドリンエーテルを得、これを脱ハロ
ゲン化水素反応して得たポリエーテルポリオールのエポ
キシ化合物に、アクリル酸を反応させて得られるエポキ
シアクリレートを主材とする光学ガラスファイバー用一
次被覆材料を提供するものである。
6〜80の数である〕 で示されるポリエーテルポリオールにエピハロヒドリン
を反応させてハロヒドリンエーテルを得、これを脱ハロ
ゲン化水素反応して得たポリエーテルポリオールのエポ
キシ化合物に、アクリル酸を反応させて得られるエポキ
シアクリレートを主材とする光学ガラスファイバー用一
次被覆材料を提供するものである。
(ポリエーテルポリオールのエポキシ化合物)エポキシ
アクリレートの原料であるポリオールのエポキシ化物は
、エチレンオキサイド(EO)10〜80モル%とプロ
ピレンオキサイド(PO )90〜20モル%とを反応
させて得られるポリエーテルポリオール(ブロック共重
合体又はランダム共重合体のいずれでもよい)又はポリ
プロピレングリコールに、ルイス酸の存在下エピハロヒ
ドリンと反応した後、生成したハロヒドリン中間体生成
物をアルカリ金属水酸化物で脱ハロゲン化水素すること
により得られるもので、エポキシ当量が250〜2,0
00のものが望ましい。エポキシ当量が250よ抄小さ
い場合、エポキシアクリレートの紫外線硬化物の低温で
のヤング率が大きくなり、光ファイバーの伝送損失に悪
影響を与える。
アクリレートの原料であるポリオールのエポキシ化物は
、エチレンオキサイド(EO)10〜80モル%とプロ
ピレンオキサイド(PO )90〜20モル%とを反応
させて得られるポリエーテルポリオール(ブロック共重
合体又はランダム共重合体のいずれでもよい)又はポリ
プロピレングリコールに、ルイス酸の存在下エピハロヒ
ドリンと反応した後、生成したハロヒドリン中間体生成
物をアルカリ金属水酸化物で脱ハロゲン化水素すること
により得られるもので、エポキシ当量が250〜2,0
00のものが望ましい。エポキシ当量が250よ抄小さ
い場合、エポキシアクリレートの紫外線硬化物の低温で
のヤング率が大きくなり、光ファイバーの伝送損失に悪
影響を与える。
また、エポキシ当量が2000より大きい場合、エポキ
シアクリレートの紫外線硬化性が低下し、生産性が低く
なる。
シアクリレートの紫外線硬化性が低下し、生産性が低く
なる。
(エポキシアクリレート)
エポキシアクリレートは、上記ポリオールのエポキシ化
合物と、アクリル酸とを反応温度80〜110℃で、5
〜20時間反応することによ抄合成することができる。
合物と、アクリル酸とを反応温度80〜110℃で、5
〜20時間反応することによ抄合成することができる。
この合成において、ポリオールのエポキシ化合物のエポ
キシ基1グラム当量に対してアクリル酸を1.0〜1.
2モルとなるように配合比を選ぶことが望ましい。
キシ基1グラム当量に対してアクリル酸を1.0〜1.
2モルとなるように配合比を選ぶことが望ましい。
上記反応の際には、必要に応じて触媒、禁止剤等を使用
してもよく、触媒として例えば、ペンジルトリエチルア
ンモニウムクロライト、ベンジルトリブチルアンモニウ
ムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、
テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルア
ンモニウムブロマイド、テトラメチルアンモニウムヒド
ロキサイド等の第4級アンモニウム塩が挙げられ、禁止
剤としては例えば、ハイドロキノン、ハロドロキノンモ
ノメチルエーテル、フェノチアジン等が挙げられる。
してもよく、触媒として例えば、ペンジルトリエチルア
ンモニウムクロライト、ベンジルトリブチルアンモニウ
ムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、
テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルア
ンモニウムブロマイド、テトラメチルアンモニウムヒド
ロキサイド等の第4級アンモニウム塩が挙げられ、禁止
剤としては例えば、ハイドロキノン、ハロドロキノンモ
ノメチルエーテル、フェノチアジン等が挙げられる。
本発明のエポキシアクリレートを主材とする光フアイバ
ー用一次被覆材料は種々のタイプの放射線、例えばβ線
、電子線、紫外線によし硬化するが、特に、紫外線によ
る硬化に優れている。
ー用一次被覆材料は種々のタイプの放射線、例えばβ線
、電子線、紫外線によし硬化するが、特に、紫外線によ
る硬化に優れている。
紫外線による硬化の場合は増感剤として、ペンツインメ
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン
イソグロビルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ジ
ェトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、
2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、1−ヒ
ドロキシシフ四へキシルフェニルケトン、ベンゾフェノ
ン、ミヒラーズケトン、N、N−ジメチルアミノ−安息
香酸イソアミル、2−クロロチオキサントン、2,4−
ジエチルテオキサントン等が好適に用いラレ、これらの
うち少なくとも一種をエポキシアクリレートに対して通
常0.1−10重量部、好ましくは1〜5重量部添加し
て用いられる。
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン
イソグロビルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ジ
ェトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、
2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、1−ヒ
ドロキシシフ四へキシルフェニルケトン、ベンゾフェノ
ン、ミヒラーズケトン、N、N−ジメチルアミノ−安息
香酸イソアミル、2−クロロチオキサントン、2,4−
ジエチルテオキサントン等が好適に用いラレ、これらの
うち少なくとも一種をエポキシアクリレートに対して通
常0.1−10重量部、好ましくは1〜5重量部添加し
て用いられる。
本発明の一次被覆材料であるエポキシアクリレートは単
独でも用いられるが、粘度調整のため、硬化時のヤング
率の温度変化の少ないアクリル系モノマー又は樹脂と併
用することもできる。
独でも用いられるが、粘度調整のため、硬化時のヤング
率の温度変化の少ないアクリル系モノマー又は樹脂と併
用することもできる。
上記アクリル系モノマーまたは樹脂として特に好ましい
ものは分子中にエーテル結合を有するモノマーおよびオ
リゴマーである。
ものは分子中にエーテル結合を有するモノマーおよびオ
リゴマーである。
具体的には、■2−メトキシエチルアクリレート、2−
エトキシエチルアクリレート、2−ブトキシエチルアク
リレート、フェノキシエチルアクリレート、フエニルジ
エチレングリコールアクリレート、フェニルトリエチレ
ングリコールアクリレート、フェニルテトラエチレング
リコールアク!7L/−)、/ニルフェノキシエチルア
クリレート、ノニルフエノキシジエデレングリコールア
クリレート、ノニルフェノキシトリエチレングリコール
アクリレート等のモノマー;■(a)、エチレンオキサ
イド(EO)11り〜80モル%とプロピレンオキサイ
ド(PO)9?〜20モルフoとを反応させて得られる
分子量が2.000〜6,000のポリエーテルポリオ
ールと、(ロ)、ポリイソシアネートと、(c)。
エトキシエチルアクリレート、2−ブトキシエチルアク
リレート、フェノキシエチルアクリレート、フエニルジ
エチレングリコールアクリレート、フェニルトリエチレ
ングリコールアクリレート、フェニルテトラエチレング
リコールアク!7L/−)、/ニルフェノキシエチルア
クリレート、ノニルフエノキシジエデレングリコールア
クリレート、ノニルフェノキシトリエチレングリコール
アクリレート等のモノマー;■(a)、エチレンオキサ
イド(EO)11り〜80モル%とプロピレンオキサイ
ド(PO)9?〜20モルフoとを反応させて得られる
分子量が2.000〜6,000のポリエーテルポリオ
ールと、(ロ)、ポリイソシアネートと、(c)。
水酸基を有するアクリレートとを反応して得られるウレ
タンアクリレート等のアクリル系樹脂があげられる。
タンアクリレート等のアクリル系樹脂があげられる。
上記■のウレタンアクリレートの原料である(&)ポリ
エーテルポリオールとしては、エチレンオキサイドとプ
ロピレンオキサイドのモル比(EO/PO)が8/2〜
1/9のエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの
ブロック共重合体またはランダム共重合体のいずれでも
使用できる。このポリエーテルポリオールの分子数は2
.000〜6゜000である。分子量が2.000より
小さい場合、光硬化性樹脂組成物の紫外線硬化物の低温
でのヤング率が大きくな抄、光ファイバーが破損しやす
い。また、分子量が6,000よ抄大きい場合、光硬化
性樹脂組成物の紫外線硬化性が低下し、生産性が低くな
る。
エーテルポリオールとしては、エチレンオキサイドとプ
ロピレンオキサイドのモル比(EO/PO)が8/2〜
1/9のエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの
ブロック共重合体またはランダム共重合体のいずれでも
使用できる。このポリエーテルポリオールの分子数は2
.000〜6゜000である。分子量が2.000より
小さい場合、光硬化性樹脂組成物の紫外線硬化物の低温
でのヤング率が大きくな抄、光ファイバーが破損しやす
い。また、分子量が6,000よ抄大きい場合、光硬化
性樹脂組成物の紫外線硬化性が低下し、生産性が低くな
る。
次に、Φ)ポリイソシアネートとしては、2.4−トリ
レンジイソシアネート、2.6−)リレンジイソシアネ
ート、ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート
、ナフチレン−1,5−ジイソシアネート、キシリレン
ジインシアネート、インホルンジイソシアネート、1,
6−へキサメチレンジイソシアネート、トリメチルへキ
サメチレンジイソシアネート、およびこれらの混合物が
挙げられる。
レンジイソシアネート、2.6−)リレンジイソシアネ
ート、ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート
、ナフチレン−1,5−ジイソシアネート、キシリレン
ジインシアネート、インホルンジイソシアネート、1,
6−へキサメチレンジイソシアネート、トリメチルへキ
サメチレンジイソシアネート、およびこれらの混合物が
挙げられる。
次に、(c)水酸基を有するアクリレートとしては、ヒ
ドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアク
リレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルア
クリレートおよびこれらの混合物が挙げられる。
ドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアク
リレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルア
クリレートおよびこれらの混合物が挙げられる。
そして、このウレタンアクリレートは、ポリエーテルポ
リオール(a)とポリインシアネート(b)と水酸基を
有するアクリレ−) (c)のモル比を(a)/(b)
/(e)とすると、これら原料をa/e−=0.5〜2
;(za+c)/zb=i〜1.2の割合で用い反応す
ることにより合成される。
リオール(a)とポリインシアネート(b)と水酸基を
有するアクリレ−) (c)のモル比を(a)/(b)
/(e)とすると、これら原料をa/e−=0.5〜2
;(za+c)/zb=i〜1.2の割合で用い反応す
ることにより合成される。
ウレタンアクリレートの合成方法としては、(1)ポリ
エーテルポリオールとポリイソシアネートを反応させた
のち、水酸基を有するアクリレートを反応する方法。(
2)ポリインシアネートと水酸基を有するアクリレート
を反応したのちポリエーテルポリオールを反応する方法
、および(3)ポリエーテルポリオールとポリイソシア
ネートと水酸基を有するアクリレートを同時に反応する
方法のいずれでもよく、50〜110℃で必要に応じ1
〜20時間反応する。
エーテルポリオールとポリイソシアネートを反応させた
のち、水酸基を有するアクリレートを反応する方法。(
2)ポリインシアネートと水酸基を有するアクリレート
を反応したのちポリエーテルポリオールを反応する方法
、および(3)ポリエーテルポリオールとポリイソシア
ネートと水酸基を有するアクリレートを同時に反応する
方法のいずれでもよく、50〜110℃で必要に応じ1
〜20時間反応する。
反応に際し、たとえば1,4−ジアザビシクロ(2,2
,2)オクタン、オクトエ酸すず、ジブチルスズジラウ
レートのようなイソシアネートの反応触媒や、ハイドロ
キノン、ノ1イドロキノンモノメチルエーテル、フェノ
チアジンのようなアクリロイル基の重合禁止剤を添加し
てもよい。
,2)オクタン、オクトエ酸すず、ジブチルスズジラウ
レートのようなイソシアネートの反応触媒や、ハイドロ
キノン、ノ1イドロキノンモノメチルエーテル、フェノ
チアジンのようなアクリロイル基の重合禁止剤を添加し
てもよい。
このようにして得られるウレタンアクリレートは、次式
で示されるものである。
で示されるものである。
〔式中、R3は、水酸基を有するアクリレートのアルキ
レン基であり、&はポリインシアネートのインシアネー
ト基を残した基であり、Rsはポリエーテル・ポリオー
ルの水酸基を除いた基である。RはHまたはCH3であ
る〕 これらアクリル系モノマ7またはアクリル系樹脂の使用
割合は、前記エポキシアクリレートに対して、通常1〜
80重量%、好ましくは10〜50重量%である。
レン基であり、&はポリインシアネートのインシアネー
ト基を残した基であり、Rsはポリエーテル・ポリオー
ルの水酸基を除いた基である。RはHまたはCH3であ
る〕 これらアクリル系モノマ7またはアクリル系樹脂の使用
割合は、前記エポキシアクリレートに対して、通常1〜
80重量%、好ましくは10〜50重量%である。
従って、本発明の光学ガラスファイバー用一次被覆材料
は、例えば、 ■9エポキシアクリレート 60〜100重量% a3)、上記(A)成分と相溶性のあるアクリル系モノ
マーまだは樹脂 40〜O重量%上記(A)
成分と(B)成分を含有する光硬化性樹脂100重量部
に対し、光重合開始剤が0.1〜10重量部の割合で配
合された光重合性樹脂組成物であると表示してもよい。
は、例えば、 ■9エポキシアクリレート 60〜100重量% a3)、上記(A)成分と相溶性のあるアクリル系モノ
マーまだは樹脂 40〜O重量%上記(A)
成分と(B)成分を含有する光硬化性樹脂100重量部
に対し、光重合開始剤が0.1〜10重量部の割合で配
合された光重合性樹脂組成物であると表示してもよい。
紫外線による硬化物の機械的物性は基本的には(A)成
分のエポキシアクリレートまたはこのエポキシアクリレ
ートと03)成分のウレタンアクリレートに依存してお
り、03)成分のアクリル系モノマーは低温(0〜−4
0℃)での硬化物のヤング率を上げることなく、主とし
て光ファイバーへの光硬化性樹脂組成物の被覆が容易に
なるように粘度を低下させるために用いられる。このた
め、ノ)アクリル系モノマーの配合割合は、−次被覆材
料中の樹脂分中の40重1%以下とするのが好ましい。
分のエポキシアクリレートまたはこのエポキシアクリレ
ートと03)成分のウレタンアクリレートに依存してお
り、03)成分のアクリル系モノマーは低温(0〜−4
0℃)での硬化物のヤング率を上げることなく、主とし
て光ファイバーへの光硬化性樹脂組成物の被覆が容易に
なるように粘度を低下させるために用いられる。このた
め、ノ)アクリル系モノマーの配合割合は、−次被覆材
料中の樹脂分中の40重1%以下とするのが好ましい。
この発明の光ファイバー−次被覆用樹脂組成物は、以上
の成分のほか、必要に応じて貯蔵時の熱による重合を禁
止する目的で熱重合禁止剤()・イドロキノン、ハイド
ロキノンモノメチルエーテル、ベンゾキノン、カテコー
ル、p−t−ブチルカテコール、フェノチアジンなど)
、塗膜物性の改&のため本組成物に溶解する熱可塑性樹
脂(ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹
脂、シリコーン樹脂)や有機けい素化合物、界面活性剤
などの各種添加剤を配合してもよい。
の成分のほか、必要に応じて貯蔵時の熱による重合を禁
止する目的で熱重合禁止剤()・イドロキノン、ハイド
ロキノンモノメチルエーテル、ベンゾキノン、カテコー
ル、p−t−ブチルカテコール、フェノチアジンなど)
、塗膜物性の改&のため本組成物に溶解する熱可塑性樹
脂(ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹
脂、シリコーン樹脂)や有機けい素化合物、界面活性剤
などの各種添加剤を配合してもよい。
この発明の光ファイバー−次被覆用樹脂組成物を用いて
実際に光ファイバーを被覆するには、従来公知の方法(
特開昭58−22638号、DT2.459,320号
)に準じて行えばよく、光ファイバーの表面に本発明の
一次被覆用樹脂組成物を塗布したのち、紫外線を照射し
て重合硬化させればよい。
実際に光ファイバーを被覆するには、従来公知の方法(
特開昭58−22638号、DT2.459,320号
)に準じて行えばよく、光ファイバーの表面に本発明の
一次被覆用樹脂組成物を塗布したのち、紫外線を照射し
て重合硬化させればよい。
以下、実施例によ抄本発明を更に詳細に説明する。なお
、例中の部は特に注をしない限り、重量基準である。
、例中の部は特に注をしない限り、重量基準である。
実施例1
エチレンオキサイド(10モル%)トプロピレンオキサ
イド(90モル%)とのブロック共重合体である分子量
2,000のポリエーテルポリオールのエポキシ化物(
エポキシ当量:1,200)93.8部と、アクリル酸
6.2部とを、ベンジルトリエチルアンモニウムクロラ
イド0.5部とノ・イドロキノンモノメチルエーテル0
.05部の存在下、110℃で10時間反応することに
よりエポキシアクリレートを得た。
イド(90モル%)とのブロック共重合体である分子量
2,000のポリエーテルポリオールのエポキシ化物(
エポキシ当量:1,200)93.8部と、アクリル酸
6.2部とを、ベンジルトリエチルアンモニウムクロラ
イド0.5部とノ・イドロキノンモノメチルエーテル0
.05部の存在下、110℃で10時間反応することに
よりエポキシアクリレートを得た。
このエポキシアクリレート100部に、1−ヒドロキシ
シクロへキシルフェニルケトン3m’1解混合し、粘度
950センチボイズ(25℃)の光フアイバー用一次被
覆材料を得た。
シクロへキシルフェニルケトン3m’1解混合し、粘度
950センチボイズ(25℃)の光フアイバー用一次被
覆材料を得た。
この被覆材料をガラス板上に100μになるように塗布
し、出力2仄、出力密度soW/6Rの高圧水銀ランプ
を試料通過方向と垂直に設置した照射装置を用い、光源
下9αの位置に訃いてコンベアスピード10m/分で硬
化させた。得られたフィルムの物性値を次に示す。
し、出力2仄、出力密度soW/6Rの高圧水銀ランプ
を試料通過方向と垂直に設置した照射装置を用い、光源
下9αの位置に訃いてコンベアスピード10m/分で硬
化させた。得られたフィルムの物性値を次に示す。
温度 ヤング率(kg/d ) *1+20℃
55 0 ℃ 58 −20 ℃ 65 −40 ℃ 89 硬度(ショアA) 69 *1:以下ヤング率は2.5%モジュラスとする。
55 0 ℃ 58 −20 ℃ 65 −40 ℃ 89 硬度(ショアA) 69 *1:以下ヤング率は2.5%モジュラスとする。
光フアイバー母材を30m/分の線引速度で直径125
μmの光ファイバーに紡糸した後、紡糸工程に引続く工
程において、前記被覆材料を光フアイバー表面に塗布し
、線引方向に平行に設置した高圧水銀ランプ(出力2廣
、出力密度80W10n ) 2灯で紫外線を照射して
硬化させた。
μmの光ファイバーに紡糸した後、紡糸工程に引続く工
程において、前記被覆材料を光フアイバー表面に塗布し
、線引方向に平行に設置した高圧水銀ランプ(出力2廣
、出力密度80W10n ) 2灯で紫外線を照射して
硬化させた。
被覆後の光ファイバーの外径は250μmであり、表面
は均一であった。得られた被覆光ファイバーは一40℃
まで伝送損失の増加は認められなかった。
は均一であった。得られた被覆光ファイバーは一40℃
まで伝送損失の増加は認められなかった。
実施例2
エチレンオキサイド(70モル%)トプロピレンオキサ
イド(30モル%)とのランダム共重合体である分子3
12,800のポリエーテルポリオールのエポキシ化物
(エポキシ当量:1700)95.3部と、アクリル酸
4.7部とを、テトラメチルアンモニウムブロマイド0
.5部とフェノチアジン0.05部の存在下、110℃
で12時間反応することによ妙エポキシアクリレートを
得た。
イド(30モル%)とのランダム共重合体である分子3
12,800のポリエーテルポリオールのエポキシ化物
(エポキシ当量:1700)95.3部と、アクリル酸
4.7部とを、テトラメチルアンモニウムブロマイド0
.5部とフェノチアジン0.05部の存在下、110℃
で12時間反応することによ妙エポキシアクリレートを
得た。
このエポキシアクリレート80部に、分子量1・000
のポリテトラメチレングリコールにインホロンジイソシ
アネートとヒドロキシエチルアクリレートを反応させて
得られるウレタンアクリレート10部、フェノキシポリ
エチレングリコールアクリレート10部および1−ヒド
ロキシシクロへキシルフェニルケトン3部を溶解混合し
、粘度2000センチポイズ(25℃)の光フアイバー
用一次被覆材料を得た。
のポリテトラメチレングリコールにインホロンジイソシ
アネートとヒドロキシエチルアクリレートを反応させて
得られるウレタンアクリレート10部、フェノキシポリ
エチレングリコールアクリレート10部および1−ヒド
ロキシシクロへキシルフェニルケトン3部を溶解混合し
、粘度2000センチポイズ(25℃)の光フアイバー
用一次被覆材料を得た。
本被覆材料を用い、実施例1と同様にして得られた硬化
フィルムの物性値を次に示す。
フィルムの物性値を次に示す。
温度 ヤング率(try/d )
+20℃ 90
0 ℃ 92
−20 ℃ 99
−40℃ 115
硬度(ショアA) 80
また、本被覆材料を用い、実施例1と同様にして得られ
た被覆光ファイバーは、−40℃まで伝送損失の増加は
認められなかった。
た被覆光ファイバーは、−40℃まで伝送損失の増加は
認められなかった。
実施例3
分子量700のポリプロピレングリコールのエポキシ化
物(エポキシ当i : 470 ) 85.5部と、ア
クリル酸14.5部とを、テトラブチルアンモニウムブ
ロマイド0.5部とハイドロキノンモノメチルエーテル
0.05部の存在下、110℃で8時間反応することに
よ抄エポキシアクリレートを得た。
物(エポキシ当i : 470 ) 85.5部と、ア
クリル酸14.5部とを、テトラブチルアンモニウムブ
ロマイド0.5部とハイドロキノンモノメチルエーテル
0.05部の存在下、110℃で8時間反応することに
よ抄エポキシアクリレートを得た。
このエポキシアクリレート75部に、エチレンオキサイ
ド(10モル%)とプマビレンオキサイド(90モル%
)のブロック共重合体である分子312.000のポリ
エーテルポリオールにトリレンジイソシアネートとヒド
ロキシエチルアクリレートを反応させて得られるウレタ
ンアクリレート25部およびベンジルジメチルケタール
3部を溶解混合し、粘度3500センチボイズ(25℃
)の光フアイバー用一次被覆材料を得た。
ド(10モル%)とプマビレンオキサイド(90モル%
)のブロック共重合体である分子312.000のポリ
エーテルポリオールにトリレンジイソシアネートとヒド
ロキシエチルアクリレートを反応させて得られるウレタ
ンアクリレート25部およびベンジルジメチルケタール
3部を溶解混合し、粘度3500センチボイズ(25℃
)の光フアイバー用一次被覆材料を得た。
本被覆材料を用い、実施例1と同様にして尋られた硬化
フィルムの物性値を次に示す。
フィルムの物性値を次に示す。
温度 ヤング率(汀/−)
+20℃ 75
0 ℃ 77
一20℃ 84
−40℃ 98
硬度(ショアA) 74
また、本被覆材料を用い、実施例1と同様にして得られ
た被覆光ファイバーは、−40℃まで伝送損失の増加は
認められなかった。
た被覆光ファイバーは、−40℃まで伝送損失の増加は
認められなかった。
実施例4
分子ill、500のポリイソブチレングリコールのエ
ポキシ化物(エポキシ当量: 940 ) 91.6部
とアクリル酸8.4部とを、ベンジルトリエチルアンモ
ニウムクロライド0.5部とフェノチアジン0.05部
の存在下、110℃で15時間反応することによりエポ
キシアクリレートを得た。
ポキシ化物(エポキシ当量: 940 ) 91.6部
とアクリル酸8.4部とを、ベンジルトリエチルアンモ
ニウムクロライド0.5部とフェノチアジン0.05部
の存在下、110℃で15時間反応することによりエポ
キシアクリレートを得た。
このエポキシアクリレート100部に、ベンジルジメチ
ルケタール3部を溶解混合し、粘度1,700センチボ
イズ(25℃)の光フアイバー用一次被覆材料を得た。
ルケタール3部を溶解混合し、粘度1,700センチボ
イズ(25℃)の光フアイバー用一次被覆材料を得た。
本被覆材料を用い、実施例1と同様にして得られた硬化
フィルムの物性値を次に示す。
フィルムの物性値を次に示す。
温度 ヤング率(#/clI) 、+20℃
63 0℃ 69 −20 ℃ 74 −40 ℃ 90 硬度(ショアA) 72 また、本被覆材料を用い、実施例1と同様にして得られ
た被覆光ファイバーは、−40℃まで伝送損失の増加は
認められなかった。
63 0℃ 69 −20 ℃ 74 −40 ℃ 90 硬度(ショアA) 72 また、本被覆材料を用い、実施例1と同様にして得られ
た被覆光ファイバーは、−40℃まで伝送損失の増加は
認められなかった。
実施例5
分子量1,000のポリテトラメチレングリコールのエ
ポキシ化物(エポキシ当量: 6 s O)90.0部
とアクリル酸10.0部とを、テトラメチルアンモニウ
ムクロライド0.5部とハイドロキノンモノメチルエー
テル0.05部の存在下、110℃で12時間反応する
ことKよりエポキシアクリレートを得た。
ポキシ化物(エポキシ当量: 6 s O)90.0部
とアクリル酸10.0部とを、テトラメチルアンモニウ
ムクロライド0.5部とハイドロキノンモノメチルエー
テル0.05部の存在下、110℃で12時間反応する
ことKよりエポキシアクリレートを得た。
このエポキシアクリレート70部に、分子!に2゜00
0のポリプロピレングリコールにトリレンジイソシアネ
ートとヒドロキシエチルアクリレートを反応させて得ら
れるウレタンアクリレート30部および1−ヒドロキシ
エチルへキシルフェニルケトン3部を溶解混合し、粘度
8200センチボイズ(25℃)の光フアイバー用一次
被覆材料を得た。
0のポリプロピレングリコールにトリレンジイソシアネ
ートとヒドロキシエチルアクリレートを反応させて得ら
れるウレタンアクリレート30部および1−ヒドロキシ
エチルへキシルフェニルケトン3部を溶解混合し、粘度
8200センチボイズ(25℃)の光フアイバー用一次
被覆材料を得た。
本被覆材料を用い、実施例1と同様にして得られた硬化
フィルムの物性を次に示す。
フィルムの物性を次に示す。
温度 ヤング率(却/、、I)
+20℃ 46
0 ℃ 52
一20℃ 58
−40℃ 74
硬度(ショアA) 48
また、本被覆材料を用い、実施例1と同様にして得られ
た被覆光ファイバーは、−40Cまで伝送損失の増加は
認められなかった。
た被覆光ファイバーは、−40Cまで伝送損失の増加は
認められなかった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)、一般式、 HO(RO)_nH 〔式中、Rは炭素数2〜4のアルキレン基であり、nは
6〜80の数である〕 で示されるポリエーテルポリオールにエピハロヒドリン
を反応させてハロヒドリンエーテルを得、これを脱ハロ
ゲン化水素反応して得たポリエーテルポリオールのエポ
キシ化合物に、アクリル酸を反応させて得られるエポキ
シアクリレートを主材とする光学ガラスファイバー用一
次被覆材料。 2)、ポリエーテルポリオールが、エチレンオキサイド
10〜80モル%とプロピレンオキサイド90〜20モ
ル%との共重合体、ポリプロピレングリコール、ポリイ
ソブチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール
より選ばれたものである特許請求の範囲第1項記載の光
学ガラスファイバー用一次被覆材料。 3)、エポキシ化合物のエポキシ当量が250〜2,0
00である特許請求の範囲第1項記載の光学ガラスファ
イバー用一次被覆材料。 4)、光学ガラスファイバー用一次被覆材料が、 (A)、エポキシアクリレート 60〜100重量% (B)、上記(A)成分と相溶性のあるアクリル系モノ
マーまたは樹脂 40〜0重量% 上記(A)成分と(B)成分を含有する光硬化性樹脂1
00重量部に対し、光重合開始剤が0.1〜10重量部
の割合で配合された光重合性樹脂組成物であることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の光学ガラスファイ
バー用一次被覆材料。 5)、(B)成分のアクリル系樹脂が、 (a)、エチレンオキサイド(EO)10〜80モル%
とプロピレンオキサイド(PO)90〜20モル%とを
反応させて得られる分子量が2,000〜6,000の
ポリエーテルポリオールと、 (b)、ポリイソシアネートと (c)、水酸基を有するアクリレート とを反応して得られるウレタンアクリレートであること
を特徴とする特許請求の範囲第4項記載の光学ガラスフ
ァイバー用一次被覆材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61081864A JPS632834A (ja) | 1986-04-09 | 1986-04-09 | 光学ガラスフアイバ−用一次被覆材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61081864A JPS632834A (ja) | 1986-04-09 | 1986-04-09 | 光学ガラスフアイバ−用一次被覆材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS632834A true JPS632834A (ja) | 1988-01-07 |
Family
ID=13758339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61081864A Pending JPS632834A (ja) | 1986-04-09 | 1986-04-09 | 光学ガラスフアイバ−用一次被覆材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS632834A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006225191A (ja) * | 2005-02-16 | 2006-08-31 | Olympus Corp | ファイバ製造方法およびファイバ |
| US10197162B2 (en) | 2014-03-14 | 2019-02-05 | Nok Corporation | Gasket |
| WO2019194198A1 (ja) * | 2018-04-02 | 2019-10-10 | 住友電気工業株式会社 | 樹脂組成物、光ファイバのセカンダリ被覆材料及び光ファイバ |
| US11914186B2 (en) | 2018-04-16 | 2024-02-27 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber |
-
1986
- 1986-04-09 JP JP61081864A patent/JPS632834A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006225191A (ja) * | 2005-02-16 | 2006-08-31 | Olympus Corp | ファイバ製造方法およびファイバ |
| US10197162B2 (en) | 2014-03-14 | 2019-02-05 | Nok Corporation | Gasket |
| WO2019194198A1 (ja) * | 2018-04-02 | 2019-10-10 | 住友電気工業株式会社 | 樹脂組成物、光ファイバのセカンダリ被覆材料及び光ファイバ |
| JPWO2019194198A1 (ja) * | 2018-04-02 | 2021-05-13 | 住友電気工業株式会社 | 樹脂組成物、光ファイバのセカンダリ被覆材料及び光ファイバ |
| US11629269B2 (en) | 2018-04-02 | 2023-04-18 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Resin composition, secondary coating material for optical fiber, and optical fiber |
| US11914186B2 (en) | 2018-04-16 | 2024-02-27 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4889768A (en) | Novel silicon-urethane (meth) acrylate, and resin composition and coating material comprising same | |
| JPH11349651A (ja) | 樹脂組成物及び硬化物 | |
| JPS6083907A (ja) | 光学ガラスフアイバ用被覆材料 | |
| JP2868191B2 (ja) | ウレタン(メタ)アクリレート、これを用いた樹脂組成物、光ファイバー用コーティング剤及び硬化物 | |
| JPH11349646A (ja) | 樹脂組成物及び硬化物 | |
| US4854666A (en) | Photosetting resin composition | |
| JP2582575B2 (ja) | 樹脂組成物及びコ−ティング剤 | |
| JP3115718B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物 | |
| JPH0555458B2 (ja) | ||
| JP3301447B2 (ja) | ウレタン・不飽和オルガノオリゴマーとその製造方法 | |
| JP3157321B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物 | |
| JPS63239139A (ja) | 光学ガラスフアイバ用被覆材料 | |
| JPH02133338A (ja) | 光学ガラスファイバ用コーテイング剤 | |
| AU600783B2 (en) | Polyurethane (meth)acrylate mixture, resin composition, and coating agent | |
| JP3193495B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 | |
| JP2648603B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
| JPS61281051A (ja) | 光学ガラスフアイバ−一次被覆用樹脂組成物 | |
| JPH04356444A (ja) | (メタ)アクリル酸エステル、その製造方法、それを用いた樹脂組成物、光ファイバー用コーティング剤及び硬化物 | |
| JPH0511122B2 (ja) | ||
| JPH01229022A (ja) | 反応性光重合開始剤、樹脂組成物及びコーティング剤 | |
| JPS63297369A (ja) | ウレタン(メタ)アクリレ−ト混合物、樹脂組成物及びコ−テイング剤 | |
| JPS6083908A (ja) | 光学ガラスフアイバ用被覆材料 | |
| JPH0211611A (ja) | 樹脂組成物及び光学ガラスファイバ用被覆材料 | |
| JPS63255289A (ja) | 新規なシリコンウレタン(メタ)アクリレ−ト、これを用いた樹脂組成物およびコ−テイング剤 | |
| JPS6083909A (ja) | 光学ガラスフアイバ用被覆材料 |