JPS63316184A - プリント基板パタ−ンの光学的読取方式 - Google Patents

プリント基板パタ−ンの光学的読取方式

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JPS63316184A
JPS63316184A JP62152069A JP15206987A JPS63316184A JP S63316184 A JPS63316184 A JP S63316184A JP 62152069 A JP62152069 A JP 62152069A JP 15206987 A JP15206987 A JP 15206987A JP S63316184 A JPS63316184 A JP S63316184A
Authority
JP
Japan
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signal
comparator
reading
pattern
slice
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Pending
Application number
JP62152069A
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English (en)
Inventor
Katsumi Fujiwara
勝美 藤原
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [概要] 本発明はプリン+−g仮パターンを光学的に正確に読取
る方式に関し、 異なるスライスレベルの印加された第2の比較器を具備
し、迷光があっても導電パターンについて正確な読取り
の出来るプリント基板パターンの読取方式を提供するこ
とを目的とし、 プリント基板上の導電パターンを光検知素子により光学
的に読取った信号と、導電パターン・基板を読取った各
信号の中間振幅を有するスライス電圧源の電圧信号とを
比較器に印加し、二値化信号を得るプリント基板パター
ンの光学的読取方式において、前記比較器の外に第2比
較器と、両比較器の両出力信号を処理する処理回路とを
具備し、且つ第2比較器のスライス電源の電圧はパター
ン読取信号の基材部を読取って得られる信号より高レベ
ルに選定することで構成する。
[産業上の利用分野] 本発明はプリント基板パターンを光学的に正確に読取る
方式に関する。
従来プリント基板パターンについて光学的検査を行うた
め、二値化回路を経た信号によりチェックしていたが、
二値化回路におけるスライス電圧が一定値であるため、
パターンエツジ部分の形状による迷光などによる異常信
号があり、読取誤差となることがあった。そのような誤
差の生じない読取方式を開発することが要望された。
[従来の技術] プリント基板パターンを検査するため、センサ部と呼ば
れるカメラ類似の構成を有する部分にといて、特に第5
図に示すブラックライン法で読取り二値化してから、後
段の処理ユニットに送っていた。第5図Aは全体的な斜
視図で、1は線状光源、2はブラックラインマスク、3
はマスク結像用レンズ、4は被検査パターンの基材部、
5は銅箔などの導体部、6は反射光線結像用レンズ、7
はCCDラインセンサを示す。第5図Bは導体部5、基
材部4の一部を示す部分断面図である。線状光源1から
の光はブラックラインマスク2により中央部にブラック
ラインの入った光線束となり、基材部4・導体部5を照
射する。基材部4と示す部分から基材部4の内部に入っ
た光は散乱し、再び基材部4から外方へ放散されるが、
導体部5からは放散されない。そのためCCDラインセ
ンサ7で放散光を捕らえ、順次信号を取り出すと、導体
部5の在る部分は放散光が無く、基材部4からの放散光
だけが検出される。そのため放散光をCCDラインセン
サ7によりブラックラインに沿って検査すると、放散光
の無い検出範囲が導体部であり、その長さが導体部の幅
と比例関係になる。
第6図AはそのときのCCDセンサ出力信号を示す図面
で、横軸の1目盛りが50μ秒、縦軸の1目盛りが20
0mVを示す。なお図では縦軸の負方向に振幅が増大す
るように記載している。第6図Bは第6図Aの左方信号
の一部を拡大している。
各図の上方に導体部の信号、下方に基材部の信号が記載
されている。この信号を第7図に示す比較器8の一方の
信号入力とし、比較器8の他方にはスライス電圧源9か
らの電圧を印加して、第6図Bに示すような二値化信号
を得ることが出来る。
第6図Bに示す直線状スライス電圧の上側と下側とで二
値化信号の“1”O”を対応させている。
比較器8の出力信号として二値化された信号で例えば“
0”の比較的長い範囲が導体部5の幅と対応している。
[発明が解決しようとする問題点] 第8図は第6図Bの二値化信号を別に取り出して示す図
である。第8図Aは正常に読取った場合を示すが、実際
は第8図Bに示すように読取った信号に異常信号11を
含み二値化された信号に不良信号Eを生じることがあっ
た。これは、結像用レンズ3.7がそれぞれ1枚構成で
はなく多数枚構成であるため、基材部のブラックライン
以外の所から反射した光についてもそれを集光してしま
うこと、またプリント基板上の導電パターンはその形状
が完全に垂直に立上り・立下りとはならないため、基材
部内部からの光のうちパターンから離れた所からの光が
パターンエツジで反射した光を生じ、それがレンズ7で
集光されることなどのためである。このときは導電パタ
ーンは正常な形状であっても、欠陥有りと判断されるこ
ととなった。そのため反射の多い基板について段査する
ときは、熟練した作業者が行うか、反射防止膜を塗布す
る必要があった。
本発明の目的は前述の欠点を改善し、異なるスライスレ
ベルの印加された第2の比較器を具備し、迷光があって
も導電パターンについて正確な読取りのできるプリント
基板の読取方式を提供することにある。
[問題点を解決するための手段] 第1図は本発明の原理構成を示す図である。第1図にお
いて、1は線状光線の光源、4はプリント基板、5は導
電パターン、6は光検知素子例えばCCDラインセンサ
、8は第1の比較器、9はスライス電圧源、10は光検
知素子で読取った信号、12は第2の比較器、13は第
2の比較器に対するスライス電圧源、14は信号処理回
路を示す。
プリント基板4上の導電パターン5を光検知素子7によ
り光学的に読取った信号10と、導電パターン5・基板
4を読取った各信号の中間振幅を有するスライス電圧源
の電圧信号とを比較器8に印加し、二値化信号を得るプ
リント基板パターンの光学的読取方式において、本発明
は下記の構成としている。即ち、 前記比較器8の外に第2比較器12と、両比較器8.1
2の岡山力信号を処理する処理回路14とを具備し、且
つ第2比較器12のスライス電源13の電圧はパターン
読取信号10の基材部を読取って得られる信号より高レ
ベルに選定することである。
し作用] 第2図は第1図の動作説明用波形図を示す。第2図Aは
パターン読取信号とスライス電圧源9の電圧レベル(1
点鎖線)と、スライス電圧源13の電圧レベル(2点鎖
線)とを示す。今、第2図Aに示すようにパターン読取
信号10が入力端子に印加され、パターンエツジ部分か
ら異常信号11を発したとき、第1比較器8の出力信号
は第2図Bに示す波形とする。また第2比較器12の出
力信号は第2図Cに示す波形きなる。処理回路14にお
いては、第2図B、Cに示す波形について、第2図Cに
示す波形を第2図Bに示す波形から取り除くように処理
し、第2図りを得る。第2図りは異常信号11の影響を
受けず、導電パターン幅と正確に対応した信号となって
いる。
実施例] 第3図は本発明の実施例として第1図中の処理回路14
の具体的構成を示す図である。第3図において、15は
遅延回路で第1比較器8の出力回路に挿入さもたちの、
16は消去パルス発生回路で例えば単安定マルチパイプ
レークを使用し、第2比較器12の出力回路に挿入され
るもの、17はアンド回路で、回路15.16の両信号
についてアンド演算を行う。また第1図と同一符号は同
様のものを示す。第4図は第3図の動作波形図で第3図
中に対応する個所を○付き数字で示しである。第3図に
おいて、第2比較器12のスライス電圧は第4図■に示
すようにパターン読取信号10における基材部信号より
更に高いレベルに設定して置くから、第4図■に示すよ
うな出力が得られる。次にこの出力を消去パルス発生回
路16に印加してエラーパルス消去用パルスを得る。具
体的には単安定マルチバイブレータを使用し、その出力
パルス幅は、スライス電圧源9の電圧によりパターン読
取信号10をスライスしたときのパルス幅(■における
パルス幅)より更に若干長い目のパルスを得るように、
単安定マルチバイブレークのCR素子を調整する。また
遅延回路15は第1比較器8の出力信号について、パタ
ーン読取信号10がスライス電圧源9と13のレベル差
を通過できる時間程度の値を選定する。
アンド回路17において回路15.16の出力について
演算すれば、第4図■における誤差信号について消去で
きるので、アンド回路17の出力■は導電パターンの幅
と対応した値となる。
[発明の効果] このようにして本発明によると、第2比較器を具備しそ
のスライス電圧を異常信号を取り出すことができる程度
に、第1比較器のスライス電圧と異ならせたため、簡単
な処理回路により処理して正確な導電パターンの幅を読
取ること島(可能となった。特殊な作業を加えたり、熟
練した作業者を必要とせずに検査ができる効果を有する
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の原理構成を示す図、 第2図は第1図の動作説明用波形図、 第3図は本発明の実施例の構成を示す図、第4図は第3
図の動作説明用波形図、 第5図は従来のブランクライン法によるパターン読取信
号を得る構成を示す図、 第6図は第5図の動作波形図、 第7図・第8図は比較器によるスライス動作の説明図で
ある。 1・・−線状光線の光源 4・・−プリント基板 5・−導電パターン 7−・・光検知素子 8・・−第1比較器 9−・スライス電圧源 10−パターン読取信号 12−第2比較器 13−・スライス電圧源 14−処理回路 特許出願人    富士通株式会社 代 理 人  弁理士  鈴木栄祐 オ(δド日月の原理損賎図 第1図 !51図の動作液形7 第2図 実ズツ士巨でtクリ 第3図 “動作液創口 第4図 第6図 ス 電 王 は」吹牙釈0よるスライス重引ト 第7図 ?l乍憤形図 第8図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 プリント基板(4)上の導電パターン(5)を光検知素
    子(7)により光学的に読取った信号(10)と、導電
    パターン(5)・基板(4)を読取った各信号の中間振
    幅を有するスライス電圧源の電圧信号とを比較器(8)
    に印加し、二値化信号を得るプリント基板パターンの光
    学的読取方式において、 前記比較器(8)の外に、第2比較器(12)と、両比
    較器(8)(12)の両出力信号を処理する処理回路(
    14)とを具備し、 且つ第2比較器(12)のスライス電源(13)の電圧
    はパターン読取信号(10)の基材部を読取って得られ
    る信号より高レベルに選定すること を特徴とするプリント基板パターンの光学的読取方式。
JP62152069A 1987-06-18 1987-06-18 プリント基板パタ−ンの光学的読取方式 Pending JPS63316184A (ja)

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