JPS6339903B2 - - Google Patents
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- JPS6339903B2 JPS6339903B2 JP8085778A JP8085778A JPS6339903B2 JP S6339903 B2 JPS6339903 B2 JP S6339903B2 JP 8085778 A JP8085778 A JP 8085778A JP 8085778 A JP8085778 A JP 8085778A JP S6339903 B2 JPS6339903 B2 JP S6339903B2
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子写真感光体に関し、さらにこれを
詳しくいえば、透明な樹脂フイルムの表面に２層
の導電層を設けた電子写真感光体に関する。
詳しくいえば、透明な樹脂フイルムの表面に２層
の導電層を設けた電子写真感光体に関する。
一般に電子写真感光体は、基体の上に導電層を
設け、その上に光導電層（感光層）を形成せしめ
て構成されており、電子写真プロセスとは、帯電
→画像露光→現像→転写→除電→クリーニングと
いう工程からなり、露光は光導電層の形成されて
いる側から行なわれるのが普通であるが、場合に
よつては基体の側から露光したりあるいは除電の
ための露光をすることが要求され、このような場
合には、基体および導電層が透明でなければなら
ない。また電子写真画像をオーバーヘツドプロジ
エクターに使用したり、マイクロ写真フイルムに
応用するというような場合にも基体および導電層
が透明であることが要求される。
設け、その上に光導電層（感光層）を形成せしめ
て構成されており、電子写真プロセスとは、帯電
→画像露光→現像→転写→除電→クリーニングと
いう工程からなり、露光は光導電層の形成されて
いる側から行なわれるのが普通であるが、場合に
よつては基体の側から露光したりあるいは除電の
ための露光をすることが要求され、このような場
合には、基体および導電層が透明でなければなら
ない。また電子写真画像をオーバーヘツドプロジ
エクターに使用したり、マイクロ写真フイルムに
応用するというような場合にも基体および導電層
が透明であることが要求される。
電子写真感光体の導電層形成のために用いられ
る金属、例えばアルミニウム、金、銀、ニツケル
などは、導電層として十分な導電性を得るための
厚さにすると透明ではなくなり、さらにアルミニ
ウム以外の金属は、光導電層に帯電せしめた場合
にその帯電量が少ないという欠点もある。また透
明な導電層を形成しうる材料として用いられる酸
化スズ（SnO2）、酸化インジウム（In2O3）、酸化
クロム（Cr2O3）、酸化チタニウム（TiO2）、酸化
パラジウム（PdO）、ヨウ化銅（CuI2）のような、
金属酸化物または金属ハロゲン化物は、光導電層
を帯電せしめた場合に、その帯電量が少なく、特
に光導電層が有機光導電性物質によつて形成され
ている場合には特にその帯電量が少なくなるとい
う欠点がある。
る金属、例えばアルミニウム、金、銀、ニツケル
などは、導電層として十分な導電性を得るための
厚さにすると透明ではなくなり、さらにアルミニ
ウム以外の金属は、光導電層に帯電せしめた場合
にその帯電量が少ないという欠点もある。また透
明な導電層を形成しうる材料として用いられる酸
化スズ（SnO2）、酸化インジウム（In2O3）、酸化
クロム（Cr2O3）、酸化チタニウム（TiO2）、酸化
パラジウム（PdO）、ヨウ化銅（CuI2）のような、
金属酸化物または金属ハロゲン化物は、光導電層
を帯電せしめた場合に、その帯電量が少なく、特
に光導電層が有機光導電性物質によつて形成され
ている場合には特にその帯電量が少なくなるとい
う欠点がある。
本発明は、透明であり、かつ十分な帯電量が得
られるような電子写真感光体を提供することを目
的として開発されたものであつて、本発明の電子
写真感光体は、透明な樹脂フイルムの表面に導電
性金属酸化物の薄層を設け、さらにその薄層の上
にアルミニウムの薄膜を形成せしめ、その上に感
光層を設けたことを特徴とする。
られるような電子写真感光体を提供することを目
的として開発されたものであつて、本発明の電子
写真感光体は、透明な樹脂フイルムの表面に導電
性金属酸化物の薄層を設け、さらにその薄層の上
にアルミニウムの薄膜を形成せしめ、その上に感
光層を設けたことを特徴とする。
本発明において透明な樹脂フイルムとして用い
るための材料は、例えばポリエステル、ポリカー
ボネート、ポリケトン、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリア
ミド、ポリイミド、アクリロニトリル−ブタジエ
ン−スチレン共重合体、アクリロニトリル−スチ
レン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、セルロース樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹
脂など透明な合成樹脂はいずれも用いることがで
きる。
るための材料は、例えばポリエステル、ポリカー
ボネート、ポリケトン、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリア
ミド、ポリイミド、アクリロニトリル−ブタジエ
ン−スチレン共重合体、アクリロニトリル−スチ
レン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、セルロース樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹
脂など透明な合成樹脂はいずれも用いることがで
きる。
上記合成樹脂のフイルムは、電子写真プロセス
に耐える機械的特性を必要とするが、そのために
は0.05mm以上の厚さで用いられる。
に耐える機械的特性を必要とするが、そのために
は0.05mm以上の厚さで用いられる。
上記導電性金属酸化物としては、酸化スズ、酸
化インジウム、酸化クロム、酸化チタニウム、酸
化パラジウムなどが用いられ、このような金属酸
化物の薄層は、蒸着あるいはスパツタリングなど
によつて形成せしめることができ、その厚さは
300〜5000Å、好ましくは、500〜3000Åである。
金属酸化物の薄層の上に形成せしめるアルミニウ
ムの薄膜の層は、蒸着あるいはスパツタリングな
どによつて形成せしめることができ、その厚さは
50〜800Å、好ましくは、200〜600Åであり、800
Åの厚さでは光の透過度は0.5％程度であり、800
Å以上になると、本発明の目的を達成することが
できない。また50Å以下の厚さでは光導電層の帯
電量が少なくなり実用できない。
化インジウム、酸化クロム、酸化チタニウム、酸
化パラジウムなどが用いられ、このような金属酸
化物の薄層は、蒸着あるいはスパツタリングなど
によつて形成せしめることができ、その厚さは
300〜5000Å、好ましくは、500〜3000Åである。
金属酸化物の薄層の上に形成せしめるアルミニウ
ムの薄膜の層は、蒸着あるいはスパツタリングな
どによつて形成せしめることができ、その厚さは
50〜800Å、好ましくは、200〜600Åであり、800
Åの厚さでは光の透過度は0.5％程度であり、800
Å以上になると、本発明の目的を達成することが
できない。また50Å以下の厚さでは光導電層の帯
電量が少なくなり実用できない。
上記のような本発明の電子写真感光体によつ
て、基体の側から光を照射することを必要とする
ような用途に用いられ、またオーバーヘツドプロ
ジエクターやマイクロ写真フイルムに用いること
ができる。
て、基体の側から光を照射することを必要とする
ような用途に用いられ、またオーバーヘツドプロ
ジエクターやマイクロ写真フイルムに用いること
ができる。
下記の例において、本発明の電子写真感光体を
調製し、本発明の特徴を説明する。
調製し、本発明の特徴を説明する。
例 １
厚さ75μのポリエステル樹脂フイルム（商品
名：東レルミラー）の表面に、真空蒸着法によつ
て厚さ約1500ÅのIn2O3の薄層を形成せしめ、空
気中において80℃に10分間熱処理した後、さらに
真空蒸着法によつて厚さ700Åのアルミニウムの
薄層を形成せしめて電子写真感光体用基体を得、
この基体上に、下記のようにして、第１層と第２
層からなる光導電層を形成せしめて電子写真感光
体を得た。ポリエステル樹脂（商品名：バイロン
200）１重量部と、 ３重量部の混合物の、２％テトラヒドロフラン溶
液を、上記基体上に塗布、乾燥して厚さ0.5μの第
１層を形成し、次いでポリカーボネート（商品
名：パンライトＫ−1300）１重量部と、 １重量部の混合物の、18％テトラヒドロフラン溶
液を、第１層の上に塗布、乾燥して厚さ15μの第
２層を形成せしめた。
名：東レルミラー）の表面に、真空蒸着法によつ
て厚さ約1500ÅのIn2O3の薄層を形成せしめ、空
気中において80℃に10分間熱処理した後、さらに
真空蒸着法によつて厚さ700Åのアルミニウムの
薄層を形成せしめて電子写真感光体用基体を得、
この基体上に、下記のようにして、第１層と第２
層からなる光導電層を形成せしめて電子写真感光
体を得た。ポリエステル樹脂（商品名：バイロン
200）１重量部と、 ３重量部の混合物の、２％テトラヒドロフラン溶
液を、上記基体上に塗布、乾燥して厚さ0.5μの第
１層を形成し、次いでポリカーボネート（商品
名：パンライトＫ−1300）１重量部と、 １重量部の混合物の、18％テトラヒドロフラン溶
液を、第１層の上に塗布、乾燥して厚さ15μの第
２層を形成せしめた。
上記のようにして調製した電子写真感光体を用
い、−6kVのコロナ放電によつて帯電せしめ、−
1100Vの帯電電位を得、これに光を照射し、電位
を1/2にするための露光量すなわち半減露光量を
測定し、５ルツクス・秒の値を得た。
い、−6kVのコロナ放電によつて帯電せしめ、−
1100Vの帯電電位を得、これに光を照射し、電位
を1/2にするための露光量すなわち半減露光量を
測定し、５ルツクス・秒の値を得た。
上記の感光体において、その基体にアルミニウ
ムの薄層を設けなかつた以外は全く同じ手順によ
つて得た比較用の感光体を用い、上記のようにし
て帯電せしめたが、その帯電電位は−110Vであ
つた。
ムの薄層を設けなかつた以外は全く同じ手順によ
つて得た比較用の感光体を用い、上記のようにし
て帯電せしめたが、その帯電電位は−110Vであ
つた。
例 ２〜３
上記例１において調製した基体に代るものとし
て、In2O3の薄層を形成せしめる代りに、厚さ
2000ÅのCr2O3または厚さ1500ÅのPdOのそれぞ
れ薄層を設けた以外は全く同じようにして基体を
調製し、この基体を用いて例１の場合と同じ手順
によつて光導電層を形成せしめて感光体を得、そ
の帯電電位を測定し、比較のために、上記感光体
において、アルミニウムの薄層を形成せしめなか
つた以外は全く同じ手順によつて感光体を調製
し、その帯電電位を測定し、それぞれ下記に示す
値を得た。
て、In2O3の薄層を形成せしめる代りに、厚さ
2000ÅのCr2O3または厚さ1500ÅのPdOのそれぞ
れ薄層を設けた以外は全く同じようにして基体を
調製し、この基体を用いて例１の場合と同じ手順
によつて光導電層を形成せしめて感光体を得、そ
の帯電電位を測定し、比較のために、上記感光体
において、アルミニウムの薄層を形成せしめなか
つた以外は全く同じ手順によつて感光体を調製
し、その帯電電位を測定し、それぞれ下記に示す
値を得た。
Cr2O3またはPdOの薄層とアルミニウムの薄層
を形成した基体を用いた場合は、それぞれ−
1105V、−1015Vにあつたのに対し、アルミニウ
ムの薄層を形成せしめなかつた場合には、それぞ
れ−390V、−104Vであつた。
を形成した基体を用いた場合は、それぞれ−
1105V、−1015Vにあつたのに対し、アルミニウ
ムの薄層を形成せしめなかつた場合には、それぞ
れ−390V、−104Vであつた。
例 ４
厚さ75μのポリエステル樹脂フイルム（商品
名：東レルミラー）の表面に、真空蒸着法によつ
て厚さ2000ÅのCr2O3の薄層を形成せしめた後、
さらに真空蒸着法によつて厚さ400Åのアルミニ
ウムの薄層を形成せしめて電子写真感光体用基体
を得、この基体上に、下記成分を混合して調製し
た光導電層形成液を塗布、乾燥して光導電層を形
成せしめて電子写真感光体を得た。
名：東レルミラー）の表面に、真空蒸着法によつ
て厚さ2000ÅのCr2O3の薄層を形成せしめた後、
さらに真空蒸着法によつて厚さ400Åのアルミニ
ウムの薄層を形成せしめて電子写真感光体用基体
を得、この基体上に、下記成分を混合して調製し
た光導電層形成液を塗布、乾燥して光導電層を形
成せしめて電子写真感光体を得た。
ポリビニルカルバゾール（BASF社製ルビカン）
10ｇ ポリエステル樹脂（デユポン社製：ポリエステル
アドヒーシーブ49000） １ｇ テトラヒドロフラン 100ｇ 上記のようにして調製した感光体に対して、＋
6kVのコロナ放電によつて帯電せしめ、＋1050V
の帯電電位を得た。
10ｇ ポリエステル樹脂（デユポン社製：ポリエステル
アドヒーシーブ49000） １ｇ テトラヒドロフラン 100ｇ 上記のようにして調製した感光体に対して、＋
6kVのコロナ放電によつて帯電せしめ、＋1050V
の帯電電位を得た。
上記において、基体にアルミニウムの薄層を形
成せしめなかつた以外は、全く同じ手順によつて
比較用の感光体を調整し、同じように帯電せしめ
たが、帯電電位は＋320Vであつた。
成せしめなかつた以外は、全く同じ手順によつて
比較用の感光体を調整し、同じように帯電せしめ
たが、帯電電位は＋320Vであつた。
上記の方法によつて調製した電子写真感光体
は、光の透過性においてすぐれているので、感光
体の裏面すなわち、透明性フイルムの方向から露
光するような電子写真法においても使用すること
ができるのは既述した通りである。
は、光の透過性においてすぐれているので、感光
体の裏面すなわち、透明性フイルムの方向から露
光するような電子写真法においても使用すること
ができるのは既述した通りである。
Claims (1)
- １ 透明樹脂フイルム上に導電層、感光層を順次
設けた電子写真感光体において、該導電層が導電
性金属酸化物の薄層を設け、さらに前記薄層の上
にアルミニウムの薄膜を形成せしめた透明導電層
であることを特徴とする電子写真感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8085778A JPS559502A (en) | 1978-07-05 | 1978-07-05 | Substrate for electrophotographic material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8085778A JPS559502A (en) | 1978-07-05 | 1978-07-05 | Substrate for electrophotographic material |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS559502A JPS559502A (en) | 1980-01-23 |
| JPS6339903B2 true JPS6339903B2 (ja) | 1988-08-08 |
Family
ID=13730005
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8085778A Granted JPS559502A (en) | 1978-07-05 | 1978-07-05 | Substrate for electrophotographic material |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS559502A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8300230A (nl) * | 1983-01-21 | 1984-08-16 | Luymes & Bal Aanneming | Bestratingswerkwijze en grijper ten gebruike bij deze werkwijze. |
| JPS62157613A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-13 | 株式会社 麗光 | 透視性導電体 |
| US4770964A (en) * | 1986-12-23 | 1988-09-13 | Xerox Corporation | Magnetic imaging member and fabrication process therefor |
-
1978
- 1978-07-05 JP JP8085778A patent/JPS559502A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS559502A (en) | 1980-01-23 |
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