JPS6342011A - 垂直磁気記録ヘツド - Google Patents
垂直磁気記録ヘツドInfo
- Publication number
- JPS6342011A JPS6342011A JP18589286A JP18589286A JPS6342011A JP S6342011 A JPS6342011 A JP S6342011A JP 18589286 A JP18589286 A JP 18589286A JP 18589286 A JP18589286 A JP 18589286A JP S6342011 A JPS6342011 A JP S6342011A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- main pole
- head
- magnetic recording
- perpendicular magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、垂直磁気記録又は再生に用いられる垂直磁気
記録ヘッドに関する。
記録ヘッドに関する。
従来技術
近年、磁気記録／再生については、その高密度化の点な
どから垂直磁気記録方式が注目されており、そのヘッド
構造も薄膜技術が活用されている。
どから垂直磁気記録方式が注目されており、そのヘッド
構造も薄膜技術が活用されている。
この種のヘッドとしては、例えば「第８回日本応用磁気
学会学術講演概要集（１９８４，１１）Ｊ中の「垂直リ
ジットディスク用単磁極薄膜ヘッド（１５ａＢ−１１）
Ｊに示されるものがある。第２図はこれを図示するもの
である。まず、ヘッド基板１上にアモルファスＧｏ−Ｚ
ｒによる主磁極膜２が形成されている。そして、この主
磁極膜２近傍にコイル３を形成し、かつ、主磁極２に接
触する状態であってコイル３を覆う状態に軟磁性材料に
よるヨーク４を形成し、全体を保護Ｎ５により覆ってな
るものである。
学会学術講演概要集（１９８４，１１）Ｊ中の「垂直リ
ジットディスク用単磁極薄膜ヘッド（１５ａＢ−１１）
Ｊに示されるものがある。第２図はこれを図示するもの
である。まず、ヘッド基板１上にアモルファスＧｏ−Ｚ
ｒによる主磁極膜２が形成されている。そして、この主
磁極膜２近傍にコイル３を形成し、かつ、主磁極２に接
触する状態であってコイル３を覆う状態に軟磁性材料に
よるヨーク４を形成し、全体を保護Ｎ５により覆ってな
るものである。
又、前述した同概要集中の「垂直磁気記録用８ターン薄
膜ヘツドの記録再生特性（１５ａＢ−１３）」に示され
るものもある。第３図はこれを図示するものである。こ
れも基本的には第２図のものと同様であり、まず、ヘッ
ド基板６上にＦｅ−５ｉ −ＲｕとＮ ｉ −Ｆ ｅと
による２層構造の主磁極膜７が形成されている。そして
、ＳｉＯ２による絶縁膜８を介してコイル９が形成され
、かつ、主磁極膜７に接触する状態でＣｏ−Ｚｒ −’
ｖ’Ｊによる補助磁極１０が形成されている。１１はＰ
Ｉ○等による絶縁膜である。
膜ヘツドの記録再生特性（１５ａＢ−１３）」に示され
るものもある。第３図はこれを図示するものである。こ
れも基本的には第２図のものと同様であり、まず、ヘッ
ド基板６上にＦｅ−５ｉ −ＲｕとＮ ｉ −Ｆ ｅと
による２層構造の主磁極膜７が形成されている。そして
、ＳｉＯ２による絶縁膜８を介してコイル９が形成され
、かつ、主磁極膜７に接触する状態でＣｏ−Ｚｒ −’
ｖ’Ｊによる補助磁極１０が形成されている。１１はＰ
Ｉ○等による絶縁膜である。
これらは何れも主磁極励磁型垂直磁気記録ヘッドとして
構成されているものであるが、その製造には複雑な工程
を必要とし、生産性の悪いものとなっている。例えば、
第２図に示したヘッドの製造工程について説明する。
構成されているものであるが、その製造には複雑な工程
を必要とし、生産性の悪いものとなっている。例えば、
第２図に示したヘッドの製造工程について説明する。
この製造工程は、
（１） ヘッド基板１の研磨
（２）主磁極膜２材料の成膜
（３）主磁極膜２材料をトラック幅にパターンニング
（４）主磁極膜２先端を必要とする厚さにエツチング
（５）絶縁膜を形成
（６） コイル３用の金属膜を形成
（７）金属膜をコイル３形状にパターンニング（８）絶
縁膜を形成 （９） ヨーク４用のコンタクトホールの形成（１０）
ヨーク４用の軟磁性膜を成膜（１１）軟磁性膜をヨ
ーク４形状にパターンニング（１２）保護層５を成膜 （１３）コイル３用のコンタクトホールの形成（１４）
コイル３のリード線用金属膜を形成（１５）金属膜
をリード線形状にパターンニング（１６）切断 （１７）端面の研磨 によるものである。第３図の場合も殆ど同様である。こ
のように多工程を必要としているものである。特に、パ
ターンニング工程だけでも７エ程も含まれているもので
ある。ここに、パターンニングは一般にレジスト塗布工
程、露光工程、エツチング工程及びレジスト除去工程を
必要とするため、実際の全工程数は最低でも３０工程程
度必要としているものである。又、一般にコンタクトホ
ール用の穴あけ工程は技術的に難しいとされているが、
このようなコンタクトホール形成工程をも２工程必要と
しているものである。更には、このような多工程ととも
に、全体では６層にもわたる積層構造であり、種々の段
差がつきやすく、断線等のおそれが多くなり、歩留まり
を向上させるのは困難である。
縁膜を形成 （９） ヨーク４用のコンタクトホールの形成（１０）
ヨーク４用の軟磁性膜を成膜（１１）軟磁性膜をヨ
ーク４形状にパターンニング（１２）保護層５を成膜 （１３）コイル３用のコンタクトホールの形成（１４）
コイル３のリード線用金属膜を形成（１５）金属膜
をリード線形状にパターンニング（１６）切断 （１７）端面の研磨 によるものである。第３図の場合も殆ど同様である。こ
のように多工程を必要としているものである。特に、パ
ターンニング工程だけでも７エ程も含まれているもので
ある。ここに、パターンニングは一般にレジスト塗布工
程、露光工程、エツチング工程及びレジスト除去工程を
必要とするため、実際の全工程数は最低でも３０工程程
度必要としているものである。又、一般にコンタクトホ
ール用の穴あけ工程は技術的に難しいとされているが、
このようなコンタクトホール形成工程をも２工程必要と
しているものである。更には、このような多工程ととも
に、全体では６層にもわたる積層構造であり、種々の段
差がつきやすく、断線等のおそれが多くなり、歩留まり
を向上させるのは困難である。
これは、例えば特公昭６１−１８２４９号公報に示され
るヘッド構造の場合も同様である。
るヘッド構造の場合も同様である。
目的
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、製造上
の工程数が少なく簡単であって生産性を向上させること
ができる垂直磁気記録ヘッドを得ることを目的とする。
の工程数が少なく簡単であって生産性を向上させること
ができる垂直磁気記録ヘッドを得ることを目的とする。
構成
本発明は、上記目的を達成するため、薄膜形成される主
磁極膜を備えた垂直磁気記録ヘッドにおいて、ヘッド基
板の表面に対して主磁極膜厚み方向を平行に設定して主
磁極膜を形成したことを特徴とするものである。
磁極膜を備えた垂直磁気記録ヘッドにおいて、ヘッド基
板の表面に対して主磁極膜厚み方向を平行に設定して主
磁極膜を形成したことを特徴とするものである。
以下、本発明の一実施例を第１図に基づいて説明する。
従来方式がヘッド基板表面に対して主磁極膜長さ方向が
平行であるのに対し、本実施例は、主磁極厚さ方向が平
行となるように形成した点を特徴とする。ヘッド構成部
材は同様であり、ヘッド基板１２、主磁極膜１３、ヨー
ク１４、絶縁層１５、コイル１６及び保護膜１７により
構成される。
平行であるのに対し、本実施例は、主磁極厚さ方向が平
行となるように形成した点を特徴とする。ヘッド構成部
材は同様であり、ヘッド基板１２、主磁極膜１３、ヨー
ク１４、絶縁層１５、コイル１６及び保護膜１７により
構成される。
ここに、このようなヘッドの製造工程は、（１） ヘ
ッド基板１２の研磨 （２）主磁極膜１３及びヨーク１４用の磁性膜材料の成
膜 （３）磁性膜材料をトラック幅、主磁極厚さ、主磁極長
さにエツチング（即ち、主磁極膜層の材料は通常通りヘ
ッド基板１２上に成膜されるものであるが、このエツチ
ングにより、主磁極膜１３の厚さ方向がヘッド基板１２
表面に対して平行となり、長さ方向が垂直となる）（４
）絶縁層１５の成膜 （５）コイル１６用の金属膜を形成 （６）金属膜をコイル１６形状にパターンニング（７）
保護膜１７を成膜 （８）表面を研磨 （９）切断 （１０）側面を研磨 （１１） コイル１６のリード線用金属膜を成膜（１
２） リード線形状にパターンニングによるものであ
る。このように１２工程と少ない工程数で済むものであ
る。特に、パターンニング工程は３工程のみであり、実
際的な工程数としても従来の３０工程程度に対して１８
工程程度で済むものである。又、技術的に難しいコンタ
クトホール用の穴あけ工程は１つも含まないものでもあ
る。更には、全体的に４層構造に収まっている。
ッド基板１２の研磨 （２）主磁極膜１３及びヨーク１４用の磁性膜材料の成
膜 （３）磁性膜材料をトラック幅、主磁極厚さ、主磁極長
さにエツチング（即ち、主磁極膜層の材料は通常通りヘ
ッド基板１２上に成膜されるものであるが、このエツチ
ングにより、主磁極膜１３の厚さ方向がヘッド基板１２
表面に対して平行となり、長さ方向が垂直となる）（４
）絶縁層１５の成膜 （５）コイル１６用の金属膜を形成 （６）金属膜をコイル１６形状にパターンニング（７）
保護膜１７を成膜 （８）表面を研磨 （９）切断 （１０）側面を研磨 （１１） コイル１６のリード線用金属膜を成膜（１
２） リード線形状にパターンニングによるものであ
る。このように１２工程と少ない工程数で済むものであ
る。特に、パターンニング工程は３工程のみであり、実
際的な工程数としても従来の３０工程程度に対して１８
工程程度で済むものである。又、技術的に難しいコンタ
クトホール用の穴あけ工程は１つも含まないものでもあ
る。更には、全体的に４層構造に収まっている。
これらの点を総合すると、従来方式に比べて主磁極膜１
３のヘッド基板１２に対する方向性を変えるのみで、工
程数を大幅に減少させて生産性を向上させ、歩留まり向
上を図れるものとなる。
３のヘッド基板１２に対する方向性を変えるのみで、工
程数を大幅に減少させて生産性を向上させ、歩留まり向
上を図れるものとなる。
効果
本発明は、上述したように主磁極膜をその厚さ方向がヘ
ッド基板表面に対して平行となるように設定して形成し
たので、ヘッド製造上の工程数を従来に比べて大幅に削
減することができ、かつ、難しい工程も減少ないし削除
されることとなり、よって、歩留まりがよく生産性の高
いヘッドとすることができるものである。
ッド基板表面に対して平行となるように設定して形成し
たので、ヘッド製造上の工程数を従来に比べて大幅に削
減することができ、かつ、難しい工程も減少ないし削除
されることとなり、よって、歩留まりがよく生産性の高
いヘッドとすることができるものである。
第１図は本発明の一実施例を示す断面構成図、第２図は
従来例を示す断面構成図、第３図は異なる従来例を示す
断面構成図である。 １２・・・ヘッド基板、１３・・・主磁極膜−第１Ｉ
冴 、ｙ３３ ワ
従来例を示す断面構成図、第３図は異なる従来例を示す
断面構成図である。 １２・・・ヘッド基板、１３・・・主磁極膜−第１Ｉ
冴 、ｙ３３ ワ
Claims (1)
- 薄膜形成される主磁極膜を備えた垂直磁気記録ヘッドに
おいて、ヘッド基板の表面に対して主磁極膜厚み方向を
平行に設定して主磁極膜を形成したことを特徴とする垂
直磁気記録ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18589286A JPS6342011A (ja) | 1986-08-07 | 1986-08-07 | 垂直磁気記録ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18589286A JPS6342011A (ja) | 1986-08-07 | 1986-08-07 | 垂直磁気記録ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6342011A true JPS6342011A (ja) | 1988-02-23 |
Family
ID=16178704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18589286A Pending JPS6342011A (ja) | 1986-08-07 | 1986-08-07 | 垂直磁気記録ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6342011A (ja) |
-
1986
- 1986-08-07 JP JP18589286A patent/JPS6342011A/ja active Pending
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