JPS634425A - 磁界印加装置 - Google Patents
磁界印加装置Info
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- JPS634425A JPS634425A JP14751686A JP14751686A JPS634425A JP S634425 A JPS634425 A JP S634425A JP 14751686 A JP14751686 A JP 14751686A JP 14751686 A JP14751686 A JP 14751686A JP S634425 A JPS634425 A JP S634425A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、フロッピーディスクや磁気ディスクの量産を
指向したスパッタ装置や蒸着装置などの成膜装置に用い
られる磁界印加装置に関するものである。
指向したスパッタ装置や蒸着装置などの成膜装置に用い
られる磁界印加装置に関するものである。
（従来の技術）
垂直磁気記録方式は、記録媒体面に垂直方向の磁化状態
として情報を記録するものであり、従来の面内記録方式
に比べて原理的に短波長特性がすぐれ、高密度記録が可
能という点で注目されている。
として情報を記録するものであり、従来の面内記録方式
に比べて原理的に短波長特性がすぐれ、高密度記録が可
能という点で注目されている。
この方式に用いる磁気記録体としては、基体上に形成し
た垂直方向（厚さ方向）に磁化容易軸を持つＣｏＣｒ合
金、バリウムフェライトなどの磁気記録層（以下垂直磁
化膜）、もしくは、この垂直磁化膜と基体との間に、Ｎ
ｉＦｅ合金等の高透磁率磁性層を有する２層膜が知られ
ている。
た垂直方向（厚さ方向）に磁化容易軸を持つＣｏＣｒ合
金、バリウムフェライトなどの磁気記録層（以下垂直磁
化膜）、もしくは、この垂直磁化膜と基体との間に、Ｎ
ｉＦｅ合金等の高透磁率磁性層を有する２層膜が知られ
ている。
又、磁気ヘッドとしては、高透磁率磁性膜から成る短冊
状の主磁極と、記録再生用巻線を有し、かつ主磁極より
十分厚い磁性体から成る補助磁極とを、記録体を挾んで
配置したもの、もしくは、記録体の片面側だけで、記録
再生ができる様に、短冊状の主磁極に記録再生用巻線を
施したもの等が用いられる。そして、これらの磁気ヘッ
ドを用いる場合には、先述した２層膜を用いることによ
って記録再生効率が向上することが知られており、基体
と垂直磁化膜との間に設けた高透磁率磁性層の効果が注
目されている。
状の主磁極と、記録再生用巻線を有し、かつ主磁極より
十分厚い磁性体から成る補助磁極とを、記録体を挾んで
配置したもの、もしくは、記録体の片面側だけで、記録
再生ができる様に、短冊状の主磁極に記録再生用巻線を
施したもの等が用いられる。そして、これらの磁気ヘッ
ドを用いる場合には、先述した２層膜を用いることによ
って記録再生効率が向上することが知られており、基体
と垂直磁化膜との間に設けた高透磁率磁性層の効果が注
目されている。
これは、高透磁率磁性層が、記録体の構成要素でありな
がら、磁気ヘッドの一部分と見なすことができ、それが
、垂直磁化膜に近接して設けられた効果と考えることが
できるからである。従って、２層膜を用いた場合の記録
再生効率は、この高透磁率磁性層の特性によっても、影
響を受けるので、媒体作製に当って新たな問題を生じて
いる。
がら、磁気ヘッドの一部分と見なすことができ、それが
、垂直磁化膜に近接して設けられた効果と考えることが
できるからである。従って、２層膜を用いた場合の記録
再生効率は、この高透磁率磁性層の特性によっても、影
響を受けるので、媒体作製に当って新たな問題を生じて
いる。
従来、フロッピーディスク用に、２層膜を量産する場合
には、第４図に示す様な連続スパッタ装置もしくは、同
様構成の連続蒸着装置が用いられる。基板ホルダー８に
沿った長尺状の基体１をロール２，３で巻き取ることに
よって、ホルダー５．７上のそれぞれＦｅＮｉ合金４と
ＣｏＣｒ合金６のターゲットもしくは、ルツボ上を、成
膜しながら平行移動させることによって、２層膜が形成
される。フロッピーディスクは、この長尺状に形成され
た２層膜をドーナツ状に打ち抜くことによって、得られ
る。
には、第４図に示す様な連続スパッタ装置もしくは、同
様構成の連続蒸着装置が用いられる。基板ホルダー８に
沿った長尺状の基体１をロール２，３で巻き取ることに
よって、ホルダー５．７上のそれぞれＦｅＮｉ合金４と
ＣｏＣｒ合金６のターゲットもしくは、ルツボ上を、成
膜しながら平行移動させることによって、２層膜が形成
される。フロッピーディスクは、この長尺状に形成され
た２層膜をドーナツ状に打ち抜くことによって、得られ
る。
（発明が解決しようとする問題点）
この様にして得られたフロッピディスクの高透磁率磁性
層は、スパッタリングや蒸着等による成膜時に、誘導磁
気異方性によって、通常第５図に示す様に一軸方向くｙ
軸方向）に磁化容易軸を有する異方性を生じたり、ある
いは、分散的な磁気特性を呈する。前者の場合ドーナツ
円板上の場所によって記録再生効率の違いを生じる。つ
まり、記録位置における高透磁率磁性層の異方性が、第
５図のＡやＣに示す様に、磁気ヘッド走向方向に対して
垂直方向の場合、すなわち高透磁率磁性層の困難軸方向
が磁気ヘッド走行と平行の場合、その透磁率は、広い周
波数領域で高いので、記録再生効率の向上も顕著である
が第５図のＢやＤに示す様に、高透磁率磁性層の磁化容
易軸方向が磁気ヘッド走行方向に対する垂直方向から傾
くにつれて透磁率が低下するので、記録再生効率もあま
り向上しなくなる。また、高透磁率磁性層の磁気特性が
分散的な場合にも、その透磁率はあまり高くできないの
で、記録再生効率の向上も十分ではない。
層は、スパッタリングや蒸着等による成膜時に、誘導磁
気異方性によって、通常第５図に示す様に一軸方向くｙ
軸方向）に磁化容易軸を有する異方性を生じたり、ある
いは、分散的な磁気特性を呈する。前者の場合ドーナツ
円板上の場所によって記録再生効率の違いを生じる。つ
まり、記録位置における高透磁率磁性層の異方性が、第
５図のＡやＣに示す様に、磁気ヘッド走向方向に対して
垂直方向の場合、すなわち高透磁率磁性層の困難軸方向
が磁気ヘッド走行と平行の場合、その透磁率は、広い周
波数領域で高いので、記録再生効率の向上も顕著である
が第５図のＢやＤに示す様に、高透磁率磁性層の磁化容
易軸方向が磁気ヘッド走行方向に対する垂直方向から傾
くにつれて透磁率が低下するので、記録再生効率もあま
り向上しなくなる。また、高透磁率磁性層の磁気特性が
分散的な場合にも、その透磁率はあまり高くできないの
で、記録再生効率の向上も十分ではない。
さらにドーナツ円板の場所によって高透磁率磁性層の磁
気特性が変化している場合には、たとえ垂直磁化膜の特
性が均一であっても、ドーナツ円板−周における再生出
力の変動を生じる。
気特性が変化している場合には、たとえ垂直磁化膜の特
性が均一であっても、ドーナツ円板−周における再生出
力の変動を生じる。
本発明の目的は、以上の様な問題点を解決し、ドーナツ
状円板全面において、記録再生効率が向上した２層膜か
ら成る垂直磁気記録体を量産できる様に、成膜装置を改
良することにある。
状円板全面において、記録再生効率が向上した２層膜か
ら成る垂直磁気記録体を量産できる様に、成膜装置を改
良することにある。
（問題点を解決するための手段）
本発明はベルトと、ベルト駆動部と、ベルトに形成され
る第１の永久磁石と、同じくベルトに形成され第１の永
久磁石を中心にリング状に配置され第１の永久磁石な中
心に放射状の磁界を発生させる第２の永久磁石とを備え
たことを特徴とする磁界印加装置である。
る第１の永久磁石と、同じくベルトに形成され第１の永
久磁石を中心にリング状に配置され第１の永久磁石な中
心に放射状の磁界を発生させる第２の永久磁石とを備え
たことを特徴とする磁界印加装置である。
（作用）
高透磁率磁性層成膜時に、−定間隔おきに発生している
放射状磁界が印加されるため、この高透磁率磁性層は、
長尺状基体の一定間隔おきに、磁化容易軸を、放射状に
有する様にできる。従つて、この間隔にそってドーナツ
状円板に打ち抜けば、ドーナツ円板状の基体上に高透磁
率磁性層、次いで膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有す
る磁性層の順に形成して成る垂直磁気記録体において、
前記高透磁率磁性層は、磁化容易軸をドーナツ状円板の
半径方向に放射状に有する様にできる。この結果、磁気
ヘッドの位置がドーナツ状円板のどの位置にあっても、
−様に高い記録再生効率が得られ、全体として該動作の
少ない、フロッピーディスクや磁気ディスクが得られる
。
放射状磁界が印加されるため、この高透磁率磁性層は、
長尺状基体の一定間隔おきに、磁化容易軸を、放射状に
有する様にできる。従つて、この間隔にそってドーナツ
状円板に打ち抜けば、ドーナツ円板状の基体上に高透磁
率磁性層、次いで膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有す
る磁性層の順に形成して成る垂直磁気記録体において、
前記高透磁率磁性層は、磁化容易軸をドーナツ状円板の
半径方向に放射状に有する様にできる。この結果、磁気
ヘッドの位置がドーナツ状円板のどの位置にあっても、
−様に高い記録再生効率が得られ、全体として該動作の
少ない、フロッピーディスクや磁気ディスクが得られる
。
（実施例）
第１図は、本発明による磁界印加装置１１を用いた連続
スパッタ装置の構成を模式的に示したものである。この
図では繁雑さを避けるためにスパッタチャンバの中身の
主なものだけを示しである。
スパッタ装置の構成を模式的に示したものである。この
図では繁雑さを避けるためにスパッタチャンバの中身の
主なものだけを示しである。
これによればＮｉＦｅ合金の様な高透磁率磁性体から成
るターゲット１４とＣｏＣｒ合金やバリウムフエライ１
−等のターゲット１６とがそれぞれターゲットホルダ１
５及び１７に固定されて、互いにほぼ平行に配設されて
いる。各々のターゲットは、図には示していないが、マ
ツチングボックスを介して高周波電源に接続されている
。−方、この両ターゲットに対向する様に、所定の距離
隔てて、もう−方の電極となる基板ホルダ１８が配設さ
れ、これにそって長尺状の基体１９が送り出しロール１
２と巻き取りロール１３の間にセットされている。そし
て、この基体ホルダ裏面で、しかも前記高透磁率磁性体
から成るターゲットの真上に相当する位置に、本発明に
なる磁界印加装置１１が配設されている。磁界印加装置
１１は一定間隔で円柱状の永久磁石２１とリング状の永
久磁石２０がうめこまれたベルト２２と、このベルトを
基体の走向と同じ速度で走向させる駆動ロール２３．２
４とより成る。第２図は磁界印加装置の磁界発生部分を
拡大したものであり、ベルト２２の幅の中央部に、垂直
方向に着磁した円柱状永久磁石２１と、この中心から半
径Ｒの位置に、前記円柱状永久磁石２１と逆向きに着磁
した永久磁石２０が、リング状に埋めこまれている。こ
れらの永久磁石によって、基体１９には、数十エルステ
ッド以上の放射状直流磁界２５が一定間隔しで印加され
ている。
るターゲット１４とＣｏＣｒ合金やバリウムフエライ１
−等のターゲット１６とがそれぞれターゲットホルダ１
５及び１７に固定されて、互いにほぼ平行に配設されて
いる。各々のターゲットは、図には示していないが、マ
ツチングボックスを介して高周波電源に接続されている
。−方、この両ターゲットに対向する様に、所定の距離
隔てて、もう−方の電極となる基板ホルダ１８が配設さ
れ、これにそって長尺状の基体１９が送り出しロール１
２と巻き取りロール１３の間にセットされている。そし
て、この基体ホルダ裏面で、しかも前記高透磁率磁性体
から成るターゲットの真上に相当する位置に、本発明に
なる磁界印加装置１１が配設されている。磁界印加装置
１１は一定間隔で円柱状の永久磁石２１とリング状の永
久磁石２０がうめこまれたベルト２２と、このベルトを
基体の走向と同じ速度で走向させる駆動ロール２３．２
４とより成る。第２図は磁界印加装置の磁界発生部分を
拡大したものであり、ベルト２２の幅の中央部に、垂直
方向に着磁した円柱状永久磁石２１と、この中心から半
径Ｒの位置に、前記円柱状永久磁石２１と逆向きに着磁
した永久磁石２０が、リング状に埋めこまれている。こ
れらの永久磁石によって、基体１９には、数十エルステ
ッド以上の放射状直流磁界２５が一定間隔しで印加され
ている。
この様な構成によって、基本１９上には、送り出しロー
ル１２から前記基板ホルダ１８にそって、−定速度で送
り出され、巻き取りロール１３に巻き取られながら、高
透磁率磁性層及び垂直磁化膜のスパッタリングが行われ
る。例えば高透磁率磁性層として０．５μｍ厚のＮｉＦ
ｅ合金、垂直磁化膜として０．５μ＋ｎのＣｏＣｒ合金
膜を順次形成する場合には前記基体１９及びベルト２２
を、約５ＣＩｌ／Ｉｌｌ！で移動させながら、次の条件
でスパッタリングが行われる。
ル１２から前記基板ホルダ１８にそって、−定速度で送
り出され、巻き取りロール１３に巻き取られながら、高
透磁率磁性層及び垂直磁化膜のスパッタリングが行われ
る。例えば高透磁率磁性層として０．５μｍ厚のＮｉＦ
ｅ合金、垂直磁化膜として０．５μ＋ｎのＣｏＣｒ合金
膜を順次形成する場合には前記基体１９及びベルト２２
を、約５ＣＩｌ／Ｉｌｌ！で移動させながら、次の条件
でスパッタリングが行われる。
バックグラウンドガス圧 １Ｏ−６Ｔｏｒｒ以下スパ
ツタパワ一密度 ０．０５１１１／Ｃａ１２アル
ゴンガス圧 ４ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ電極
間隔 ４０龍 基体移動速度 ５ｃｍ／ｒｎｉｎベルＩ−
移動速度 ５ｃｎ＋、’ｍｉｎ長尺状の基体
１９としては、厚さ数十ミクロンのポリエステルやポリ
イミドやポリアミド等が用いられる。永久磁石２０．２
１としては、アルニコ磁石が用いられる。永久磁石のベ
ルトへの埋め込み間隔し及び半径Ｒは、ディスクサイズ
により選ばれる。例えば５インチディスクサイズの時は
、間隔りは６〜９インチに、半径Ｒは、３〜４インチに
設定される。
ツタパワ一密度 ０．０５１１１／Ｃａ１２アル
ゴンガス圧 ４ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒ電極
間隔 ４０龍 基体移動速度 ５ｃｍ／ｒｎｉｎベルＩ−
移動速度 ５ｃｎ＋、’ｍｉｎ長尺状の基体
１９としては、厚さ数十ミクロンのポリエステルやポリ
イミドやポリアミド等が用いられる。永久磁石２０．２
１としては、アルニコ磁石が用いられる。永久磁石のベ
ルトへの埋め込み間隔し及び半径Ｒは、ディスクサイズ
により選ばれる。例えば５インチディスクサイズの時は
、間隔りは６〜９インチに、半径Ｒは、３〜４インチに
設定される。
この様にして形成されたＮｉＦｅ合金層は、磁界印加手
段１１より発生している、基体走向方向−定間隔で分布
した放射磁界によって、基体上−定間隔で、放射状に磁
化容易軸を有している。次に、放射状の中心を基準にし
て、−定間隔で、ドーナツ状に打ち抜くことによって、
第３図に示す様にドーナツ状媒体２６の高透磁率磁性層
の磁化容易軸２７を、ドーナツ状円板の半径方向に放射
状に有する良好な２層膜が得られる。以上の説・明では
、基体の片面だけの成膜について述べたが、裏面への成
膜も同様に行われる。
段１１より発生している、基体走向方向−定間隔で分布
した放射磁界によって、基体上−定間隔で、放射状に磁
化容易軸を有している。次に、放射状の中心を基準にし
て、−定間隔で、ドーナツ状に打ち抜くことによって、
第３図に示す様にドーナツ状媒体２６の高透磁率磁性層
の磁化容易軸２７を、ドーナツ状円板の半径方向に放射
状に有する良好な２層膜が得られる。以上の説・明では
、基体の片面だけの成膜について述べたが、裏面への成
膜も同様に行われる。
また、第１図に示したスパッタリングターゲ・ソト１４
及び１６のかわりに蒸着用のソースを配設すれば、連続
蒸着装置にも同様に、本発明の磁界印加装置を適用でき
る。
及び１６のかわりに蒸着用のソースを配設すれば、連続
蒸着装置にも同様に、本発明の磁界印加装置を適用でき
る。
（発明の効果）
本発明によれば、ドーナツ状円板上の全面において記録
再生効率の向上した、２層ｊ摸から成る垂直磁気記録媒
体の量産の効率を向上できる９図面のｆｆｆｉ ｔｉな
説明 第１図、第２図、第３図は本発明の詳細な説明するため
の図、第４図、第５図は、従来例を説明するための図で
ある。
再生効率の向上した、２層ｊ摸から成る垂直磁気記録媒
体の量産の効率を向上できる９図面のｆｆｆｉ ｔｉな
説明 第１図、第２図、第３図は本発明の詳細な説明するため
の図、第４図、第５図は、従来例を説明するための図で
ある。
図において
１．１９・・・基体 ２，１２・・・送り出しロ
ール３．１３・・・巻き取りロール ４．１４・・・スパッタターゲット（高透磁率磁性体）
５．７，１５．１７・・・ターゲットホルダ・６．１６
・・・スノｔツタターゲ・ソト（ＣｏＣｒ合金等）８．
１８・・・基板ホルダ ９，２６・・・ドーナツ円板状
媒体１０．２７・・・磁化容易軸方向 １１・・・磁界印加装置 ２０．２１・・・永久磁石第
３ 図 第 ４ 図 第 ５ 図
ール３．１３・・・巻き取りロール ４．１４・・・スパッタターゲット（高透磁率磁性体）
５．７，１５．１７・・・ターゲットホルダ・６．１６
・・・スノｔツタターゲ・ソト（ＣｏＣｒ合金等）８．
１８・・・基板ホルダ ９，２６・・・ドーナツ円板状
媒体１０．２７・・・磁化容易軸方向 １１・・・磁界印加装置 ２０．２１・・・永久磁石第
３ 図 第 ４ 図 第 ５ 図
Claims (1)
- ベルトと、ベルト駆動部と、ベルトに形成される第１の
永久磁石と、同じくベルトに形成され第１の永久磁石を
中心にリング状に配置され第１の永久磁石を中心に放射
状の磁界を発生させる第２の永久磁石とを備えたことを
特徴とする磁界印加装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14751686A JPS634425A (ja) | 1986-06-23 | 1986-06-23 | 磁界印加装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14751686A JPS634425A (ja) | 1986-06-23 | 1986-06-23 | 磁界印加装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS634425A true JPS634425A (ja) | 1988-01-09 |
| JPH0519768B2 JPH0519768B2 (ja) | 1993-03-17 |
Family
ID=15432103
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14751686A Granted JPS634425A (ja) | 1986-06-23 | 1986-06-23 | 磁界印加装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS634425A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004077413A1 (ja) * | 2003-02-19 | 2004-09-10 | Neomax Co., Ltd. | 磁場中熱処理装置 |
-
1986
- 1986-06-23 JP JP14751686A patent/JPS634425A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004077413A1 (ja) * | 2003-02-19 | 2004-09-10 | Neomax Co., Ltd. | 磁場中熱処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0519768B2 (ja) | 1993-03-17 |
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