JPS6344334A - 光カ−ド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、光学的情報を高密度に記録するための光情報
記録部が設けられた光カードに関する。

〔発明の背ｍ〕

従来、クレジットカード、バンクカードなとのカード類
に埋設される記録材料としては、磁気材料が主として用
いられてきた。この磁気材料は、情報の書込みならびに
読出しが容易に行なえるという利点はあるが、反面、情
報の改ｑが容易に行なわれ、しかも、高密度記録ができ
ないという問題点があった。

ところで、上記のような問題点を解決するため、感光材
にパターン露光を施こして、未露光部である光透過部と
露光部である遮光部とを形成することによって、感光材
に情報を１込み、この情報を光透過度の際によって読取
るようなタイプの光記録材料からなる光情報記録部が形
成された光カードが提案されている。

しかしながら、従来の光カードは、甲一種類の光記録材
料によって光情報記録部が形成されているため、記録方
式ならびに読取方式が単一方式にｉ、ＩＩ限され、てれ
ゆえ処理速度の点で一定の限界があり、また偽造防止の
観点からし必ずしＣ）満足のいくものではない。

〔発明の概殻〕

本発明は、上述した点に鑑みてなされたものであり、処
理速度の向上を図る上で右利であり、しかも偽造防止の
点でも改善された光カードを提供することを目的とする
。

このような目的を達成するため、本発明に係る光カード
は、カード基村上に光情報記録部が設けられている光カ
ードにおいて、前記光情報記録部が、消去可能型光情報
記録部と読取専用型光情報記録部とからなることを特徴
とするものである。

〔発明の詳細な説明〕

以下、図面を参照しながら本発明の詳細な説明覆る。

第１図の断面図に示すように、本発明の光カード１は、
カード基材２と光記録部用基材３の下面に設けられた光
記録部４とが接着剤層５を介して１１合一体止されてい
る。そして、光記録部４は、読取専用型光情報記録部４
ａと消去可能型光情報記録部４ｂとからなる。この両記
録部は、カードの平面方向に対して各々区分して設けら
れており、たとえば、第２図の平面図に示すように、読
取専用型く以下ＲＯＭ型と略称する）光情報記録部４ａ
と消去可能型（イレーザブル型〈以下ＥＲ型と略称覆る
））光情報記録部４ｂとが相互に隣接した態様で形成さ
れていてもよい。

なお、光記録部用基材３の表面には、表面硬化層（図示
せず）が設けられていてもよく、またカード基材２中に
は磁気記録層（図示せず）が設けられていてもよい。さ
らに、必要に応じてＩＣメモリー、写真、彫刻画鍮、文
字、マーク、インプリントと称する浮き出し文字などを
、光カードの表面もしく（４裏面に併設してもよい。こ
のようにすることにより、１枚のカードで種々の再生方
式に対応でき、また偽造がより効果的に防止できる点で
も右利である。

本発明において、ＲＯＭ型光情報記録部とは、主に光カ
ードの製造時において光学的に記録される情報であって
消去もしく書換えができない情報の記録部を意味する。

一方、ＥＲ型光情報記録部は、カード使用時において、
情報を自由に記録し消去しあるいは追加書込みすること
ができる記録部をいう。

このように、本発明の光カードは、ＲＯＭ型光情報記録
部とＥＲ型光情報記録部とがカード中に各々区分して設
けられているので、以下のような効果を有している。

（ａ＞　　ＲＯＭ型光情報記録部に不変情報を記録し、
ＥＲ型光情報記録部に可変情報を記録することができ、
情報の種類に応じた記録方式を一枚のカードで使い分け
ることができる。すなわち、情報処理の効率的な１能分
担が可能となる。

（ｂ）　　辞書的な機能、使用態様が可能となる。

たとえば、ＥＲ型光情報記録部の可変情報を参照しなが
らＲＯＭ型光情報記録部の不変情報を読み出したり、逆
にＲＯＭ部の情報を参照しながらＥＲ部の情報を古さ換
えたりすることができる。

すなわら、双方の情報を相互に参照しながら情報の配録
、再生を（１なうことができる。

（Ｃ）　　処理速度の向上を図ることができる。すなわ
ら、一般に光カードの情報処理は、カード上を直線的か
つシリアルにアクセスすることにより行なわれるので処
理速度に一定の限界がある。したがって、上記（ｂ）の
様な辞書的使用態様を採用することにより、必要な情報
のみをダイレクトかつランダムにアクセスし処理するこ
とが可能となり、これにより情報処理速度を向上させる
ことができる。

（ｄ）　２種類の記録方式からなる情報記録部が組合わ
せて設けられているので、従来の単一の記録方式のもの
に比べて、偽造防止上も有利である。

以下、本発明の光カードの各構成部材について更に詳細
に説明する。

カード３ｊ材 カード基材２としては、通常のカードの基材として用い
ることができるあらゆる材料が用いられつる。また、こ
のカード基材２は、不透明材料層と透明材料層との積層
体により構成することもでさる。カード基４４２の材料
としては、昼休的には、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル／
酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ごニリデン、ポリメタク
リル酸メヂルなどのアクリル系重合体、ボリスヂレン、
ポリビニルブチラール、アセチルセルロース、スチレン
／′ブタジェン共重合体、ポリエチレン、ポリブロピレ
ン、ポリカーボネートなどが用いられる。

場合によっては、鉄、ステンレス、アルミニウム、スズ
、銅、亜鉛などの金属シート、合成紙、紙なども用いら
れうる。このうち、不透明材料層用材料としては、白ｅ
ｔａ質ポリ塩化ビニルが好ましく用いられ、透明材料層
用材料としては、透明硬質ポリ塩化ビニルが好ましく用
いられる。

光記録部用基材 光記録部用基材３としては、光透過性であるガラス、セ
ラミックス、紙、プラスチックフィルム、織布、不織布
などあらゆるタイプの材料が用いられうるが、生産性お
よび平滑性の点からガラスあるいはプラスチックフィル
ムが好ましい。プラスチックとしては、セルロース１１
体、ポリエステル８４詣、ポリカーボネート樹脂、ビニ
ル系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエ
ーテル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ
メチルペンテン樹脂、セルローストリアセテート樹脂な
どを用いることかでき、透明性および平滑性の点から、
セルローストリアセテート、ポリエチレンアレフタレー
ト、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ
スルホン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂などが特に好ま
しい。これら基材５には、必要に応じて、コロナ放電処
理、プラズマ処理、ブライマー処理などの接着性改良の
ための＠処理をしてもよい。

ＲＯＭ型光情報記録部 ＲＯＭ型光情報記録部４ａは、光透過部６おにび遮光部
７から構成することができる。この記録部４ａは、たと
えば未露光部が光透過性となり露光部が遮光性となる感
光材をパターン露光し、次いで現像することによって形
成される。場合によっては、未露光部が遮光性となり、
露光部が光透過性となる感光材をパターン露光し次いで
現像することによって、ＲＯＭ型光情報記録部４ａを形
成してもよい。

感光材は、たとえば（イ）バインダーとしての透ｔｉｌ
ｌ樹脂、（ロ）ジアゾ基またはアジド基を有する光分解
性の現像抑制剤および（ハ）還元されて金属現像核とな
る金属錯化合物または金属化合物から構成されている。

この感光材においては、バインダーとしての透明樹脂１
００重量部に対して、ジアゾ基またはアジド基を有する
光分解性の現像抑制剤は１〜１００重団部好ましくは２
０〜５０１邑部の量で存在し、還元されて金属現像核と
なる金属錯化合物または金属化合物は０．１〜１００．
１１部好ましくは１〜１０ｍｆｆ１部の譬で存在してい
る。上記の現像抑制剤、金属錯化合物または金属化合物
は、バインダーとしての透明樹脂中に溶解あるいは分散
されているが、好ましくは溶解されている。

透明樹脂としては、親油性あるいは親水性の透明樹脂の
いずれもが使用できる。親油性透明樹脂としては、ポリ
酢酸ビニル樹脂、［ビニル／アクリル酸エステル共重合
樹脂、アクリル酸／酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン／
酢酸ビニル共重合樹脂などのエステル基を有する樹脂、
酢酸セルロースなどの水酸基を有する樹脂、カルボン酸
拉あるいはスルホン酸基を含む変性酢酸ビニル系樹脂な
どが挙げられる。

また、光記録特性上はヒートモードで変形する性質を右
づるニド１〕セルロースなどのセルロース誘導体をこれ
らの新油性透明樹脂に添加することら高感度化のために
有効である。

また、親水性の透明樹脂としては、ゼラチン、カビイン
、グルー、アラビアゴム、セラックなどの天然高分子化
合物、カルボキシメヂルセルロース、卵白アルズミン、
ポリビニルアルコールく部分ケン化ポリ燦々ビニル）、
ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロ
リドン、ポリエチレンオキシド、無水マレイン酸共重合
体などの合成樹脂が用いられるが、水溶性ないし親水性
樹脂である限りにおいて、上記以外のものも使用可能で
ある。バインダーとしての親水性透明！ｌ脂には、この
透明樹脂により感光材層を形成して物理現像液と接触さ
ける際に、物理現像液が感光材層に浸透して物理現像が
可能となる程麿の親水性を右することが好ましい。

また光記録特性上はヒートモードで変形し易い性質のあ
る、ニトロセルロースなどの低分子量物をエタノール溶
解して上記の親水性透明樹脂に添加することも有効であ
る。

現像抑制剤としては、ジアゾ基またはアジド基を有する
化合物が用いられる。ジアゾ基を有する化合物としては
ジアゾ基を有りる塩化亜鉛複塩もしくはホウフッ化塩、
またはこれらの化合物とバラホルムアルデヒドより１７
られる縮合生成物である化合物が好ましい。より具体的
には、ｐ−Ｎ。

Ｎ−ジエチルアミノベンピンジアゾニウム塩化亜鉛複塩
、ｏ−Ｎ−エヂルーＮ−βヒドロキシエヂルアミノベン
ぎンジアゾニウム塩化亜沿複塩、４−モルフォリノ−２
，６−ジエ１〜キシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛〜塩
、４−モルフォリノ−２゜５−ジブトキシベンゼンジア
ゾニウム塩化亜鉛複塩、４−ベンゾイルアミノ−２，５
−ジェトキシベンビンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、４−
　（４’−メ１−キジベンゾイルアミノ）−２，５−ジ
ェトキシベンゼンジアゾニウム塩（ヒ亜鉛複塩、４−（
＋）−トルイルメルカプ シベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛？ａｍ、４−ジアゾ−
４′　−メトキシジフェニルアミン塩化亜鉛複塩、４−
ジアゾ−３−メトキシ−ジノＴニルアミン塩化亜鉛複塩
などのジアゾ基を右する塩化亜鉛複塩ｂ＋，＜は以上の
ような塩化亜鉛’４２　）７；４の代わりに上記のホウ
フッ化塩、硫酸塩、リン酸塩なども使用できる。

アジドＩｔを有する化合物としては、ｐ−アジドアセ１
−ノエノン、４．４′−ジアジドカル」ン、２、６−ビ
ス−（４′−アジドベンザル〉−アセ１−ン、２，６−
ビス−（４′　−アジドベンザル）−シフ［１ヘキサノ
ン、２．６−ビス−（４′−アジドベンザル）−４−メ
チルシクロへｌ−’ｔノン、２、６ービス（４′　−ア
ジドスチリル）−アセトン、／シトピレンなどが使用で
きる。ジアゾ基らしくはアジド基を有する限り上記以外
の化合物も使用することもでき、また、上記したジアゾ
基ししくはアジド基を有する化合物を任意に２秒以上併
用して使用することもできる。

なおジアゾ基を有する化合物を用いる場合にｔ．Ｌ、こ
の化合物を安定化させる安定化剤を用いるとよく、有曙
カルボン耐や有機スルホン酸がこの安定化剤として用い
ることができ、より実際的にはｐ−トルエンスルホン酸
などを用いることが好ましい。

次に還元されて金属現像核となる金属錯化合物らしくは
金属化合物について説明する。

まず、還元されて金属現像核となる金属錯化合物として
ｔ．ｔ、パラジウム、金、銀、白金、銅などの金属の錯
化合物が用いられ、これらの金属に対し電子ドナーとへ
る配位子としては通常知られているものを用いることが
できる。具体的には、下記のＪ：うな金属錯化合物が用
いられる。

ビス（エチレンジアミン）パラジウム（Ｉｆ）ｕ、ジク
ロロｒチレンジアミンパラジウム＜　■＞　Ｓ＝、ジク
ロロ（エチレンジアミン）白金（Ｖ）塩、テトラクロロ
ジアンミン白金（　ＩＶ　）塩、ジクロロビス（エチレ
ンジアミン）白金（ＩＶ）ｊＷ、テトラエチルアンモニ
ウム銅（ｆｆ）塩、ビス（エチレンジアミン鋼（Ｉｆ）
塩。

さらに金属のｉ８化合物を形成する配位子としては、２
力所以上で配位して環状構造をとるいわゆる（−シーｌ
−化剤を用いると、形成される金属錯化合物の安定性が
高いために好適である。キレート化剤として（ユ第１級
、第２級もしくは第３級アミン類、オキシム類、イミン
類、ケトン類を挙げることができ、より具体的にはジメ
チルグリオＶシム、ジヂオン、オキシン、アセデルアセ
［−ン、グリシン、エチレンジアミン四酢酸、二ｌーリ
ロ三酢酸、ウラミルニ酢酸などの化合物が用いられる。

上記のＶレーｌ〜化剤を用いたしのとしては、ビス（２
．２’　−ビピリジン）パラジウム（　［　）塩、ビス
くアセチルアセトナート）パラジウム（ｎ）、ビス（Ｎ
，Ｎ−ジエチルエチレンジアミン）銅（ＩＩ）塩、ビス
（２．２’　−ビピリジン）銅（ＩＩ）塩、ビス１．１
０−フェナントロリン）銅（Ｕ）塩、ビス（ジメチルグ
リオキシマート）銅（ｆｆ）、ビス（アセチルアセトナ
ート）ｌ（ＩＩ）、ビス（アセチルアセトナ−１−　）
白金（Ｉ［）などが好ましい。

還元されて金属環！！！核を与える金属化合物としでは
、パラジウム、金、銀、白金、銅などの金属の塩化物、
硝Ｂ塩などの水溶性塩などの金属化合物が用いられ、具
体的には無電解メツキのアクチベーター液中に含まれる
塩化パラジウム、硝酸銀、四塩化水素金などの塩が好ま
しいが、このうちパラジウムの塩が特に好ましい。

上述のような、（イ）バインダーとしての透明樹脂、（
０）ジアゾ１工またはアジド基を右づ°る光分解性の現
像抑υ１剤および〈ハ）還元されて金属現像核となる金
属錯化合物または金利化合物は、バインダーとしての透
明樹脂に応じて選択された溶剤とともに混合されて、塗
布に適した粘度である１０〜１０００センチボイスを有
する感光材層形成用塗布液とされる。この感光材層形成
用塗布液は、光記録部用林材３上に通常０．１〜３０μ
ｍの膜厚に塗布されて感光材層が形成される。

バインダーとしての透明樹脂を溶解する溶剤としては、
種々の溶剤が使用できるが、親水性透明樹脂を用いろ場
合には、水、低級アルコール、ケトン、エーテルなどの
水混和性溶媒、あるいは水と水混和性溶媒との混合溶剤
が用いられる。また、親油性透明樹脂を用いる場合には
、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピル
アルコールなどの低級アルコール類、アセトン、メチル
エチルケトンなどのケＩ−ン類、酢ＭＥチル、酢ｇｎブ
ヂルなどのエステル類、メチルセロソルブなどの極性の
高い溶剤が好ましく用いられる。

なお、親水性の透明樹脂を用いる場合に【よ、感光材層
を形成後、物理現像処理中の現像液へのバインダーなど
の溶出を抑制するため、硬膜処理を行うことが望ましい
。硬膜処理は、！ことえば下記化合物を感光材形成用塗
布液中に透明樹脂１００部に対して０．１〜５０部の量
で予じめ混合するか、あるいは下記化合物の水溶液をす
でに形成された感光４４層上に孕布することにより行な
うことができる。

カリ明パン、アンモニウム明パンなどの１１化合物ニク
ロム明パン、Ｉａ酸クロムなどのＣｒ化合物；ホルムア
ルデヒド、グリオキザル、グルタルアルデヒド、２−メ
チルグルタルアルデヒド、サクシナルデヒドなどのアル
デヒド類、二〇−ベンゾキノン、ｐ−ベンゾキノン、シ
クロヘキサン−１，２−ジオン、シクロペンタン−１，
２−ジオン、ジアセチル、２．３−ペンタンジオン、２
゜５−ヘ−ヤサンジオン、２，５−ヘキセンジオンなど
のジケトン；トリグリシジルイソシアヌル酸塩などのエ
ボＶシト；テトラフタロイルクロリド、４．４′　−ジ
フェニルメタンジスルフオニルクロリドなどの酸無水物
；タンニン酸、没食子酸、２゜４−ジクロロ−６−ヒド
ロキシ−ｓ−トリアジン、ならびに一般式ＲＮＰｏｘ２
、 Ｒ−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−Ｒ’　　（ここでＲは炭素２〜６のア
ルキル基、Ｒ′は （ＣＨ）　　Ｎ”　　（ＣＨ３）３Ｘ”　Ｗ、Ｘ　ＧＪ
　Ｆ　ｔたはＣρ、ｎは１または２）で表わされるリン
化合物またはカルボジイミド；スチレン／マレイン酸共
重合体、ビニルピロリドン／マレイン酸共重合体、ビニ
ルメチルエーテル／マレイン酸共重合体、エチレンイミ
ン／マレイン酸共重合体、メタクリル醇／メタクリロニ
トリル共重合体、ポリメタクリルアミド、メタクリル酸
エステル共重合体などの樹脂類、グルタル酸、コハク酸
、リンゴ酸、乳酸、クエン酸、アスパラギン酸、ゲルコ
ール酸、酒石酸など。

このようにして、光記録部用基材３上に設けられた感光
材層をパターン露光し、次いで現像して未露光部である
光透過部６および露光部である遮光部７とからなるＲＯ
Ｍ型光情報記録部４ａを形成し得る。パターン露光は、
たとえばフォトマスクなどのマスクを介して行なうこと
ができる。

また照射光をビーム状に集光して感光ｖＪ層に直接照射
してパターン状に遮光部７を形成することらできる。

感光４４層における露光部では、ジアゾ基またはアジド
基を有する光分解性の現像抑制剤は、露光部に応じて分
解されて潜像が形成される。

露光に際して使用される光源としては、ジアゾ基もしく
はアジド基を右する化合物を分解しうる光源ならば任意
に用いることができ、通常超蟲圧水銀灯が／Ｉｆましく
用いられる。

上記のようなパターン露光によりシアシリもしくはアジ
ド基を有する化合物の分解により形成された潜像を、還
元剤水溶液と接触させて金属現像核を発生させる。、な
お未露光部では、ジアゾ基またはアジド基を有する現像
抑制剤は分解されていないため、還元剤水溶液と接触し
ても金属環ｆｓ１＋＆は発生ぜずそのまま九透過部とし
て残存している。

この際用いられる還元剤としては、塩化第１スズ、ＲＭ
第１スズ、水素化ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボ
ラザン、ジエチルアミンボラザン、トリメチルアミンボ
ラザンなどのボラザン系化合物、ボラン、ジボラン、メ
チルジボランなどのボラン系化合物、ヒドラジンなどが
用いられる。このうち、酸性塩化第１スズ溶液、硫酸第
１スズ溶液（’＊ｅｉＳＳ液）あるいは市販の無電解メ
ツキ用のセンシクイザー液などが特に好ましいが、一般
に１よ、強力な還元剤であればずべて使用できる。

次いで、このようにして得られた金属環’３１１＆と物
叩現懺液とを接触させると、物理現＠液中に含まれる金
属が還元されて、前記金属現像核を中心として析出し、
遮光部７が形成される。

物理現像液としては、水Ｆ８竹の被還元性金属塩および
還元剤を含む水溶液が、低温また（ま必要に応じて加温
した状態で使用される。

；＊還元性金属塩としては、たとえばニッケル、コバル
ト、鉄およびクロムなどのｖｒｂＩｆｉ金屈、銅などの
Ｉｂ族金属の水溶性塩が申独でまた１９合して使用され
る。また−口調塩溶液で物理現像した後、塩化第一錫や
硫酸錫で置換メツｒを行い錫ないし錫・鋼糸の金属層を
得る口とも可能である。

これらの中で６安全性、保存性を考慮りるとニッケル、
銅、錫が好ましい。但し、蒸着と巽りり原料の純度、メ
ツ虹安定化剤などから９嬶の異種金属やリン、イオウな
どの元素が混入することはあり（りるが、特に光記録４
４斜としての特性にｖｅ讐を与えるものではない。

適当な水溶性の被還元性金属塩としては、具体的には以
下のらのが用いられる。

塩化第一コバルト、ヨウ化第−コバルト、臭化第一鉄、
塩化第一鉄、Ｑ化第二りＯム、ヨウ化第ニクロム、塩化
第二Ｈ４＾どの■企屈ハライド：硫酸ニッケル、硫酸第
一鉄、鴎Ｍ第一コパル１−１硫酸第ニクロム、硫酸第二
銅などの重金属硫酸塩；硝酸ニッケル、（ｌｌ′１酎第
−鉄、硝酸第一コバルト、＆ｒ１酸第二り１］ム、硝酸
第二銅などの千金届硝耐塩：フエラスアセテ−１〜、コ
バルタスアセテート、クロミックアセテート、キュープ
リツクフォルメートなどの金属の右ｔ１酸塩。

これら被還元性重金属塩は１勿理現像液中にたとえば１
０〜１００ｇ、ｌの邑で含まれることが好ましい。

還元剤として１．ｉ、たとえば次亜リン酸、次亜リン酸
ツートリウム、水素化ホウ素ナトリウム、ヒドラジン、
ホルマリン、ジエチルアミンボラン、ジメチル７ミンボ
ラン、トリメチル７ミンボラン、ボラン、ジボラン、メ
チルジボラン、ジボラザン、ボラピン、ボラジン、ｔ−
ブチル７ミンボラザン、ピリジンボラン、２．６−ルチ
シンボラン、エチレンジアミンボラン、ヒドラジンジボ
ラン、ジメチルホスツインボラン、フェニルホスツイン
ボラン、ジメチルフルジンボラン、フェニルアルシンボ
ラン、ジメチルスチごジボラン、ジエチルスチビンボラ
ンなどが使用できる。

これらの還元剤は、物理現像液中に、たとえば０．１〜
５０ｓ／ｊのｍで用いられることが好ましい。

物理現像液中には、前記した被還元性千金属地の溶解に
より生成する１ｌｆｆｉイオンが水酸化物として沈澱す
るのを防止するために、たとえばモノカルボン酸、ジカ
ルボン酸、リンゴ酸、マし酸などのヒドロキシカルボン
酸、コハク酸、クエン酸、？スバラギン酸、グリコール
酸、酒石酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、グルコン酸
、糖酸、キニン酸などの有機カルボン酸からなる鉗塩化
剤の一種または二種以上を含ませることができる。これ
ら２ｎ　’Ｉｒｉ化剤は、物理現＠液中にたとえば１〜
１００グ／ｊのはで用いられることが好ましい。

さらに、物理現像液には、現像液の保存性および操作性
ならびに得られる画像の質を改善するために、酸および
塩基などのｐＨ調節剤、緩衝剤、防腐剤、増白剤、界面
活性剤などが常法に従い必要に応じて添加される。

この添加剤のうちＤｌ＋を上げるためにはアンモニア水
もしくは水酸化ナトリウム水溶液を用いることが特に好
ましい。

また、物理現懺は、次亜リン酸ナトリウム還元剤を用い
た６５℃から９０℃の５ｉＨニツケルメツキ浴または銅
メツキ欲中で高速メツキ条件下で行ってしよい。この際
得られた画像を、たとえば塩酸５％または硝酸の５％の
水溶液で５分間程度処理づることにより光透過部の透明
樹脂を一部選択的に除去することもできる。

また、感光材としては、上述のような透明樹脂、現０抑
制剤、金属錯化合物または金属化合物からなる系のほか
に、（イ）ハロゲン化銀、ドライシルバー（登録商標）
などの有様銀塩に代表される銀塩系材料、（ロ）ジアゾ
ニウム塩とカプラーとの組合せ系、（ハ）カルバ−フィ
ルム（登録商標）、［）Ｄブ［］セス（０録商標）材料
などに代表されるジアゾ系材料、（ニ）アクリルモノマ
ー、ポリビニルケイ皮酸などに代表される光重合型光種
かけ型のノ第１・ポリマー系材料（ホ）ｉ−ナーゆを形
成するＣｄ　Ｓ、Ｚｎ　Ｏ，ポリビニルカルバゾールな
どの電子写真感光体あるいはその転写体、（へ）フロス
ト像を形成するサーモブラスヂックス″市子写真感光体
などの電子写真系材料、（１・）ロイコ染料と四臭化炭
素との組合せ系、（チ）グイラックス（ｑａ商標）」パ
ルｌ−Ｓ８体とロイコ染Ｆｌとの組合せ系、（す）シュ
ウ醒第二酸と鉄塩との組合せ系、（メ）スピロピラン、
モリブデンタングステン化合物などの顔料または色素の
画像を形成する材料などが用いられうる。

上記の感光材のうち、ある種のものは露光部が遮光性と
なり未露光部が光透過性であるが、またある秤のものは
露光部が光透過性となり未露光部が遮光性である。いず
れにしてム露光した後に必要に応じて現像することによ
って、光透過部分と遮光部分とからなる記録を行ないつ
るような感光材であれば使用できる。但し、上記の感光
材のうち、（イ）バインダーとしての透明樹脂、（ロ）
ジアゾ基またはアジド基を右する光分解性の現像抑＄り
剤および（ハ）還元されて金属現像核となる金属錯化合
物または金属化合物から構成されている感光材を用いる
と遮光部７が近赤外線を使用した読取りの際にも高濃度
の６のとして読取り可能であり、解像度が高く、しかも
明室で取り扱える利点がある。

このような感光材への照射光としては、紫外線、可視光
線、赤外線、×！２、電子線などが用いられうる。

また、読取法として、光透過部６と遮光部７との反射率
の相違を検知する方法をとる場合は、図示されていない
が、ＲＯＭ型光情報記録部４ａが、その下面側に反射性
金属１１！ａ　１ｍを有していることが好ましい。この
場合は、ＲＯＭ型記録層における遮光部は、たとえば、
前）ホのように金属現染核を中心にその付近に金属が析
出して黒色に近い色調に形成されているため、この遮光
部に読出し用照射ビームが照射されると、照射ビームは
この部分で吸収されて反射率は小さくなる。−力先透過
では照射ビームにあまり吸収されずにその下層に設けら
れた反射性金Ｒ薄膜層に達するため、この光通過部にお
ける反射率は大きい値となる。したがって、遮光部と光
透過部とにおける反射率の相違を読取ることによって、
ＲＯＭ型光情報記録部に書込まれた情報を読出すことが
できる。

上述した構成は、好ましい例ではあるが、ＲＯＭ型光情
報記録部としては、上記の例以外の公知の材料がすべで
用いられ得ることはいうまでもない。

たとえば、ＲＯＭ型光情報記録部を特定の反（ト）性金
属薄膜からなる光反射層で構成することができる。この
場合は、光反射層に情報ビットからなる光情報パターン
をフォトエツチング等により形成する。このような光反
射層の材質はＯｒ、Ｔｉ。

Ｆｅ　、Ｃｏ　、Ｎｉ　、Ｃｕ　、ＡＣ＋　、Ａｕ　、
Ｇｅ、ＡＩ　、Ｍ（＋、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｃｄ
、Ｂｉ　、Ｓｎ、Ｓｅ、１ｎＧａ、もしく　１．ｔ　Ｒ
ｂなとであって、単独、もしくは２種以上組み合わせた
合金からなっている。このうちで、光反射性と耐久性の
観点からはＡＩ　、Ｃｒ、Ｎｉ　、ＡｇもしくはＡｌｌ
が好ましいものである。

これら、金属らしくは合金の薄膜からなる光反射層の厚
みは２００人〜１００００八であり、より好ましくはｌ
０００Ａ〜５００００人である。

光反ｒｊ４層は下記のような金属もしくは合金を使用し
、酒肴、スパッタリング、ＣＶＤ、イオンブレーティン
グ、もしくは分子線エピタキシー、めっき等の手段によ
り形成する。

金属としては、上述したように、■光反射性の優れた金
属、例えばＡＮ　、Ｎｉ　、Ｃｒ　、Ａｇ、Ａｕなどあ
るいはこれらを主体とする合金が第１に挙げられる。こ
のグループに属する金１もしくは合金を使用すると、得
られる光記録体のビット部分と非ビット部分の光学的コ
ントラトスが高く、読み出しが用である。

あるいは金属としては、■低融点金属である丁ｅ　、Ｚ
ｎ　、Ｐｂ　、Ｃｄ　　、Ｂｉ　　、Ｓｎ　、Ｓｅ　、
Ｉｎ、Ｇａ、Ｒｈなどの金属もしくはこれらを主成分と
する合金ら使用でき、好ましい合金の例としては、Ｔｅ
　−３ｅ　、　Ｔｅ−３１３−ｐｂ　、　Ｔｅ　−Ｐｂ
　、Ｔｃ　−３ｎ−３，Ｓｎ　−Ｃｕ　、Ｔｃ　−Ｃｕ
−ｐｂなどが挙げられるし、更に５〜４０原子数％のＣ
ｕを含む７ｃｍＣｕ合金あるいは５〜４０原子数％のＣ
ＬＩおよびＣｕに対して１〜５０原子数％のＰｂを含む
Ｔｅ　−Ｃｕ−Ｐｂ含金は読み出し用のレーザービーム
の波長を６５０ｎｍ以上とする場合にビット部と非ピッ
１一部の光学的コントラストが高り、読みだしが容易で
ある。

また、上記のような各種のタイプの反射性金属薄膜を組
合せて用いることも可能である。

なお、以上に示したような金属らしくは合金の多層膜、
例えば＋ｎｌとＴｅ膜との多層Ｆ２雪も光反射層として
使用できる。

光情報パターンは光反射層に凹み、或いは光反射層を１
通づる孔の集合体から成っており、凹みもしくは孔（両
者を含めて「ビット」と称する）の平面形状は円、だ円
、長方形、正方形等であり、それらの直径もしくは長辺
の長さで測定する大ぎさは、通常、２〜２００μｍ程度
であり、隣接する各ビットの中心間距離は通常５〜５０
０μｍ程度である。

光反射層は、光学的低反射層とその上に形成された光学
的高反射層との積層体から成っていてもよい。

この場合、光学的低反射層は光学的高反射層と比較して
光の反射率が低いものであり、望ましくは黒色のもので
ある。又、表面が粗面状のものも光が乱反射するために
低反射率となるので使用できる。具体的な光学的低反射
ｔよ、光学的濃度の高いインキを用いて印刷法もしくは
塗布法により形成するか、無反射クロムを蒸着するか、
又は着色されたプラスチックフィルムをラミネートする
ことにより形成する方法が利用できる。或いはカード基
材の表面が光学的低反射性であれば、別の層の光学的高
反射層を設けなくてよい。

なお、光反射層の平面形状は、アイランド形状（１ｓｌ
ａｎｄ　ｆｏｒｉｌ）　、すなわち光反射層の端部がカ
ードの端部に接しないような形状であることが好ましい
。このような形状にすることにより、外気との接触を排
して耐食性が向上するとともに、カードの審美性す向上
する。

ＥＲ型光情報記録部 Ｅ　Ｒ！￥！光情報記録部４ｂとしては、たとえば、レ
ーザービームなどのエネルギービームをスポット状に照
射して、記録層の一部を状態変化（相転移）させて記録
し得るいわゆる相転移型記録材料が用いられ得る。

たとえば、エネルギービームの照射により相転移が生じ
てその反射率が変化する、Ｔｅ酸化物、５ｂＰａ化物、
Ｍｏｌ！ｉ化物、Ｇｅｍ化物、ＶＭ化物、ＳｍＲ化物、
あるいはＴｅ酸化物−Ｑｅ、Ｔｅ−３ｎなどの化合物が
、このような記録祠料として用いられうる。

また、カルコーグンあるいは発色型のＭ２Ｏ３−Ｃｕ　
、Ｍｏ　Ｏ３−８ｎ−Ｃｕが反射性金属薄膜として用い
られ、場合によっては泡形成型のｔ４礪薄膜と金属薄膜
との多層体もＥＲ型光情報記録部用材料として用いられ
うる。

さらに光磁記録材料であるＧｄ　Ｃｏ　、Ｔｂ　Ｃｏ、
Ｇｄ　Ｆｅ　、　ｏｙ　Ｆｅ　ＳＧｄ　Ｔｂ　Ｆｅ　１
Ｇｄ　Ｆｅ　Ｂｉ　、　Ｔｂ　Ｄ”ｌＴ　「ｅ　、　Ｍ
ｎ　Ｃｕ　ＢｉなどもＥＲを光情報記録部用ｔ４ＦＡと
して用いられうる。

上記のような各種のタイプの記録材料を組合せて用いる
ことも可能である。

表面硬化層 表面硬化層は、光カード１の光記録部側の表面の硬度を
高めてその保護をすることにより、カードの携帯や使用
時に表面に傷がつくことを防止する上で好ましく設警プ
られる。これにより、カードの耐久性と占込み、読取り
粘度における信頼性の向上を図ることができる。

この表面硬化層の材料としては、シリコン系、アクリル
系、メラミン系、ウレタン系、エポキシ系硬化剤やＡＭ
　　ＯＳ　＋　０２などの金属酸化物の他、プラズマ重
合膜などが用いられる。

ｌ豆量Ｉ ）立４剤層５を構成する接着剤としては種々のものが用
いられつるが、例えばポリウレタンもしくｔよエポキシ
などの熱硬化性接着剤、あるいはアクリル樹脂、ポリ酢
酸ビニル樹脂、ポリエチレン／酢酸ビニル共市会開脂等
の感熱接着剤などを用いることができる。これらのうち
ｒｆ４薬品竹が要求されるときは熱硬化性接着剤、好ま
しくはボリウレクン接着剤が用いられる。

光カードの製造方法 次に本発明に係る光カードの製造方法について説明する
。

まず上述のようにして、光記録部用基材上に表面硬化層
（必要に応じて）、ＲＯＭ型光情報記録部およびＥＲを
光情報記録部を設は光記録部を形成する。この光記録部
用基材は、光カードとして組立てられた場合に、カード
保′３層としての役割を５果している。

次に、カード基材と光記録部用基材とを、光情報記録部
側がカード基材と接するように、熱硬化性接着剤もしく
は感熱接着剤などの接着剤層を介して重ね合わせた後、
９０〜１５０℃程度に加熱された熱ロールなどにて圧着
することにより光カードが製造され得る。

（発明の実施例〕 以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は、こ
れら実施例により限定的に解釈されるものではない。

製造例１ 厚さ０．６ｍのポリメチルメタクリレート製シー１〜を
光記録部用基材とし、その片面にアルミニウムを全面に
蒸着させた後、該アルミニウム膜の表面にフ４１−レジ
スト（シップレイ礼装）を塗布し、１００’Ｃにて３０
分間プリベークした。

次に、上記ノ第１・レジスト形成面にフォトマクス原稿
を介して紫外線を照射した後に現象し、次いでこれをリ
ン酸系混酸溶液に１．５分間浸漬してＲＯＭ型光情報記
録部を形成した。

次いで、アルミニウム膜を形成しなかった部分に、Ｔｂ
ＦｅＣｏ合金膜をスパッタリングにより形成してＥＲ型
光情報記録部とした。

次に、カード基材としての厚さ０．１頭の乳白色ポリエ
ステルフィル１、上に文字、絵柄などが印刷された側の
表面と、前記光情報記録部が形成された光記録部用基材
の光情報記録部側とを、接着剤を介して貼合わせて一体
化し、本発明の光カードを得た。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光カードの断面図、第２図は本発明の
光カードの平面図である。 １・・・光カード、２・・・カード基材、３・・・光記
録部用基材、４・・・光情報記録部、５・・・接着剤層
、６・・・光透過部、７・・・遮光部。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　カード基材上に、光情報記録部が設けられている光カ
   ードにおいて、前記光情報記録部が、各々区分して形成
   された、消去可能型光情報記録部と読取専用型光情報記
   録部とからなることを特徴とする、光カード。