JPS635387B2 - - Google Patents

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JPS635387B2
JPS635387B2 JP61295668A JP29566886A JPS635387B2 JP S635387 B2 JPS635387 B2 JP S635387B2 JP 61295668 A JP61295668 A JP 61295668A JP 29566886 A JP29566886 A JP 29566886A JP S635387 B2 JPS635387 B2 JP S635387B2
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JP
Japan
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dihydrocarbostyryl
propoxy
phenylpiperazinyl
hydroxy
dehydrogenate
Prior art date
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Expired
Application number
JP61295668A
Other languages
English (en)
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JPS62149664A (ja
Inventor
Kazuhisa Sakano
Takafumi Fujioka
Yasuo Ooshiro
Kazuyuki Nakagawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP3778378A external-priority patent/JPS54130587A/ja
Application filed by Otsuka Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Priority to JP61295668A priority Critical patent/JPS62149664A/ja
Publication of JPS62149664A publication Critical patent/JPS62149664A/ja
Publication of JPS635387B2 publication Critical patent/JPS635387B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 本発明は、新規なカルボスチリル誘導体の製造
法に関する。 従来の技術 本発明カルボスチリル誘導体は、文献未記載の
新規化合物である。 発明が解決しようとする問題点 本発明は、後記するように医薬品として有用な
化合物を提供することを目的とする。 問題点を解決するための手段 本発明によれば、下記一般式〔〕で表わされ
る化合物が提供される。 〔式中R1は水素原子、低級アルキル基、低級
アルケニル基又はフエニルアルキル基、R2は水
素原子、又は水酸基、R3は水素原子、ハロゲン
原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基及び
Xはハロゲン原子を示す。またl及びmは夫々0
又は1〜6の整数を示す。但しlとmの和は6を
越えてはならない。nは0,1又は2を示し、カ
ルボスチリル骨格の3位及び4位の炭素間結合は
一重結合又は二重結合を示す。〕 本発明の上記一般式〔〕で表わされるカルボ
スチリル誘導体及びその酸付加塩は、抗ヒスタミ
ン作用、中枢神経抑制作用を有し、抗ヒスタミン
薬及び鎮静剤として有用である。 上記一般式〔〕においてR1で示される低級
アルキル基としては炭素数1〜6の直鎖もしくは
分枝状アルキル基例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチ
ル、ヘキシル基等を例示できる。低級アルケニル
基としては炭素数2〜4の直鎖もしくは分枝状の
アルケニル基例えばビニル、アリル、2−ブテニ
ル、1−メチル−アリル基等を例示できる。また
フエニルアルキル基としては炭素数1〜4の直鎖
もしくは分枝状アルキレン基とフエニル基とが結
合した基例えばベンジル、2−フエニルエチル、
3−フエニルプロピル、4−フエニルブチル、
1,1−ジメチル−2−フエニルエチル基等を例
示できる。R3及びXで示されるハロゲン原子と
しては弗素、塩素、臭素、沃素原子等を例示でき
る。R3で示される低級アルキル基としては炭素
数1〜3の直鎖もしくは分枝状アルキル基即ちメ
チル、エチル、プロピル及びイソプロピル基を、
また低級アルコキシ基としては炭素数1〜3の直
鎖もしくは分枝状のアルコキシ基即ちメトキシ、
エトキシ、プロポキシ及びイスプロポキシ基を例
示できる。 以下本発明の一般式〔〕で表わされるカルボ
スチリル誘導体に包含される代表的化合物を例示
する。尚各化合物の3,4−位脱水素体とは、カ
ルボスチリル骨格の3,4−位の結合が二重結合
である化合物を表わすものとする。 Γ5−〔2−ヒドロキシ−3−(4−フエニルピペ
ラジニル)プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ6−〔2−ヒドロキシ−3−(4−フエニルピペ
ラジニル)プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ7−〔2−ヒドロキシ−3−(4−フエニルピペ
ラジニル)プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ8−〔2−ヒドロキシ−3−(4−フエニルピペ
ラジニル)プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ6−〔3−ヒドロキシ−3−(4−フエニルピペ
ラジニル)プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ7−〔4−ヒドロキシ−5−(4−フエニルピペ
ラジニル)ペンチルオキシ〕−3,4−ジヒド
ロカルボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ1−メチル−5−〔2−ヒドロキシ−3−(4−
フエニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,4
−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位
脱水素体 Γ1−エチル−6−〔2−ヒドロキシ−3−(4−
フエニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,4
−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位
脱水素体 Γ1−ブチル−5−〔2−ヒドロキシ−3−(4−
フエニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,4
−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位
脱水素体 Γ1−メチル−7−〔2−ヒドロキシ−3−(4−
フエニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,4
−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位
脱水素体 Γ1−メチル−8−〔2−ヒドロキシ−3−(4−
フエニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,4
−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位
脱水素体 Γ1−(3−メチルブチル)−5−〔2−ヒドロキ
シ−3−(4−フエニルピペラジニル)プロポ
キシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル及び
その3,4−位脱水素体 Γ1−ヘキシル−6−〔2−ヒドロキシ−3−(4
−フエニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,
4−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−
位脱水素体 Γ1−アリル−5−〔2−ヒドロキシ−3−(4−
フエニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,4
−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位
脱水素体 Γ1−(2−ブテニル)−6−〔2−ヒドロキシ−
3−(4−フエニルピペラジニル)プロポキシ〕
−3,4−ジヒドロカルボスチリル及びその
3,4−位脱水素体 Γ1−アリル−7−〔2−ヒドロキシ−3−(4−
フエニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,4
−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位
脱水素体 Γ1−ベンジル−5−〔2−ヒドロキシ−3−(4
−フエニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,
4−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−
位脱水素体 Γ1−(3−フエニルプロピル)−5−{2−ヒド
ロキシ−3−〔4−(4−メチルフエニル)ピペ
ラジニル)プロポキシ}−3,4−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ1−ベンジル−6−〔2−ヒドロキシ−3−(4
−フエニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,
4−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−
位脱水素体 Γ1−(4−フエニルブチル)−6−〔2−ヒドロ
キシ−3−(4−フエニルピペラジニル)プロ
ポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル及
びその3,4−位脱水素体 Γ1−ベンジル−7−〔2−ヒドロキシ−3−(4
−フエニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,
4−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−
位脱水素体 Γ1−ベンジル−8−〔2−ヒドロキシ−3−(4
−フエニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,
4−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−
位脱水素体 Γ6−クロル−5−〔2−ヒドロキシ−3−(4−
フエニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,4
−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位
脱水素体 Γ1−メチル−5−ブロム−6−〔2−ヒドロキ
シ−3−(4−フエニルピペラジニル)プロポ
キシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル及び
その3,4−位脱水素体 Γ6−フロル−7−〔2−ヒドロキシ−3−(4−
フエニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,4
−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位
脱水素体 Γ1−ベンジル−5−クロル−8−〔2−ヒドロ
キシ−3−(4−フエニルピペラジニル)プロ
ポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル及
びその3,4−位脱水素体 Γ6,8−ジクロル−5−〔2−ヒドロキシ−3
−(4−フエニルピペラジニル)プロポキシ〕−
3,4−ジヒドロカルボスチリル及びその3,
4−位脱水素体 Γ6−クロル−8−ブロム−7−〔2−ヒドロキ
シ−3−(4−フエニルピペラジニル)プロポ
キシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル及び
その3,4−位脱水素体 Γ1−メチル−5,6−ジブロム−8−〔2−ヒ
ドロキシ−3−(4−フエニルピペラジニル)
プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリ
ル及びその3,4−位脱水素体 Γ1−メチル−5−{2−ヒドロキシ−3−〔4−
(2−クロルフエニル)ピペラジニル)プロポ
キシ}−3,4−ジヒドロカルボスチリル及び
その3,4−位脱水素体 Γ6−{2−ヒドロキシ−3−〔4−(3−ブロル
フエニル)ピペラジニル)プロポキシ}−3,
4−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−
位脱水素体 Γ7−{2−ヒドロキシ−3−〔4−(4−フロル
フエニル)ピペラジニル)プロポキシ}−3,
4−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−
位脱水素体 Γ5−{2−ヒドロキシ−3−〔4−(2−メチル
フエニル)ピペラジニル)プロポキシ}−3,
4−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−
位脱水素体 Γ1−ベンジル−6−{2−ヒドロキシ−3−〔4
−(3−メチルフエニル)ピペラジニル〕プロ
ポキシ}−3,4−ジヒドロカルボスチリル及
びその3,4−位脱水素体 Γ8−{2−ヒドロキシ−3−〔4−(4−メチル
フエニル)ピペラジニル〕プロポキシ}−3,
4−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−
位脱水素体 Γ1−メチル−5−{2−ヒドロキシ−3−〔4−
(4−エチルフエニル)ピペラジニル〕プロポ
キシ}−3,4−ジヒドロカルボスチリル及び
その3,4−位脱水素体 Γ6−{2−ヒドロキシ−3−〔4−(2−プロピ
ルフエニル)ピペラジニル〕プロポキシ}−3,
4−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−
位脱水素体 Γ5−{2−ヒドロキシ−3−〔4−(2−メトキ
シフエニル)ピペラジニル〕プロポキシ}−3,
4−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−
位脱水素体 Γ1−メチル−6−{2−ヒドロキシ−3−〔4−
(3−メトキシフエニル)ピペラジニル〕プロ
ポキシ}−3,4−ジヒドロカルボスチリル及
びその3,4−位脱水素体 Γ7−{2−ヒドロキシ−3−〔4−(4−メトキ
シフエニル〕ピペラジニル〕プロポキシ}−3,
4−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−
位脱水素体 Γ1−ベンジル−5−{2−ヒドロキシ−3−〔4
−(4−プロポキシルフエニル)ピペラジニル〕
プロポキシ}−3,4−ジヒドロカルボスチリ
ル及びその3,4−位脱水素体 Γ6−{2−ヒドロキシ−3−〔4−(2−エトキ
シフエニル〕ピペラジニル〕プロポキシ}−3,
4−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−
位脱水素体 Γ8−クロル−5−{2−ヒドロキシ−3−〔4−
(4−クロルフエニル)ピペラジニル〕プロポ
キシ}−3,4−ジヒドロカルボスチリル及び
その3,4−位脱水素体 Γ1−メチル−6−クロル−7−{2−ヒドロキ
シ−3−〔4−(4−クロルフエニル)ピペラジ
ニル〕プロポキシ}−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ1−ベンジル−6,8−ジクロル−5−{2−
ヒドロキシ−3−〔4−(2−ブロムフエニル)
ピペラジニル〕プロポキシ}−3,4−ジヒド
ロカルボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ1−アリル−6−クロル−7−{2−ヒドロキ
シ−3−〔4−(4−メトキシフエニル)ピペラ
ジニル〕プロポキシ}−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ6−クロル−5−{2−ヒドロキシ−3−〔4−
(4−メチルフエニル)ピペラジニル〕プロポ
キシ}−3,4−ジヒドロカルボスチリル及び
その3,4−位脱水素体 Γ6,8−ジブロム−5−{2−ヒドロキシ−3
−〔4−(4−メチルフエニル)ピペラジニル〕
プロポキシ}−3,4−ジヒドロカルボスチリ
ル及びその3,4−位脱水素体 Γ5−(4−フエニルピペラジニルメトキシ)−
3,4−ジヒドロカルボスチリル及びその3,
4−位脱水素体 Γ5−〔2−(4−フエニルピペラジニル)エトキ
シ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル及びそ
の3,4−位脱水素体 Γ6−〔2−(4−フエニルピペラジニル)エトキ
シ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル及びそ
の3,4−位脱水素体 Γ7−〔2−(4−フエニルピペラジニル)エトキ
シ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル及びそ
の3,4−位脱水素体 Γ8−〔2−(4−フエニルピペラジニル)エトキ
シ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル及びそ
の3,4−位脱水素体 Γ5−〔3−(4−フエニルピペラジニル)プロポ
キシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル及び
その3,4−位脱水素体 Γ6−〔3−(4−フエニルピペラジニル)プロポ
キシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル及び
その3,4−位脱水素体 Γ7−〔3−(4−フエニルピペラジニル)プロポ
キシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル及び
その3,4−位脱水素体 Γ6−〔7−(4−フエニルピペラジニル)ヘプチ
ルオキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル
及びその3,4−位脱水素体 Γ8−〔3−(4−フエニルピペラジニル)プロポ
キシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル及び
その3,4−位脱水素体 Γ5−〔4−(4−フエニルピペラジニル)ブトキ
シ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル及びそ
の3,4−位脱水素体 Γ7−〔4−(4−フエニルピペラジニル)ブトキ
シ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル及びそ
の3,4−位脱水素体 Γ6−〔5−(4−フエニルピペラジニル)ペンチ
ルオキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル
及びその3,4−位脱水素体 Γ8−〔5−(4−フエニルピペラジニル)ペンチ
ルオキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル
及びその3,4−位脱水素体 Γ5−〔6−(4−フエニルピペラジニル)ヘキシ
ルオキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル
及びその3,4−位脱水素体 Γ7−〔6−(4−フエニルピペラジニル)ヘキシ
ルオキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル
及びその3,4−位脱水素体 Γ1−メチル−5−〔2−(4−フエニルピペラジ
ニル)エトキシ〕−3,4−ジヒドロカルボス
チリル及びその3,4−位脱水素体 Γ1−メチル−6−〔3−(4−フエニルピペラジ
ニル)プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ1−ブチル−5−〔4−(4−フエニルピペラジ
ニル)ブトキシ〕−3,4−ジヒドロカルボス
チリル及びその3,4−位脱水素体 Γ1−メチル−7−〔3−(4−フエニルピペラジ
ニル)プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ1−プロピル−8−〔2−(4−フエニルピペラ
ジニル)エトキシ〕−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ1−ヘキシル−6−〔3−(4−フエニルピペラ
ジニル)プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ1−アリル−5−〔3−(4−フエニルピペラジ
ニル)プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ1−アリル−6−〔3−(4−フエニルピペラジ
ニル)プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ1−(1−メチルアリル)−7−〔3−(4−フエ
ニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,4−ジ
ヒドロカルボスチリル及びその3,4−位脱水
素体 Γ1−ベンジル−5−〔2−(4−フエニルピペラ
ジニル)エトキシ〕−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ1−(2−フエニルエチル)−6−〔3−(4−フ
エニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,4−
ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位脱
水素体 Γ1−(4−フエニルブチル)−5−〔3−(4−フ
エニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,4−
ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位脱
水素体 Γ1−ベンジル−7−〔3−(4−フエニルピペラ
ジニル)プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ1−ベンジル−8−〔3−(4−フエニルピペラ
ジニル)プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ5−{3−〔4−(2−メトキシフエニル)ピペ
ラジニル〕プロポキシ}−3,4−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ6−{2−〔4−(4−プロポキシフエニル)ピ
ペラジニル〕エトキシ}−3,4−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ5−{3−〔4−(3−メチルフエニル)ピペラ
ジニル〕プロポキシ}−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ6−{3−〔4−(4−メチルフエニル)ピペラ
ジニル〕プロポキシ}−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ7−{2−〔4−(4−プロピルフエニル)ピペ
ラジニル〕エトキシ}−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ5−{3−〔4−(4−クロルフエニル)ピペラ
ジニル〕プロポキシ}−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ6−{3−〔4−(4−ブロムフエニル)ピペラ
ジニル〕プロポキシ}−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ7−{2−〔4−(2−クロルフエニル)ピペラ
ジニル〕エトキシ}−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ8−{3−〔4−(3−クロルフエニル)ピペラ
ジニル〕プロポキシ}−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ1−メチル−5−{3−〔4−(4−クロルフエ
ニル)ピペラジニル〕プロポキシ}−3,4−
ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位脱
水素体 Γ1−ベンジル−6−{2−〔2−(4−ブロムフ
エニル)ピペラジニル〕エトキシ}−3,4−
ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位脱
水素体 Γ1−アリル−7−{4−〔4−(4−ブロムフエ
ニル)ピペラジニル〕ブトキシ}−3,4−ジ
ヒドロカルボスチリル及びその3,4−位脱水
素体 Γ1−メチル−6−{3−〔4−(4−メチルフエ
ニル)ピペラジニル〕プロポキシ}−3,4−
ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位脱
水素体 Γ1−ベンジル−5−{3−〔4−(2−メチルフ
エニル)ピペラジニル〕プロポキシ}−3,4
−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位
脱水素体 Γ1−メチル−7−{3−〔4−(4−メトキシフ
エニル)ピペラジニル〕プロポキシ}−3,4
−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位
脱水素体 Γ1−ベンジル−5−{3−〔4−(4−メトキシ
フエニル)ピペラジニル〕プロポキシ}−3,
4−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−
位脱水素体 Γ8−クロル−5−{3−〔4−(4−クロルフエ
ニル)ピペラジニル〕プロポキシ}−3,4−
ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位脱
水素体 Γ8−ブロム−5−〔3−(4−フエニルピペラジ
ニル)プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ1−メチル−5−ブロム−6−〔2−(4−フエ
ニルピペラジニル)エトキシ〕−3,4−ジヒ
ドロカルボスチリル及びその3,4−位脱水素
体 Γ6−フロル−7−〔3−(4−フエニルピペラジ
ニル)プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ6−クロル−5−〔2−(4−フエニルピペラジ
ニル〕エトキシ〕−3,4−ジヒドロカルボス
チリル及びその3,4−位脱水素体 Γ1−ベンジル−5−クロル−8−〔3−(4−フ
エニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,4−
ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位脱
水素体 Γ6,8−ジクロル−5−〔2−(4−フエニルピ
ペラジニル)エトキシ〕−3,4−ジヒドロカ
ルボスチリル及びその3,4−位脱水素体 Γ6−クロル−8−ブロム−7−〔3−(4−フエ
ニルピペラジニル)プロポキシ〕−3,4−ジ
ヒドロカルボスチリル及びその3,4−位脱水
素体 Γ1−メチル−5,6−ジブロム−8−〔2−(4
−フエニルピペラジニル)エトキシ〕−3,4
−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位
脱水素体 Γ8−クロル−5−{3−〔4−(4−クロルフエ
ニル)ピペラジニル〕プロポキシ}−3,4−
ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−位脱
水素体 Γ1−メチル−6−クロル−7−{2−〔4−(4
−クロルフエニル)ピペラジニル〕エトキシ}
−3,4−ジヒドロカルボスチリル及びその
3,4−位脱水素体 Γ1−ベンジル−6,8−ジクロル−5−{2−
〔4−(2−ブロムフエニル)ピペラジニル〕エ
トキシ}−3,4−ジヒドロカルボスチリル及
びその3,4−位脱水素体 Γ6−クロル−5−{4−〔4−(4−メチルフエ
ニル)ピペラジニル〕ブトキシ}−3,4−ジ
ヒドロカルボスチリル及びその3,4−位脱水
素体 Γ1−アリル−6−クロル−7−{2−〔4−(4
−メトキシフエニル)ピペラジニル〕エトキ
シ}−3,4−ジヒドロカルボスチリル及びそ
の3,4−位脱水素体 Γ6,8−ジブロム−5−{3−〔4−(4−メチ
ルフエニル)ピペラジニル〕プロポキシ}−3,
4−ジヒドロカルボスチリル及びその3,4−
位脱水素体 本発明化合物は下記反応行程式−1に示す如く
して製造できる。 〈反応行程式 1〉 (式中R1,R2,R3,X,l,m,n、カルボ
スチリル骨格の3位と4位の炭素間結合は前記に
同じ) 即ち一般式〔〕で表わされるヒドロキシカル
ボスチリル誘導体に一般式〔〕で表わされる公
知のハロゲノアルキルピペラジン誘導体を反応さ
せることにより、本発明化合物を製造できる。上
記方法における反応は、好ましくは塩基性化合物
を脱ハロゲン化水素剤とし、適当な溶媒中室温〜
200℃好ましくは50〜150℃で数時間〜15時間内に
行なわれる。上記において適当な溶媒としては、
例えばメタノール、エタノール、イソプロパノー
ル等の低級アルコール類、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン類、ジオキサン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル等のエーテル類、ト
ルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等を例示
できる。また脱ハロゲン化水素剤として利用でき
る塩基性化合物としては、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエト
キサイド、カリウムエトキサイド、水素化ナトリ
ウム、金属カリウム、ナトリウムアミド、ピリジ
ン、キノリン、トリエチルアミン、トリプロピル
アミン等の第三級アミン類等を例示できる。上記
反応においてはまた反応促進剤として沃化カリウ
ム、沃化ナトリウム等の沃化アルカリ金属化合物
を使用することもできる。一般式〔〕で表わさ
れる化合物と一般式〔〕で表わされる化合物と
の使用割合は特に制限はないが、前者1モル当り
後者を1モル以上通常は1〜5モル好ましくは1
〜1.2モル程度用いるのがよい。かくして本発明
において目的とする一般式〔〕で表わされる化
合物が収得される。 上記において出発原料とする一般式〔〕で表
わされる化合物は、例えば下記反応行程式−2に
示す方法に従い容易に製造できる。 〈反応行程式 2〉 (式中R1,X及びカルボスチリル骨格の3位
と4位の炭素間結合は前記に同じ。R4は低級ア
ルキル基又は低級アルカノイル基及びn′は1又は
2を示す) 即ち一般式〔a〕で表わされるヒドロキシカ
ルボスチリル類にハロゲン化剤を反応させるか、
又は一般式〔a〕で表わされるアルコキシ又は
アルカノイルオキシカルボスチリル類にハロゲン
化剤を反応させて得られる化合物〔b〕を加水
分解することによつて、出発原料とする一般式
〔〕で表わされる化合物を収得できる。上記に
おけるハロゲン化反応は公知のハロゲン化剤、例
えば弗素、塩素、臭素、沃素、二弗化キセノン、
塩化スルフリル、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩
素酸、次亜臭素酸、さらし粉、塩化沃素等を用い
て行ない得る。ハロゲン化剤用量は原料化合物に
導入するハロゲン原子の数に応じて適宜に決定で
きる。例えばハロゲン原子1個を導入する時に
は、原料化合物に対し通常等モル〜過剰量、好ま
しくは等モル〜1.5倍モルを、ハロゲン原子2個
を導入する時には2倍モル〜大過剰量好ましくは
2〜3倍モルを夫々使用すればよい。上記反応は
通常適当な溶媒例えば水、メタノール、エタノー
ル、クロロホルム、四塩化炭素、酢酸等又は之等
の混合溶媒中で行なうのがよい。反応温度は特に
限定されず適宜選択され、通常−20〜100℃程度、
好ましくは0℃〜室温とされる。反応は約30分〜
20時間の範囲内に完結する。 また上記一般式〔b〕で表わされる化合物の
加水分解反応は、該化合物〔b〕のR4の種類
により若干異なり、例えばR4が低級アルカノイ
ル基である場合は、通常のエステル加水分解反応
条件下に行ない得る。具体的には例えば水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、炭
酸ナトリウム、炭酸水素カリウム等の塩基性化合
物、硫酸、塩酸等の鉱酸、酢酸、芳香族スルホン
酸等の有機酸の存在下に通常の不活性溶媒例えば
水、メタノール、エタノール、アセトン、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ベンゼン等の溶媒中
で実施できる。反応温度は通常室温〜150℃好ま
しくは50〜100℃とすればよく、反応は1〜12時
間で完結する。また上記R4が低級アルキル基で
ある場合その加水分解反応条件は通常のエーテル
加水分解反応条件と同様のものとすればよい。具
体的には例えば塩化アルミニウム、三弗化硼素、
三臭化硼素、臭化水素酸等を溶媒として、例えば
水、メタノール、エタノール、ベンゼン、塩化メ
チレン、クロロホルム等の溶媒中0〜200℃好ま
しくは室温〜120℃で数時間〜12時間程度反応さ
せればよい。いずれの加水分解反応においても、
使用される触媒の量は特に限定されず、通常原料
化合物に対し過剰量とすればよい。 尚前記反応行程式−2において原料とする一般
式〔a〕又は〔a〕で表わされる化合物中
R1が低級アルキル基を示すものには新規化合物
が包含される。該化合物はR1が水素原子である
公知のヒドロキシカルボスチリルを原料として之
にアルキルハライドを塩基性化合物例えばナトリ
ウム、カリウム等のアルカリ金属原子、ナトリウ
ムアミド、カリウムアミド等のアルカリ金属アミ
ド、水素化ナトリウム等の存在下、適当な溶媒中
例えばベンゼン、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメチルスルホキサイド、ジメチルホルムア
ミド等の溶媒中で、0℃〜70℃好ましくは0℃〜
室温下に約30分〜12時間反応させて後、得られる
化合物を前記反応行程式−2に示す一般式〔
a〕で表わされる化合物の加水分解反応と同様の
条件下に加水分解することにより容易に製造でき
る。上記反応において原料化合物に対する塩基性
化合物及びアルキルハライドの使用割合は適当に
決定できるが通常夫々2〜10倍モル好ましくは2
〜4倍モルとするのがよい。 更に本発明の一般式〔〕で表わされるカルボ
スチリル誘導体のうちnが0のものは、前述した
方法に準じてこれにハロゲン化剤を反応させるこ
とによりnが1又は2である一般式〔〕で表わ
される本発明化合物に変換することができ、また
カルボスチリル骨格の3,4−位の結合が一重結
合である本発明化合物はこれを脱水素反応するこ
とにより上記結合が二重結合である本発明化合物
に変換できる。更にnが1又は2であり且つカル
ボスチリル骨格の3,4−位の結合が二重結合で
ある本発明化合物は、これを還元することにより
nが0でかつ上記3,4−位の結合が一重結合で
ある本発明化合物に変換できる。更にまたR1
水素原子を示す本発明化合物は、これに低級アル
キルハロゲン、低級アルケニルハロゲン又はフエ
ニルアルキルハロゲンを反応させることによつ
て、上記R1が夫々低級アルキル基、低級アルケ
ニル基又はフエニルアルキル基に変換された本発
明化合物とすることもできる。 本発明の一般式〔〕で表わされるカルボスチ
リル誘導体は、医薬的に許容される酸を作用させ
ることにより容易に酸付加塩とすることができ
る。該酸としては例えば、塩酸、硫酸、リン酸、
臭化水素酸等の無機酸、シユウ酸、マレイン酸、
フマール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、安息
香酸等の有機酸を挙げることができる。かくして
得られる各々の行程での目的化合物は、通常の分
離手段により容易に単離精製することができる。
該分離手段としては、例えば溶媒抽出法、稀釈
法、再結晶法、カラムクロマトグラフイー、プレ
パラテイブ薄層クロマトグラフイー等を例示でき
る。 尚本発明は光学異性体も当然に包含するもので
ある。 実施例 以下に本発明を更に説明するために参考例及び
実施例を挙げるが本発明はこれ等に限定されるも
のではない。 参考例 1 5−アセチルオキシ−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル20.5gを酢酸200mlに溶解し、この溶液
に撹拌水冷下、臭素16gの酢酸60ml溶液を30分で
滴下し、同温度で2時間反応する。この反応液に
水300mlを加え3時間放置し、析出結晶を取し、
メタノールから再結晶して、融点237〜239%の無
色針状結晶の8−ブロム−5−アセチルオキシ−
3,4−ジヒドロカルボスチリル21gを得る。 かくして得られた8−ブロム−5−アセチルオ
キシ−3,4−ジヒドロカルボスチリル21gを
8N−塩酸150mlに分散し、3時間加熱還流ののち
冷却し、不溶解物を取し、水洗、乾燥し、メタ
ノール−水から再結晶して、融点212〜213℃の無
色針状結晶の8−ブロム−5−ヒドロキシ−3,
4−ジヒドロカルボスチリル14gを得る。 参考例 2 5−ヒドロキシ−3,4−ジヒドロカルボスチ
リル16.4gを酢酸300mlに溶解し室温撹拌下に、
塩素7gを含む酢酸50ml溶液を滴下し、3時間撹
拌する。この反応液を水500ml中に投入し、1時
間放置し析出物を取し水洗乾燥し、エタノール
−水から再結晶して、融点209〜210℃の無色針状
結晶の6−クロル−5−ヒドロキシ−3,4−ジ
ヒドロカルボスチリル13.5gを得る。 参考例 3 5−ヒドロキシ−3,4−ジヒドロカルボスチ
リル16.4gを酢酸300mlに溶解し室温撹拌下に、
塩素14gを含む酢酸80ml溶液を滴下し、3時間反
応する。以下参考例2と同様な操作を行ない粗結
晶をメタノールから再結晶して、融点259〜260℃
の無色針状結晶の6,8−ジクロル−5−ヒドロ
キシ−3,4−ジヒドロカルボスチリル16gを得
る。 参考例 4 7−メトキシ−3,4−ジヒドロカルボスチリ
ル35.4gを酢酸300mlに溶解し、撹拌水冷下に塩
化スルフリル27gの酢酸100ml溶液を滴下し、一
夜放置する。反応液を氷水1に投入し析出物を
取し水洗乾燥後メタノールより再結晶して、融
点212℃の無色針状結晶の6−クロル−7−メト
キシ−3,4−ジヒドロカルボスチリル30gを得
る。 かくして得られる6−クロル−7−メトキシ−
3,4−ジヒドロカルボスチリル30gを47%臭化
水素酸水溶液300mlに分散し4時間加熱還硫する。
冷却後不溶物を取し水洗乾燥し、メタノール−
クロロホルムから再結晶して、融点264〜266℃の
無色針状結晶の6−クロル−7−ヒドロキシ−
3,4−ジヒドロカルボスチリル25gを得る。 参考例 5 8−メトキシ−3,4−ジヒドロカルボスチリ
ル35gを酢酸200mlに溶解し撹拌冷却下に塩素16
gの酢酸100ml溶液を滴下し一夜放置する。反応
液に水1に投入し析出物を取し水洗乾燥後ク
ロロホルムより再結晶して融点201〜202℃の淡赤
色針状結晶の5,6−ジクロル−8−メトキシ−
3,4−ジヒドロカルボスチリル42gを得る。 かくして得られる5,6−ジクロル−8−メト
キシ−3,4−ジヒドロカルボスチリル42gを47
%臭化水素酸水溶液500mlに分散し4時間加熱還
流したのち、冷却し不溶物を取し水洗乾燥す
る。粗結晶をメタノールから再結晶して、融点
233〜235℃の無色針状結晶の5,6−ジクロル−
8−ヒドロキシ−3,4−ジヒドロカルボスチリ
ル29gを得る。 参考例 6 上記参考例5と同様にして、8−ブロム−5−
ヒドロキシカルボスチリルを得る。 無色針状晶(再結晶溶媒メタノール)、融点
266〜267℃(分解) 参考例 7 8−ブロム−5−メトキシ−3,4−ジヒドロ
カルボスチリル22.7g及び塩化第一銅25gをジメ
チルスルホキサイド100mlに混和し、撹拌下135〜
140℃で4時間加熱する。反応終了後反応液を氷
200g及び濃塩酸50mlに投入し1時間室温で撹拌
して析出晶を取、稀塩酸で洗い、次いで水洗乾
燥する。粗結晶をリグロイン−ベンゼンから再結
晶して、融点165℃の淡橙色針状結晶の8−クロ
ル−5−メトキシ−3,4−ジヒドロカルボスチ
リル13gを得る。 かくして得られる8−クロル−5−メトキシ−
3,4−ジヒドロカルボスチリル13g及び塩化ア
ルミニウム35gをベンゼン30mlに分散し、2時間
加熱還流する。反応液を氷水中に投入し、析出物
を取し水洗乾燥後、イソプロパノールより再結
晶して、融点206〜207℃の無色針状結晶の8−ク
ロル−5−ヒドロキシ−3,4−ジヒドロカルボ
スチリル8gを得る。 実施例 1 1−ベンジル−5−ヒドロキシ−3,4−ジヒ
ドロ−カルボスチリル2.5g及び50%水素化ナト
リウム0.48gをジメチルホルムアミド30mlに加え
撹拌したのち、1−クロロ−3−(4−フエニル
ピペラジニル)プロパン4gを加え50〜60℃で
2.5時間反応する。反応液を減圧濃縮し、残留物
をクロロホルムで抽出する。蒸留によりクロロホ
ルムを除去した後、粗結晶をリグロインから再結
晶して、融点113℃の淡黄色針状結晶の1−ベン
ジル−5−〔3−(4−フエニルピペラジニル)−
プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリル
2.1gを得る。 上記実施例1と同様にして下記実施例2〜13の
各化合物を得る。
【表】 トキシ〕−3,4−ジ パノール)
ヒドロカルボスチリル
【表】 シ}−3,4−ジヒド ル)
ロカルボスチリル
実施例 14 1−メチル−5−ヒドロキシ−3,4−ジヒド
ロ−カルボスチリル1.8g及び水素化ナトリウム
(50%油中)1gをジメチルホルムアミド30mlに
混和し、1−クロロ−2−ヒドロキシ−3−(4
−フエニルピペラジニル)プロパン2.6gを室温
にて加え70〜80℃で3時間撹拌する。反応液を水
の中へ注ぎ、有機層をクロロホルムで抽出する。
クロロホルムを減圧下に留去し、残渣をアセトン
に溶解する。この溶液中に蓚酸を含むアセトン溶
液を加えPH調整し、析出物を取、メタノール−
アセトンから再結晶して、融点220〜221℃(分
解)の無色不定形結晶の1−メチル−5−〔2−
ヒドロキシ−3−(4−フエニルピペラジニル)
プロポキシ〕−3,4−ジヒドロカルボスチリ
ル・1蓚酸塩2.8gを得る。 上記実施例14と同様にして下記実施例15〜23の
各化合物を得る。
【表】 シ〕−3,4−ジヒド
ロカルボスチリル・1
塩酸塩
【表】 ドロカルボスチリル
1/2水和物

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中R1は水素原子、低級アルキル基、低級
    アルケニル基又はフエニルアルキル基及びXはハ
    ロゲン原子を示す。nは0,1又は2を示し、カ
    ルボスチリル骨格の3位及び4位の炭素間結合は
    一重結合又は二重結合を示す。〕 で表わされるヒドロキシカルボスチリル誘導体に
    一般式 〔式中R2は水素原子又は水酸基及びR3は水素
    原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又は低級ア
    ルコキシ基を示す。またl及びmは夫々0又は1
    〜6の整数を示す。但しlとmの和は6を越えて
    はならない。Xは前記に同じ。〕 で表わされるハロゲノアルキルピペラジン誘導体
    を反応させて一般式 〔式中R1,R2,R3,X,l,m,n及びカル
    ボスチリル骨格の3位と4位の炭素間結合は前記
    に同じ。〕 で表わされるカルボスチリル誘導体を得ることを
    特徴とするカルボスチリル誘導体の製造法。
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JP2900130B2 (ja) * 1995-03-16 1999-06-02 大塚製薬株式会社 カルボスチリル誘導体及び該誘導体を含有する精神分裂病治療剤
US7053092B2 (en) 2001-01-29 2006-05-30 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. 5-HT1a receptor subtype agonist
AR033485A1 (es) 2001-09-25 2003-12-26 Otsuka Pharma Co Ltd Sustancia medicinal de aripiprazol de baja higroscopicidad y proceso para la preparacion de la misma

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