JPS6354331A - 1,1−ジフルオロシクロヘキサンの製造方法 - Google Patents

1,1−ジフルオロシクロヘキサンの製造方法

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JPS6354331A JP19810386A JP19810386A JPS6354331A JP S6354331 A JPS6354331 A JP S6354331A JP 19810386 A JP19810386 A JP 19810386A JP 19810386 A JP19810386 A JP 19810386A JP S6354331 A JPS6354331 A JP S6354331A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 発明BAIIi″1.1−ジフルオロシクロヘキサンの
製造方法に関する。さらに詳しくはシクロヘキサノンヲ
原料として1.1−ジフルオロシクロヘキサンを高収率
で製造する方法に関する。
〔従来の技術〕
従来i、i−ジフルオロシクロヘキサンハシクロヘキサ
ノンと四フッ化イオウとの反応(ジャーナル・オプ・オ
ーガニック・ケミストリー、36巻、818頁(197
1ン)や、シクロヘキサノンと六フッ化モリブデンとの
反応(テトラヘドロン、27巻、6965頁(1971
))、あるいは1−クロロシクロヘキセンとフッ化水素
との反応(ヘルベチカ・ヒミカ・アクタ、46巻、18
18頁(1963))によって合成されている。
〔本発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら従来の方法にはいくつかの欠点があった。
例えば、四フッ化イオウや六フッ化モリブデン金用いる
方法では、これらのフッ素化試剤の合成が極めて厳しい
反応条件を必要とし工業的に実施することが困難である
。例えは四7ツ化イオウの製造は通常、ハステロイCの
オートクレープヘイオウとフッ化ナトリウムと塩素を仕
込んだ後に長時間高温(最終的には225〜250°C
)に保った後に反応混合物を低温で蒸留して生成物であ
る四フッ化イオウ(沸点−40°C)を得ている。(ジ
ャーナル・オシ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエテ
ィー、82巻、539頁(1960))また、これらの
フッ素化試剤では含有されるフッ素原子のうち実際にシ
クロヘキサン環に導入されるものは半分以下にすぎない
。四フッ化イオウとシクロヘキサノンの反応を例にとれ
ば次式に示すように 四7ツ化イオウはシクロヘキサノンのフッ素化によジフ
ツ化チオニルへ転化するが、このものはもはやフッ素化
反応の活性をもっていない。工業的に1.1−ジフルオ
ロシクロヘキサンを製造する場合には、高価なフッ素原
子全回収することが必要であり、従って前出のフッ化チ
オニルから原料である四フッ化イオウを再び合成せねば
なら々い。
しかしそのためには、7ツ化チオニルをアルカリ加水分
解することによりアルカリ金属フッ化物全製造した後に
前述の四フッ化イオウ製造工程の原料の一部とするとい
う極めて複雑な回収工程を必要とする。六フッ化モリブ
デンとシクロヘキサノンの反応によシ1.1−ジフルオ
ロシクロヘキサンを製造する場合にも同様に複雑な回収
工程を必要とし、回収工程によp生成するアルカリ金属
フッ化物の量は四フッ化イオウの場合よりもさらに多い
。また四フッ化イオウ會用いる反応では耐圧反応容器を
必要とし、六フッ化モリブデンを用いる方法では重金属
であるモリブデンの回収が問題である。
1.1−ジフルオロシクロヘキサンを製造する従来技術
の他の一つは1−クロロシクロヘキセンとフッ化水素と
の反応により行なうものであり比較的温和な反応条件に
より反応が進行するが、収率は良くない。また原料とし
て用いる1−クロロシクロヘキセンは通常、高価な塩素
化試剤である五塩化リンとシクロヘキサノンから製造さ
れるため、工業的には行ない難い。
〔問題点を解決するだめの手段〕
本発明者らはシクロヘキサンヲ原料として1.1−ジフ
ルオロシクロヘキサンを製造する方法に関して鋭意研究
tXねた結果、アシラール化工程、フッ素化工程、及び
トリフルオロ酢酸回収工程を組合わせることにより、目
的とする1、1−ジフルオロシクロヘキサンを高収率・
高選択率で製造できることを見出し、本発明を完成する
に至った。
すなわち、本発明はシクロヘキサノンから1゜1−ジフ
ルオロシクロヘキサンを製造するに当り、(■)シクロ
ヘキサノンにトリフルオロ酢酸無水物を反応させること
によジ1.1−ビス(トリフルオロアセトキシ)シクロ
ヘキサンを得るアシラール化工程、 (lD  該1.1−ビス(トリフルオロアセトキシ)
シクロヘキサンにフッ化水素を反応させることにより1
.1−ジフルオロシクロヘキサンとトリフルオロ酢酸を
得るフッ素化工程、 及び (1)  前記(II)において生成したトリフルオロ
酢酸に脱水剤に反応させることによりトリフルオロ酢酸
無水物を得るトリフルオロ酢酸回収工程を包含すること
を特徴とする1、1−ジフルオロシクロヘキサンの製造
方法を提供するものである。
本発明におけるアシラール化工程は式(1)で示される
ようにシクロヘキサノンにトリフルオロ酢酸無水物を反
応させることによる1、1−ビス(トリフルオロア七ト
キシ)シクロヘキサンの製造方法からなっている。
本アシラール化工程は無溶媒で行なうこともできるが、
反応に悪影響を及ぼさない溶媒音用いることもできる。
例えは、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ビフ
ェニルエーテルナトのエーテル類:二硫化炭素:塩化メ
チレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、
トリクロロエタン、テトラクロロエタンなどのハロゲン
化炭化水素類;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ブ
ロモベンゼン、クロロナフタレンなどのハロダン化芳香
族炭化水素類:ニトロベンゼン、ニトロトルエン、ニト
ロメタンなどのニトロ化合物類;ヘキサン等の脂肪族炭
化水素類;シクロヘキサン等の脂環式炭化水素類などが
使用される。
アシラール化工程において原料として用いるシクロヘキ
サノンは、どのような方法によって製造されたものであ
ってもよい。
アシラール化工程において原料として用いるシクロヘキ
サノンとトリフルオロ酢酸無水物の量比はシクロヘキサ
ノンに対するトリフルオロ酢酸無水物のモル比で表わす
と、通常0.01〜100、好ましくは0.1〜50が
用いられる。
また、触媒を添加することも良い。触媒としては例えば
、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸等のカルボン酸、
三フッ化ホウ素等のルイス酸、パラトルエンスルホン酸
、メタンスルホン酸、)IJフルオロメタンスルホン酸
等の有機スルホン酸、硫酸等の鉱酸など全使用すること
ができる。
アシラール化工程全行なう場合の反応温度及び反応時間
は原料の量比や、溶媒の有無によって異なるが、通常−
40〜250’C,5分〜500時間であジ、好ましく
は0〜150℃、10分〜200時間である。
本発明におけるフッ素化工程は式(2)で示されるよう
に1,1−ビス(トリフルオロアセトキシ)シクロヘキ
サンにフッ化水素を反応させることによるl、1−ジフ
ルオロシクロヘキサンの製造方法からなっている。
フッ素化工程は上式に示すように、1.1−ビス(トリ
フルオロアセトキシ)シクロヘキサン1モルが、2モル
のフッ化水素と反応することにより’+、1−ジフルオ
ロシクロヘキサン1モルトトリフルオロ酢酸2モルと全
生成する。反応生成物である1、1−ジフルオロシクロ
ヘキサンとトリフルオロ酢酸は蒸留等の通常の分離操作
により簡単に精製することができる。
フッ素化工程において使用されるフッ化水素とは、フッ
化水素全含有するものであればどのような組成のもので
もよい。通常はフッ化水素あるいはフッ化水素とアミン
の混合物が用いられ、好ましくは無水フッ化水素あるい
は無水フッ化水素とアミンの混合物が用いられる。
フッ素化工程において使用されるフッ化水素は通常水含
有量が103IC量チ以下、好ましくは3重量%以下、
さらに好ましくは1mfik%以下のものが使用される
フッ素化工程でフッ化水素と混合して用いることのでき
るアミンとしてはメチルアミン、エチルアミン、プロぎ
ルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミ〉・、シク
ロヘキシルアミン等の脂肪族−級アミン類;ジメチルア
ミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロ
ピルアミン、ジブチルアミン、モルホリン、ピペリジン
、ぜペラジン、ジシクロヘキシルアミン等の脂肪族二級
アミン類;トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ
ゾロぎルアミン、トリブチルアミン、トリシクロヘキシ
ルアミン、1.4−シアずビシクロ〔2゜2.2〕オク
タン(DABCO)等の脂肪族三級アミン;アニリン、
ジフェニルアミン、トリフェニルアミン等の芳香族アミ
ン類;ぎリジン、2−ピコリン、6−ピコリン、4−ピ
コリン、キノリン、メチルキノリン類、メラミン等の含
窒素芳香族化合物などがあげられる。特にブチルアミン
、シクロヘキシルアミン、ジエチルアミン、ジグチルア
ミン、トリエスルアミン、トリブチルアミン、アニリン
、ピリジン、ピコリン類、メラミンが好ましく用いられ
る。
フッ素化工程において使用することのできる7ツ化水素
−アミン混合物とは前述のフッ化水素とアミン金混合し
たもの金指すが、その組成はアミンに対するフッ化水素
分子のモル比で表わして、通常0.1〜100、好まし
くは1〜50のものが用いられる。
フッ素化工程においては反応速度金玉げる目的で酸全触
媒として添加することも好ましい方法である。このよう
な酸としては、ギ酸、フルオロ酢酸、ジフルオロ酢酸、
トリフルオロ酢酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリク
ロロ酢酸等のカルボン徹類;メタンスルホン酸、トリフ
ルオロメタンスルホン酸、トリクロロメタンスルホン酸
、パラトルエンスルホン酸等のスルホン酸類;塩酸、m
酸等の鉱酸類;三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、フ
ッ化アルミニウム、三塩化チタン、四塩化チタン、三塩
化鉄、三フッ化鉄等のルイス酸類などが挙げられる。フ
ッ素化工程では反応が進行するにつれて副生物としてト
リフルオロ酢酸が生成してくるため、トリフルオロ酢酸
を酸触媒として使用することは反応混合物の分IRI容
易にするため特に好ましい。また副生じて(るトリフル
オロ酢酸も触媒として作用するため、添加する酸触媒の
量も少なくてよい。
フッ素化工程においてはまたフッ化セシウム、フッ化ル
ビジウム、フッ化カリウム、フッ化ナトリウム等の金属
フッ化物を添加することもできる。
フッ素化工程は無溶媒で行なうこともできる力ζ反応に
悪影響を及ぼさない溶媒を用いることもできる。例えば
、ジエチルエーテル、テトラヒドロ7ラン、ビフェニル
エーテルナトノエーテル類;塩化メチレン、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタン、
テトラクロロエタン、フロン類などのハロゲン化炭化水
素類;クロロベンゼン、ジクロロベンゼンナトのハロゲ
ン化芳香族炭化水素類;ヘキサン、オクタン、デカン等
の脂肪族炭化水素類:ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類;シクロヘキサン等の脂環式炭化水
素類などが使用される。
フッ素化工程において使用される1、1−ビス(トリフ
ルオロアセトキシ)シクロヘキサンと、フッ化水素との
量比は、フッ化水素分子の1.1−ビス(トリフルオロ
アセトキシクシクロヘキサンに対するモル比で表わして
、通常0.1〜2000、好ましくは2〜1000が用
いられる。
フッ素化工程において酸触媒を添加する場合、その量は
使用する酸触媒の酸性度によっても変わるが、使用する
酸触媒の1.1−ビス(トリフルオロアセトキシ)シク
ロヘキサンに対するモル比で表わして、通常0.000
1〜1、好ましくは0.001〜0.1で充分である。
フッ素化工程を行なう場合の反応温度及び反応時間は用
いる原料と7ツ化水素の量比、触媒の有無及び種類、溶
媒の有無などにより異なるが、通常−76℃〜150℃
、5分〜100時間であり、好ましくは一40°C〜1
00℃、5分〜50時間である。
本発明におけるトリフルオロ酢酸回収工程は、前記フッ
素化工程において生成するトリフルオロ酢酸に脱水剤を
反応させることによってトリフルオロ酢酸無水物を得る
ことからなっている。
トリフルオロ酢酸回収工程において用いられる脱水剤は
、トリフルオロ酢酸を脱水してトリフルオロ酢酸無水物
を生成し得るものであれば良く、物にその種類を規定す
るものではなく、無水酢酸、ジシクロへキシルカーポジ
イミド、メトキシアセチレン、五酸リンなどを用いるこ
とができる。五酸化リンの場合には、脱水後はリン酸と
して回収することができるため特に好ましい。
トリフルオロ酢酸回収工程において使用されるトリフル
オロ酢酸と脱水剤の量比は、使用する脱水剤の脱水能や
、脱水条件によっても変り得る。
ここで脱水能を、トリフルオロ酢酸2分子がら水1分子
を脱水するのに必要な脱水剤のモル数と定義し、これを
脱水当量と呼ぶことにする。本トリフルオロ酢酸回収工
程において使用されるトリフルオロ酢酸と脱水剤の脱水
当量との比は、トリフルフルオロ酢酸に対する脱水剤の
脱水当量の比の値で表わして通常0.1〜100が使用
されるが、トリフルオロ酢酸回収効率を良好とするため
には上記の比を高くすることが好ましく、また経済的な
点から、あまり大きな比は好ましくない、従って好まし
くは上記の比の値が1〜20の範囲が用いられる。
トリフルオロ酢酸回収工程における反応温度・時間は使
用する脱水剤の種類や量によっても変化するが、通常0
−300℃、5分〜100時間であり、好ましくは10
〜150℃、10分〜50時間である。
トリフルオロ酢酸回収工程において生成するトリフルオ
ロ酢酸無水物は蒸留等の操作により容易に反応混合物か
ら留去することができ、前記アシラール化工程の原料と
することができる。すなわちトリフルオロ酢酸無水物は
効率良く循環してくジかえし使用することができるため
、損失は少ない。また循環使用できない副生物は極めて
少量であジ経済的に好ましい。
〔発明の効果〕
本発明により、シクロヘキサノンとフッ化水素から、従
来は合成の容易でなかった1、1−ジフルオロシクロヘ
キサンを高収率・高選択率で製造することができる。
〔実施例〕
以下に実施例を示し、本発明を具体的に述べる。
実施例1 シクロヘキサノン51.6 、? (0,526モル)
とトリフルオロ酢酸無水物291.1 g(1,39モ
ル)とを、予め系内金窒素置換した反応器に入れ、25
°Cで3時間攪拌した後、25°Cで72時間靜装した
。未反応のトリフルオロ酢酸無水物全留去した後の反応
混合物を蒸留することによりシクロへキサノン2.5.
9 (0,025モル)と1.1−ビス(トリフルオロ
アセトキシ)シクロヘキサン154.9(0,50モル
)を得た。
予め系内t−窒素置換した反応器へ無水フッ化水素−ぎ
りジン混合物(フッ化水素含量70重量%)600.9
(フッ化水素を21モル含有)を入れ、−30℃まで冷
却した後、攪拌しながら1.1−ビス(トリフルオロア
セトキシ)シクロヘキサン1549 (0,50モル〕
とトリフルオロ酢酸2.679 (0,02モル)を添
加した。攪拌を行ないつつ反応温度t−30℃に2時間
保った後、除々に加温することにより1時間で20℃ま
で昇温し、さらに20℃に2時間保った。反応混合物を
精留することにより、トリフルオロ酢酸114.0 <
9(1,0モル) (!: 1 、1−ジフルオロシク
ロヘキサン58.8.9 (0,49モル)1得た。
精留塔付きの反応容器へ五酸化リン170.0.9(1
,20モルノと上記のトリフルオロ酢酸114.0、!
17 (1,0モル〕を入れ、攪拌しつつ加熱し、反応
温度を70℃に保ちながら、留出する低沸生成物全ドラ
イアイス−アセトントラップで補集した。
加熱・攪拌を5時間行なった後に留出した成分全分析し
たところ、トリフルオロ酢酸無水物102.9j;l 
(0,490モル)が生成していた。
本実施例は1.1−ジフルオロシクロヘキサンがシクロ
ヘキサノンを基単として転化率95%、選択率98%で
得られること、及びトリフルオロ酢酸無水物が、反応に
より生成するトリフルオロ酢酸から、収率98%で回収
できることを示す。
実施例2 シクロヘキサノン392.6 g(,1,00モルント
トリフルオロ酢酸無水物21009 (10,0モル)
とを、予め系内金窒素置換した反応器に入れ、25℃で
3時間攪拌した後、25°Cで72時間靜装した。未反
応のトリフルオロ酢酸無水物全留去した後の反応混合物
([)の組成はシクロヘキサノン15.79 (0,1
6モルノと1.1−ビス(トリフルオロアセトキシ)シ
クロヘキサン1183.!i’(3,84モル)とから
成っていた。
予め系内′に窒素置換した反応器へ無水フッ化水素39
00.!;’(195モル)?入れ、−60°Cまで冷
却した後、攪拌しながら、1.1−ビス(トリフルオロ
アセトキシクシクロヘキサンを含む上記の反応混合物(
I)を6≦加した。攪拌を行ないつつ温度’t−30’
Cに2時間保った後、除々に加温することにより1時間
で20℃まで昇温し、さらに20℃に4時間保った。反
応混合物全精留することにより、無水フッ化水素374
6g、トリフルオコ(fL8876&<7.68モル)
、シクロへキサノン15.0.9 (0,15モル)、
1.1−ジフルオロシクロヘキサン456 g(3,8
0モル)を得り。
精留塔付きの反応容器へ五酸化リン1300g(9,1
5モル)と上記のトリフルオロ酢酸876.9 (7,
68モル)k入れ、攪拌しつつ加熱し、反応温度を70
°Cに保ちながら、留出する低沸生成物全ドライアイス
−アセトントラップで補集した。
加熱・攪拌全6時間行なった後に留出した成分を分析し
たところ、トリフルオロ酢酸無水物790g(3,76
モル)が生成していた。
本実施例は1.1−ジフルオロシクロヘキサンがシクロ
ヘキサノン全基準として転化率95%、選択率99%で
得られること、及びトリフルオロ酢酸無水物が、反応に
よシ生成するトリフルオロ酢酸から、収率98%で回収
できること金示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)シクロヘキサノンから1,1−ジフルオロシクロ
    ヘキサンを製造するに当り、 ( I )シクロヘキサノンにトリフルオロ酢酸無水物を
    反応させることにより1,1−ビス(トリフルオロアセ
    トキシ)シクロヘキサンを得るアシラール化工程、 (II)該1,1−ビス(トリフルオロアセトキシ)シク
    ロヘキサンにフッ化水素を反応させることにより1,1
    −ジフルオロシクロヘキサンとトリフルオロ酢酸を得る
    フッ素化工程、 及び (III)前記(II)において生成したトリフルオロ酢酸
    に脱水剤を反応させることによりトリフルオロ酢酸無水
    物を得るトリフルオロ酢酸回収工程 を包含することを特徴とする1,1−ジフルオロシクロ
    ヘキサンの製造方法。
  2. (2)フッ素化工程が酸触媒の存在下になされる、特許
    請求の範囲第1項記載の方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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