JPS6354351A - 光学活性1−メチル−3−フエニルプロピルアジド及びその化合物を用いる光学活性アミンの製造法 - Google Patents
光学活性1−メチル−3−フエニルプロピルアジド及びその化合物を用いる光学活性アミンの製造法Info
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- JPS6354351A JPS6354351A JP19876786A JP19876786A JPS6354351A JP S6354351 A JPS6354351 A JP S6354351A JP 19876786 A JP19876786 A JP 19876786A JP 19876786 A JP19876786 A JP 19876786A JP S6354351 A JPS6354351 A JP S6354351A
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規光学活性】−メチル−3−フェニルプロ
ピルアジド及びその化合物を用いる光学活性アミンの製
造法に関する。更に詳しくは、−般式 (式中、R,はメチル、エチル、フェニル、p−メチル
フェニルあるいはベンジル基、米は不kR素を表わす)
で表わされる光学活性スルホニルオキシ化合物を、アジ
化水素のアルカリ金属塩と反応させ、新規光学活性1−
メチル−3−フェニルプロピルアジドを得、さらにこの
生成物を還元反応に付することを特徴とする光学活性1
−メチル−3−フェニルプロピルアミンの製造法に関す
る。
ピルアジド及びその化合物を用いる光学活性アミンの製
造法に関する。更に詳しくは、−般式 (式中、R,はメチル、エチル、フェニル、p−メチル
フェニルあるいはベンジル基、米は不kR素を表わす)
で表わされる光学活性スルホニルオキシ化合物を、アジ
化水素のアルカリ金属塩と反応させ、新規光学活性1−
メチル−3−フェニルプロピルアジドを得、さらにこの
生成物を還元反応に付することを特徴とする光学活性1
−メチル−3−フェニルプロピルアミンの製造法に関す
る。
本発明の方法で得られる光学活性1−メチル−3−フェ
ニルプロピルアミンは、医薬、 p 薬等(7)合成原
料として有用な物質である。
ニルプロピルアミンは、医薬、 p 薬等(7)合成原
料として有用な物質である。
従来、光学活性1−メチル−3−フェニルプロピルアミ
ンは、そのラセミ体を光学分割する方法(ジャーナル・
オブ・メディシナル・ケミストリー、25巻、1363
頁(1982年)、特開昭59−108749など)、
あるいはベンジルアセトンを光学活性α−メチルベンジ
ルアミント反応させ、生ずるイミン化合物を還元するこ
とにより合成する方法(ジャーナル・オブ・メデイシナ
ル・ケミストリー、25巻、670頁(1982年)、
特開昭58−194847)が知られている。前者のラ
セミ体の光学分割法は操作が煩雑で不用な対掌体を副生
じ、低収率である。後者の合成法は中間体として不用な
ジアステレオマーの除去が困難で収率も低い。
ンは、そのラセミ体を光学分割する方法(ジャーナル・
オブ・メディシナル・ケミストリー、25巻、1363
頁(1982年)、特開昭59−108749など)、
あるいはベンジルアセトンを光学活性α−メチルベンジ
ルアミント反応させ、生ずるイミン化合物を還元するこ
とにより合成する方法(ジャーナル・オブ・メデイシナ
ル・ケミストリー、25巻、670頁(1982年)、
特開昭58−194847)が知られている。前者のラ
セミ体の光学分割法は操作が煩雑で不用な対掌体を副生
じ、低収率である。後者の合成法は中間体として不用な
ジアステレオマーの除去が困難で収率も低い。
光学活性スルホニルオキシ化合物を原料とし、光学活性
■−メチルー3−フェニルプロピルアジドを経由する光
学活性1−メチル−3−フェニルプロピルアミンの製造
法は全く知られていない。
■−メチルー3−フェニルプロピルアジドを経由する光
学活性1−メチル−3−フェニルプロピルアミンの製造
法は全く知られていない。
この合成法が開発でき、更に出発光学活性体の不斉を保
持あるいは反転させ、ラセミ化を起すことなく光学活性
1−メチル−3−フェニルプロピルアミンに変換するこ
とができれば、従来問題でちつた不用な光学活性副生物
を生ずることなく、目的の光学活性体のみを簡便かつ収
率良く得ることが可能となる。
持あるいは反転させ、ラセミ化を起すことなく光学活性
1−メチル−3−フェニルプロピルアミンに変換するこ
とができれば、従来問題でちつた不用な光学活性副生物
を生ずることなく、目的の光学活性体のみを簡便かつ収
率良く得ることが可能となる。
本発明の出発物質である光学活性スルホニルオキシ化合
物の原料となる光学活性1−メチル−3−フェニルプロ
パツールはベンジルアセトンの微生物的不斉還元により
容易にうろことができる。
物の原料となる光学活性1−メチル−3−フェニルプロ
パツールはベンジルアセトンの微生物的不斉還元により
容易にうろことができる。
通常の微生物の培養培地に、例えばキャンディダ・ギエ
ルモンデイIFO0679、あるいはビキャ・ファリノ
ーサIJ”00991を植菌し、好気的に培養する。培
養終了後、菌体を遠心分離により集め、1.51!の水
に懸濁し、ベンジルアセトンを添加し、pHをNaOH
で6.0に保ちながら30℃で反応させ、反応終了後、
等量のへ1:酸エチルで2回抽出する。酢酸エチル層を
無水芒硝で脱水したのち減圧上脱溶剤し、これを蒸留す
れば無色オイル状の(s)−i−メチル−3−フェニル
プロパノールアルいハ(Iυ−1−メチル−3−フェニ
ルプロパツールを得ることができる。
ルモンデイIFO0679、あるいはビキャ・ファリノ
ーサIJ”00991を植菌し、好気的に培養する。培
養終了後、菌体を遠心分離により集め、1.51!の水
に懸濁し、ベンジルアセトンを添加し、pHをNaOH
で6.0に保ちながら30℃で反応させ、反応終了後、
等量のへ1:酸エチルで2回抽出する。酢酸エチル層を
無水芒硝で脱水したのち減圧上脱溶剤し、これを蒸留す
れば無色オイル状の(s)−i−メチル−3−フェニル
プロパノールアルいハ(Iυ−1−メチル−3−フェニ
ルプロパツールを得ることができる。
次に、この光学活性1−メチル−3−フェニルプロパツ
ールと、塩化スルホニル誘導体、たとえばメシルクロラ
イド、エタンスルホニルクロライド、フェニルスルホニ
ルクロライドあるいはトシルクロライド等の塩化スルホ
ニル誘導体とを、塩基(たとえばトリエチルアミン)の
存在下、反応させることにより光学活性有機スルホニル
オキシ化合物を得ることができる。
ールと、塩化スルホニル誘導体、たとえばメシルクロラ
イド、エタンスルホニルクロライド、フェニルスルホニ
ルクロライドあるいはトシルクロライド等の塩化スルホ
ニル誘導体とを、塩基(たとえばトリエチルアミン)の
存在下、反応させることにより光学活性有機スルホニル
オキシ化合物を得ることができる。
本発明者らは、光学活性スルホニルオキシ化合物のアジ
ド化法及び光学活性1−メ°チルー3−フェニルプロピ
ルアジドの還元法を鋭意検討しf、=結果、ラセミ化す
ることなく、収率良く光学活性IJチルー3−フェニル
プロピルアミンを合成スる方法を見い出し本発明を完成
した。
ド化法及び光学活性1−メ°チルー3−フェニルプロピ
ルアジドの還元法を鋭意検討しf、=結果、ラセミ化す
ることなく、収率良く光学活性IJチルー3−フェニル
プロピルアミンを合成スる方法を見い出し本発明を完成
した。
新規光学活性体である1−メチル−3−フェニルプロピ
ルアジドは、一般式 (式中、Rはメチル、エチル、フェニル、p−メチルフ
ェニルあるいはベンジル基、米は不斉炭素を表わす)で
表わされる光学活性スルホニルオキシ化合物を、アジ化
水素のアルカリ金属塩と反応させることにより取得でき
る。
ルアジドは、一般式 (式中、Rはメチル、エチル、フェニル、p−メチルフ
ェニルあるいはベンジル基、米は不斉炭素を表わす)で
表わされる光学活性スルホニルオキシ化合物を、アジ化
水素のアルカリ金属塩と反応させることにより取得でき
る。
アルカリ金属としてはリチウム、ナトリウム。
カリウムを用いることができるが、ナトリウムが望まし
い。反応は、極性非プロトン性溶剤中で容易に進行し、
ジメチルスルホキシド、N、N−ジメチルホルムアミド
、N、N−ジメチルアセトアミドあるいはアセトニトリ
ル等が使用できる。アジ化水素のアルカリ金属塩は、光
学活性スルホニルオキシ化合物に対して1.0倍モル以
上使用すれば良いが、通常1.1〜2,0倍モルが用い
られる。反応は室温下でも進行するが、30〜70℃に
加熱することにより速かに進行させることができる。
い。反応は、極性非プロトン性溶剤中で容易に進行し、
ジメチルスルホキシド、N、N−ジメチルホルムアミド
、N、N−ジメチルアセトアミドあるいはアセトニトリ
ル等が使用できる。アジ化水素のアルカリ金属塩は、光
学活性スルホニルオキシ化合物に対して1.0倍モル以
上使用すれば良いが、通常1.1〜2,0倍モルが用い
られる。反応は室温下でも進行するが、30〜70℃に
加熱することにより速かに進行させることができる。
■−メチルー3−フェニルプロピルアジドのρ元反応は
、メタノール、エタノール、ジオキサン。
、メタノール、エタノール、ジオキサン。
テトラヒドロフラン、酢酸エチル、水、あるいはこれら
の混合物を溶剤として、常圧〜散気圧の水素雰囲気下で
白金、パラジウム、ニッケル等の金属触媒を用いる方法
が利用される。反応温度は0〜60℃の範囲が望ましい
。またエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメト
キシエタン、ジグリム等を溶剤として、水素化リチウム
アルミニウム、水素化ナトリウムアルミニウム等の水素
化アルミニウムのアルカリ金属塩を用いて還元すること
もできる。これらの還元反応は、0℃から用いる溶剤の
沸点までの温度範囲で実施される。
の混合物を溶剤として、常圧〜散気圧の水素雰囲気下で
白金、パラジウム、ニッケル等の金属触媒を用いる方法
が利用される。反応温度は0〜60℃の範囲が望ましい
。またエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメト
キシエタン、ジグリム等を溶剤として、水素化リチウム
アルミニウム、水素化ナトリウムアルミニウム等の水素
化アルミニウムのアルカリ金属塩を用いて還元すること
もできる。これらの還元反応は、0℃から用いる溶剤の
沸点までの温度範囲で実施される。
つぎに実施例をあげて本発明をさらに詳しく説明するが
、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない
。
、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない
。
実施例1
(R) −1−メチル−3−フェニルプロピルアジドの
製造 (S)−1−メチル−3−フェニルプロピル−p−トル
エンスルホネート 8.04 g(10mmol)〔〔
α〕 ±3.62°(c=1.05.ベンゼン)、91
%e、e、 ] をジメチルスルホキシド20mJに
溶解し、40℃で撹拌しなからNaN3 1.30B(
2ommol)を−度に加え2時間反応させた。
製造 (S)−1−メチル−3−フェニルプロピル−p−トル
エンスルホネート 8.04 g(10mmol)〔〔
α〕 ±3.62°(c=1.05.ベンゼン)、91
%e、e、 ] をジメチルスルホキシド20mJに
溶解し、40℃で撹拌しなからNaN3 1.30B(
2ommol)を−度に加え2時間反応させた。
ついで反応液に水100mJを加え、生成物を酢酸エチ
ルsomgで2回抽出し、有機層を飽和食塩水50mf
、水50m1で洗浄、無水硫酸ナトリウムて乾燥後、有
機溶剤を減圧留去すると、オイル状(7) (R) −
1−メチル−3−フェニルプロピルアジド 1.70g
(9,7mmol)、収率97%、〔a〕25−66.
0°(Cm1.04.クロロホルム)が得られた。
ルsomgで2回抽出し、有機層を飽和食塩水50mf
、水50m1で洗浄、無水硫酸ナトリウムて乾燥後、有
機溶剤を減圧留去すると、オイル状(7) (R) −
1−メチル−3−フェニルプロピルアジド 1.70g
(9,7mmol)、収率97%、〔a〕25−66.
0°(Cm1.04.クロロホルム)が得られた。
元素分析値(C10F113 N3として)計算値(%
) C:68.54 Hニア、48 N:23.
98測定値(%) C:68.24 Hニア、54
N:23.90’H−NMR(90MHz、CDC
l5)δppm1.10 (3H,d、 CHa )、
1.77 (2H,q、 CH2)、2.70 (2)
f、 t、 CH2)、3.40 (IH,m、 CH
)、7.23 (5H,3%C6H5) neat −1 νmax Cm 2918.2104.1605.
1498.1455.1254. 1125.1035.745、 実施例2 (S:1−1−、’lチル・−3−フェニルフロヒルア
ジドの製造 (R1)−1−メチル−3−フェニルプロピル−p−ト
ルエ:z7.ルホネ−ドア、60 g (25mmol
)〔〔α’:] −1,88°(e=6.08、ベン
ゼン)、68%e、e、 〕を〕N、N−ジメ千ルホル
ムアミド30mに溶解し、NaN3 2.28j;l(
35mmol)を加え、室温下15時間反応させた。つ
いて実施例1と同様の後処理を行なってオイル状の(S
)−1−1チル−3−フェニルプロピルアジド4.20
、Sl+(24n1m01)、収率96%、Ca1lD
+52.8゜(c = 1.03 、 CHCIg)を
得た。
) C:68.54 Hニア、48 N:23.
98測定値(%) C:68.24 Hニア、54
N:23.90’H−NMR(90MHz、CDC
l5)δppm1.10 (3H,d、 CHa )、
1.77 (2H,q、 CH2)、2.70 (2)
f、 t、 CH2)、3.40 (IH,m、 CH
)、7.23 (5H,3%C6H5) neat −1 νmax Cm 2918.2104.1605.
1498.1455.1254. 1125.1035.745、 実施例2 (S:1−1−、’lチル・−3−フェニルフロヒルア
ジドの製造 (R1)−1−メチル−3−フェニルプロピル−p−ト
ルエ:z7.ルホネ−ドア、60 g (25mmol
)〔〔α’:] −1,88°(e=6.08、ベン
ゼン)、68%e、e、 〕を〕N、N−ジメ千ルホル
ムアミド30mに溶解し、NaN3 2.28j;l(
35mmol)を加え、室温下15時間反応させた。つ
いて実施例1と同様の後処理を行なってオイル状の(S
)−1−1チル−3−フェニルプロピルアジド4.20
、Sl+(24n1m01)、収率96%、Ca1lD
+52.8゜(c = 1.03 、 CHCIg)を
得た。
元素分析値(CIOI13 N3 としで)計算値(
%) C:68.54 Hニア、48 N:23゜9
8測定値(%) C:68.12 Hニア、84 N
:218811I−NMR(90MHz、CD013
)δppm1.10(3II、d、CN(a)、1.7
7 (2IN、 q、 CH2)、2.70(2■(、
t、e■(2)、3.40 (L H,m、 CH)、
7−23 (5II == s s G 6 IN
5 )neaj −12g1g、2104.160
5、v max crn 1498.1455.1254. 1125.1035.745、 実施例3 (R) −1−メチル−3−フェニルプロピルアミンの
製造 実施例1で得られた(R)−1−メチル−3−フェニル
フロヒルアジド1−58/ (9,0m mol)のメ
タノール溶液(20ml)に5%Pd−0500m、9
を加え、水素ガス(常圧)雰囲気下、40℃で8時間反
応させた。反応混合物を渥過し、Pd−Cをメタノ・−
ルで洗浄後、p液と洗浄液を減圧濃縮するとオイルが得
られた。これを減圧下(14mml−1,;r) 1
01〜102℃で蒸留することにより(几)−1−メチ
ル−3−フェニルプロピルアミン 1.31!9(7,
5mmol)収率83%、〔a:lD −10,2°(
neat) カ得らレタ。
%) C:68.54 Hニア、48 N:23゜9
8測定値(%) C:68.12 Hニア、84 N
:218811I−NMR(90MHz、CD013
)δppm1.10(3II、d、CN(a)、1.7
7 (2IN、 q、 CH2)、2.70(2■(、
t、e■(2)、3.40 (L H,m、 CH)、
7−23 (5II == s s G 6 IN
5 )neaj −12g1g、2104.160
5、v max crn 1498.1455.1254. 1125.1035.745、 実施例3 (R) −1−メチル−3−フェニルプロピルアミンの
製造 実施例1で得られた(R)−1−メチル−3−フェニル
フロヒルアジド1−58/ (9,0m mol)のメ
タノール溶液(20ml)に5%Pd−0500m、9
を加え、水素ガス(常圧)雰囲気下、40℃で8時間反
応させた。反応混合物を渥過し、Pd−Cをメタノ・−
ルで洗浄後、p液と洗浄液を減圧濃縮するとオイルが得
られた。これを減圧下(14mml−1,;r) 1
01〜102℃で蒸留することにより(几)−1−メチ
ル−3−フェニルプロピルアミン 1.31!9(7,
5mmol)収率83%、〔a:lD −10,2°(
neat) カ得らレタ。
’H−NMR(90MHz 、CD013)δppm1
.08(3)i、d%CI(8)、1.50(2H1S
、Nll2)、1.67 (2H,Q、 ClI2 )
、2.65 (2L t、 CH2)、2.90(L
Hlm、Cu)、7.20 (5H,S、C6H3)(
IiL) −1−メチル−3−フェニルプロピルアミン
をモツシャー試薬により(→M、 T P Aアミド化
〔ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー、2
4巻、2543頁(1969年)〕シた後、日本分光製
Finepak SIL (48カラム(展開溶剤ニメ
タノール/水=i、、’ic容積比))により、ジアス
テレオマーの分析を行なったところ92%e、e、と判
明した。
.08(3)i、d%CI(8)、1.50(2H1S
、Nll2)、1.67 (2H,Q、 ClI2 )
、2.65 (2L t、 CH2)、2.90(L
Hlm、Cu)、7.20 (5H,S、C6H3)(
IiL) −1−メチル−3−フェニルプロピルアミン
をモツシャー試薬により(→M、 T P Aアミド化
〔ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー、2
4巻、2543頁(1969年)〕シた後、日本分光製
Finepak SIL (48カラム(展開溶剤ニメ
タノール/水=i、、’ic容積比))により、ジアス
テレオマーの分析を行なったところ92%e、e、と判
明した。
実施例4
(S) −1−メチル−3−フェニルプロピルアミンの
製造 実施例2て得られた(S) −1−メチル−3−フェニ
ルプロピルアジド4.00 g (23mmol)のメ
タノール溶液(30ml )に5%PdPd−C50O
を加え、オートクレーブ中、水素ガス(3に9/w2)
雰囲気下50℃で5時間反応させた。ついで実施例3と
同様の後処理を行ない、蒸留精製することにより (S
) −1−メチル−3−フェニルプロピルアミン 2.
98,9 (20m nol)、収率87%、Cα〕”
+ 6.92°(nea t ) ヲ’gg 7’、
:。 これを(+)MTPAアミド化し、液クロ分析を
行なった結果、69%e、 e、であった。
製造 実施例2て得られた(S) −1−メチル−3−フェニ
ルプロピルアジド4.00 g (23mmol)のメ
タノール溶液(30ml )に5%PdPd−C50O
を加え、オートクレーブ中、水素ガス(3に9/w2)
雰囲気下50℃で5時間反応させた。ついで実施例3と
同様の後処理を行ない、蒸留精製することにより (S
) −1−メチル−3−フェニルプロピルアミン 2.
98,9 (20m nol)、収率87%、Cα〕”
+ 6.92°(nea t ) ヲ’gg 7’、
:。 これを(+)MTPAアミド化し、液クロ分析を
行なった結果、69%e、 e、であった。
実施例5
(R) −1−メチル−3−フェニルプロピルアミンの
製造 (S) −1−メチル−3−フェニルプロピル−メタン
スルホネート 2.28.9 (10m mol)〔〔
α]25 +6.44°(c=2.05、ベンゼン)、
91%e、e、]を実施例1と同様にアジド化させたと
こ口OL) −1−メチル−3−フェニルプロピルアジ
ド1.621 (9,3mmoり、収率93%、〔α]
25−65.8°(C=1.OO、クロロホルム)が得
られた。ついで実施例3と同様な方法で(R)−1−メ
チル−3−フェニルプロピルアジド1.50 、ji!
(8,6m mol)の迎元を行ナイ、(R)−■−
メチノL/−3−フェニルプロピルアミン 1.041
!;i’(7,□mmol)、収率81%、[α:]
−11,0゜(neat)、9】%e、e、が得られ
た。
製造 (S) −1−メチル−3−フェニルプロピル−メタン
スルホネート 2.28.9 (10m mol)〔〔
α]25 +6.44°(c=2.05、ベンゼン)、
91%e、e、]を実施例1と同様にアジド化させたと
こ口OL) −1−メチル−3−フェニルプロピルアジ
ド1.621 (9,3mmoり、収率93%、〔α]
25−65.8°(C=1.OO、クロロホルム)が得
られた。ついで実施例3と同様な方法で(R)−1−メ
チル−3−フェニルプロピルアジド1.50 、ji!
(8,6m mol)の迎元を行ナイ、(R)−■−
メチノL/−3−フェニルプロピルアミン 1.041
!;i’(7,□mmol)、収率81%、[α:]
−11,0゜(neat)、9】%e、e、が得られ
た。
実施例6
(s) −i−メチル−3−フェニルプロピルアミンの
製造 (R,) −1−メチル−3−フェニルプロピル−メタ
ンスルホネート 684mg(3mmoり[[α:l”
−3,75°(C=1.07、C1,IC1g )、6
8%e、e、 )を実施例2と同様にアジド化し、(S
) −1−メチル−3−フェニルプロピルアジド 45
5m、9(2,6mmol)、収率87%、Cα〕26
−1−40.08(C=1.09、ClIC1a)が得
られた。ついで実施例3と同様な方法で(S)−1−メ
チル−3−フェニルプロピルアジド 350m、!9
(2,0mmol)の血元を行ない(S) −1−メチ
ル−3−フェニルプロピルアミ” 288m、9(1
,9mmoi)、収率95%、67%e、 e、を得た
つ 実施例7 (S) −t−メチル−3−フェニルプロピルアミンの
製造 実施例2で得られた(S) −1−メチル−3−フェニ
ルプロピルアジド 500 ml! (2,9m mo
l)を5mJのエーテルに溶解し、室温下、水素化アル
ミニウム’)+’)ム57m、9(1,5mm01)の
エーテル溶液を30分にわたり滴−Ft〜た。さらに1
時間撹拌後、水10m1を加えて反応を停止[7,20
mfcDiト酸エチルで2回抽出し、有機層を飽和食塩
水IQmJ、 水10mJで洗浄、無水硫酸すl−I
Jウムて乾燥後、有機溶剤を減圧留去した。
製造 (R,) −1−メチル−3−フェニルプロピル−メタ
ンスルホネート 684mg(3mmoり[[α:l”
−3,75°(C=1.07、C1,IC1g )、6
8%e、e、 )を実施例2と同様にアジド化し、(S
) −1−メチル−3−フェニルプロピルアジド 45
5m、9(2,6mmol)、収率87%、Cα〕26
−1−40.08(C=1.09、ClIC1a)が得
られた。ついで実施例3と同様な方法で(S)−1−メ
チル−3−フェニルプロピルアジド 350m、!9
(2,0mmol)の血元を行ない(S) −1−メチ
ル−3−フェニルプロピルアミ” 288m、9(1
,9mmoi)、収率95%、67%e、 e、を得た
つ 実施例7 (S) −t−メチル−3−フェニルプロピルアミンの
製造 実施例2で得られた(S) −1−メチル−3−フェニ
ルプロピルアジド 500 ml! (2,9m mo
l)を5mJのエーテルに溶解し、室温下、水素化アル
ミニウム’)+’)ム57m、9(1,5mm01)の
エーテル溶液を30分にわたり滴−Ft〜た。さらに1
時間撹拌後、水10m1を加えて反応を停止[7,20
mfcDiト酸エチルで2回抽出し、有機層を飽和食塩
水IQmJ、 水10mJで洗浄、無水硫酸すl−I
Jウムて乾燥後、有機溶剤を減圧留去した。
さらに減圧下(14mmH7) 100°〜117℃
で蒸留することによ、?(8)−1−メチル−3−フェ
ニルプロピルアミン 358 m、9 (2,4mmo
l)、83%収率、70%e、 e、が得られた、。
で蒸留することによ、?(8)−1−メチル−3−フェ
ニルプロピルアミン 358 m、9 (2,4mmo
l)、83%収率、70%e、 e、が得られた、。
実施例8
(几)−1−メチル−3−フェニルプロピルアジドの製
造 (S)−1−メチル−3−フェニルプロピルエタンスル
ホネート 1.969 (8,1mmol) [α]”
”+4.12°(C=2.09、ベンゼン)〕を実施例
2と同様にNaNa 1.05.!i’ (16rn
mol) と反応、後処理を行ない、(R,) −1
−メチル−3−フェニルプロピルアジド 1.87 j
9 (7,8mmol)、収率9696、〔α〕 −6
0,9°(c=1.02、クロロホルム)を得た。
造 (S)−1−メチル−3−フェニルプロピルエタンスル
ホネート 1.969 (8,1mmol) [α]”
”+4.12°(C=2.09、ベンゼン)〕を実施例
2と同様にNaNa 1.05.!i’ (16rn
mol) と反応、後処理を行ない、(R,) −1
−メチル−3−フェニルプロピルアジド 1.87 j
9 (7,8mmol)、収率9696、〔α〕 −6
0,9°(c=1.02、クロロホルム)を得た。
Claims (5)
- (1)式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、*は下斉炭素を表わす)で表わされる光学活性
1−メチル−3−フェニルプロピルアジド。 - (2)一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、*は下斉炭素、Rはメチル、エチル、フェニル
、p−メチルフェニルあるいはベンジル基を表わす)で
表わされる光学活性スルホニルオキシ化合物と、アジ化
水素のアルカリ金属塩と反応させることを特徴とする、
式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、*は上記と同じ)で表わされる光学活性1−メ
チル−3−フェニルプロピルアジドの製造法。 - (3)Rがメチル、エチル、あるいはp−メチルフェニ
ルである特許請求の範囲第2項記載の製造法。 - (4)一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、Rはメチル、エチル、フェニル、p−メチルフ
ェニルあるいはベンジル基、*は不斉炭素を表わす)で
表わされる光学活性スルホニルオキシ化合物を、アジ化
水素のアルカリ金属塩と反応させ、光学活性1−メチル
−3−フェニルプロピルアジドを得、次いでこの生成物
を還元反応に付することを特徴とする光学活性1−メチ
ル−3−フェニルプロピルアミンの製造法。 - (5)Rがメチル、エチルあるいはp−メチルフェニル
である特許請求の範囲第4項記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19876786A JPS6354351A (ja) | 1986-08-25 | 1986-08-25 | 光学活性1−メチル−3−フエニルプロピルアジド及びその化合物を用いる光学活性アミンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19876786A JPS6354351A (ja) | 1986-08-25 | 1986-08-25 | 光学活性1−メチル−3−フエニルプロピルアジド及びその化合物を用いる光学活性アミンの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6354351A true JPS6354351A (ja) | 1988-03-08 |
Family
ID=16396593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19876786A Pending JPS6354351A (ja) | 1986-08-25 | 1986-08-25 | 光学活性1−メチル−3−フエニルプロピルアジド及びその化合物を用いる光学活性アミンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6354351A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04234832A (ja) * | 1990-03-08 | 1992-08-24 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | 新規置換アミン化合物およびその製造方法 |
| JP2002179628A (ja) * | 2000-12-08 | 2002-06-26 | Daiichi Fine Chemical Co Ltd | 光学活性ジアミン誘導体の製造法 |
| JP2009023933A (ja) * | 2007-07-19 | 2009-02-05 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 含窒素有機珪素化合物 |
| US8603567B2 (en) | 2002-10-30 | 2013-12-10 | Suntory Holdings Limited | Method of manufacturing plant finished product |
-
1986
- 1986-08-25 JP JP19876786A patent/JPS6354351A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04234832A (ja) * | 1990-03-08 | 1992-08-24 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | 新規置換アミン化合物およびその製造方法 |
| JP2002179628A (ja) * | 2000-12-08 | 2002-06-26 | Daiichi Fine Chemical Co Ltd | 光学活性ジアミン誘導体の製造法 |
| US8603567B2 (en) | 2002-10-30 | 2013-12-10 | Suntory Holdings Limited | Method of manufacturing plant finished product |
| JP2009023933A (ja) * | 2007-07-19 | 2009-02-05 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 含窒素有機珪素化合物 |
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