JPS6363152A - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents

光記録媒体の製造方法

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JPS6363152A
JPS6363152A JP61208195A JP20819586A JPS6363152A JP S6363152 A JPS6363152 A JP S6363152A JP 61208195 A JP61208195 A JP 61208195A JP 20819586 A JP20819586 A JP 20819586A JP S6363152 A JPS6363152 A JP S6363152A
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JP
Japan
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selenium
tellurium
nitrogen
recording
layer
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JP61208195A
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JPH048859B2 (ja
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Masaki Ito
雅樹 伊藤
Katsuji Nakagawa
活二 中川
Akio Morimoto
昭男 森本
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NEC Corp
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NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] −本発明はレーザ光によって情報を記録再生することの
できる光記録媒体の製造方法に関するものである。
[従来の技術] する光デイスクメモリは、記録密度が高いことから大容
量記録装置として優れた特徴を有している。
この光記録媒体材料としては、最初にタンタルと鉛が使
用された(サイエンス(Science)154.15
50゜1966) )。それ以来様々の材料が使用され
ているが、テルル(Te)等のカルコゲン元素またはこ
れらの化合物はよく使用されてあり(特公昭47−26
897号公報)、とくにテルル−セレン系合金はよく使
用されている(特公昭54−41902号公報、特公昭
57−7919号公報、特公昭57−56058号公報
)。
近年、記録装置を小型化するため、レーザ光源としては
半導体レーザが使用されてきている。半導体レーザは発
振波長がaooo人前後であるが、テルル−セレン系合
金はこの波長帯にも比較的よく適合し、適度な反射率と
適度な吸収率が得られる(フィジカ・スティタス・ソリ
ダイ(phys、 5tat。
sol、 7.189.1964) )。
このテルル−セレン系合金を光記録層として用いた光記
録媒体は第1図に示すような構成になっ+rJ Xr 
  −1−f−モ4− fit蚤C’1l−IT來位+
  ?二11.11.   Jwl。
ン系合金よりなる記録層21が設けられている。記録用
レーザ光は基板1を通して記録層21に集光照射され、
ピット22が形成される。基板1としてはポリカーボネ
ート、ポリオレフィン、ポリメチルペンテン、アクリル
、エポキシ樹脂等の合成樹脂やガラスが使用され、基板
1にはピットが同心円状あるいはスパイラル状に一定間
隔で精度よく記録されるように通常案内溝が設けられて
いる。
レーザビーム径程度の幅の溝に光が入射すると光は回折
され、ビーム中心が溝からずれるにつれて回折光強度の
空間分布が変化するので、これを検出してレーザビーム
を溝の中心に入射させるようにサーボ系が構成されてい
る。溝の幅は通常0.3〜1.3Aunであり、溝の深
さは使用するレーザ波長の1712から174の範囲に
設定される。集光に関しても同様にサーボ系が構成され
ている。情報の読み出しは、記録のときよりも弱いパワ
ーのレーザ光をピット上を通過するように照射すること
により、ピットの有無に起因する反射率の変化を検出し
て行う。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、テルル−セレン合金層を記録層として用
いた光記録媒体では耐候性と感度と信号品質のすべてを
満足するものではなかった。
本発明は以上のような問題点を解決するためになされた
もので、耐候性がよく、かつ高感度で信号品質が良好で
安定な光記録媒体の製造方法を提供することを目的とす
る。
[問題点を解決するための手段] 本発明は基板上に、レーザ光によって一部が選択的に除
去されて情報を記録する記録層を形成することよりなる
光記録媒体の製造方法において、前記記録層中に、テル
ルとセレンを含む物質をターゲットとし、窒素ガスおよ
び水素ガスを含むガス中でスパッタリングしてテルルと
セレンと窒素とを主成分とする層を少なくとも設けるこ
とを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
テルルとセレンと窒素とを主成分とする層(以下、テル
ル−セレン−窒素層と略す)の厚さは100人からi 
ooo人の範囲が記録再生特性の観点から望ましく、セ
レンの含有量は原子数パーセントで2パーセントから5
0パーセントの範囲が記録再生特性、耐候性の観点から
望ましく、窒素の含有量は原子数パーセントで2パ一セ
ント以上20パーセント未満が記録再生特性、耐候性の
観点から望ましい。また、テルル−セレン−窒素層中の
元素の組成比は、ターゲットの組成比や窒素(N2)ガ
スと水素(N2)ガスのガス分圧に依存するのは勿論で
あるが、スパッタ装置の大きさくスパッタ室の表面積等
)ヤスバッタ時間等にも依存するので、所望の記録膜組
成を得るためには各スパッタ装置ごとにN2ガスとN2
ガスの分圧等を適宜設定することが望ましい。
テルルとセレンと窒素とを主成分とする層には、鉛、ア
ンチモン、ヒ素、イオウ、スズ、ゲルマニウム、タリウ
ム、リン、カドミウム、インジウム、ガリウム、亜鉛、
ビスマス、アルミニウム、銅、銀、マグネシウム、タン
タル、金、パラジウム、コバルトの群から選ばれた少な
くとも1種の元素が添加されていてもよい。この場合、
ピットの形状を良好に整える場合がある。ただし、添加
量は原子数パーセントで20パ一セント未満が望ましい
スパッタガスはN2ガスとN2ガスのみでもよいが、放
電や成膜の安定性の観点からは不活性ガスとの混合ガス
が望ましい。また、ざらにその他のガスを混合してもよ
い。
テルル−セレン−窒素層と基板との間に、酸化物、窒化
物、フッ化物、炭化物、硫化物またはホウ化物で形成さ
れた層を少なくとも1層設けてもよい。この場合記録パ
ワー変動に対する余裕度が大きくなり、トラッキングや
フォーカスのサーボが安定になることがある。
また、基板としてはポリカーボネート、ポリオレフィン
、ポリメチルペンテン、アクリル、エポキシ樹脂等の合
成樹脂やガラスなど通常使用されているものが用いられ
る。
[実施例] 以下本発明の実施例について説明する。
100 ’Cで2時間アニール処理した内径15mm、
外径130m1厚ざ1.2mmの案内溝付きポリカーポ
ネ−ト樹脂ディスク基板上に、テルル−セレン合金ター
ゲットをアルゴン(Ar>とN2とN2どの混合ガスで
マグネトロンスパッタして、テルル(Te)とセレン(
Se)と窒素(N)の比が原子数パーセントで85対9
対6のテルル−セレン−窒素層を約240人厚形成し、
しかる後、温度85℃、相対湿度90%の環境に12時
間保存して光記録媒体を作製した。この光ディスクの波
長8300八における基板入射の反射率を測定したとこ
ろ、約26%であった。波長8300Aの半導体レーザ
光を基板を通して入射して記録層上で1.61J!rI
φ程度に絞り、媒体線速度5.65m/sec 、記録
周波数3.778H2,記録パルス幅70nsec、記
録パワー6、0mWの条件で記録し、0.7mWで再生
した。バンド幅30kH2のキャリアーとノイズとの比
(C/N)は48dBと良好であった。
この光ディスクを70’C180%の高温高湿度の環境
に60時間保存した後、上記特性を調べたが変化はなく
、耐候性に優れた光記録媒体であることが確認された。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明の方法によれば耐候性がよ
く、かつ高感度で信号品質が良好で安定な光記録媒体を
製造することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は光記録媒体の1例を示す部分断面図である。 1・・・基板 21・・・記録層 22・・・ピット

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板上に、レーザ光によって一部が選択的に除去
    されて情報を記録する記録層を形成することよりなる光
    記録媒体の製造方法において、前記記録層中に、テルル
    とセレンを含む物質をターゲットとし、窒素ガスおよび
    水素ガスを含むガス中でスパッタリングしてテルルとセ
    レンと窒素とを主成分とする層を少なくとも設けること
    を特徴とする光記録媒体の製造方法。
JP61208195A 1986-09-03 1986-09-03 光記録媒体の製造方法 Granted JPS6363152A (ja)

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JP61208195A JPS6363152A (ja) 1986-09-03 1986-09-03 光記録媒体の製造方法

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JP61208195A JPS6363152A (ja) 1986-09-03 1986-09-03 光記録媒体の製造方法

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JPS6363152A true JPS6363152A (ja) 1988-03-19
JPH048859B2 JPH048859B2 (ja) 1992-02-18

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ID=16552232

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JP (1) JPS6363152A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63171446A (ja) * 1987-01-09 1988-07-15 Mitsubishi Kasei Corp 光学的記録用媒体の製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS63171446A (ja) * 1987-01-09 1988-07-15 Mitsubishi Kasei Corp 光学的記録用媒体の製造方法

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JPH048859B2 (ja) 1992-02-18

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