JPS6366838B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

［発明の技術分野］ 本発明は室温付近の近い温度範囲で液晶相を示
す新規なチオフエン化合物、その製造方法ならび
に該化合物を含む液晶組成物に関する。 ［発明の技術的背景］ 液晶は、電場の影響をうけて光散乱、複屈折な
どの光学的性質を顕著に変える特徴を有し、広く
電気光学表示装置に利用される。そのような表示
装置に用いられる液晶に要求される性質は、液晶
温度範囲が広く、かつ低粘性であること、湿気、
熱、光などに対して安定なことである。さらに、
可視光領域で固有の吸収を示さず、着色していな
いことも要求される。このうち液晶温度範囲につ
いては、これが広い場合には、より少ない種類の
液晶物質を混合することで実用に供することが可
能な点で有利であり、また低粘性の場合には液晶
素子の応答時間が短かくなる点で有利である。 ［発明の目的］ 本発明は広い液晶温度範囲を有する新規なチオ
フエン系化合物であるネマチツク液晶性化合物、
ならびにこの化合物を含む液晶組成物を提供する
ことを目的とする。 ［発明の構成］ すなわち本発明の５−ｎ−アルキル−２−チエ
ニルアクリル酸ｐ−ｎ−アルコキシフエニルは、
一般式 （式中、R₁は炭素原子数２〜16の直鎖アルキル
基を示し、R₂は炭素原子数２〜12の直鎖アルキ
ル基を示す） で表わされることを特徴し、またその製法は 一般式 （式中、R₁は炭素原子数２〜16の直鎖アルキ
ル基を示す） で表わされる５−ｎ−アルキル−２−チエニル
アクリル酸を塩素化剤と反応させて 一般式 （式中、R₁は前記と同じ意味） で表わされる５−ｎ−アルキル−２−チエニル
アクリル酸クロライドとし、次いでこの酸塩化
物と、一般式 （式中、R₂は炭素原子数２〜12の直鎖アルキ
ル基を示す） で表わされるｐ−ｎ−アルコキシフエノールを
不活性溶媒中で反応させて 一般式 （式中、R₁およびR₂は前記と同じ意味） で表わされる化合物を得ること、および 一般式 （式中、R₁は炭素原子数２〜16の直鎖アルキ
ル基を示す） で表わされる化合物と、 一般式 （式中、R₂は炭素原子数２〜12の直鎖アルキ
ル基を示す） で表わされる化合物とをＮ，N′−ジシクロヘ
キシルカルボジイミドの存在下で脱水反応さ
せ、 一般式 （式中、R₁およびR₂は前記と同じ意味） で表わされる化合物を得ることを特徴とする。 また本発明の液晶組成物は前記一般式（）で
表わされる化合物を１種以上含むことを特徴とす
る。 式（）〜（）のR₁は炭素原子数２〜16の
直鎖アルキル基を示し、このうち特に炭素原子数
２〜12の直鎖アルキル基が好ましい。また式
（）および（）のR₂としては炭素原子数２〜
12の直鎖アルキル基があげられ、このうち特に炭
素原子数５〜８の直鎖アルキル基が好ましい。
R₁およびR₂は同一分子中で同一でもよく、ある
いは相異なつていてもよい。 次に本発明の製造方法について述べる。 製造方法において塩素化剤としては塩化チオ
ニル、三塩化リン、五塩化リンなどが挙げられる
が、特に反応処理の容易さから塩化チオニルが好
ましい。塩化チオニルを用いた場合、式（）の
５−ｎ−アルキル−２−チエニルアクリル酸との
反応は過剰の塩化チオニルを用いて還流させ、反
応後はこの過剰の塩化チオニルを減圧で留去すれ
ばよい。 式（）の５−ｎ−アルキル−２−チエニルア
クリル酸クロライドと式（）のｐ−ｎ−アルコ
キシフエノールとの反応はエチルエーテル、ベン
ゼンなどの不活性溶媒中で行ない、このうち特に
エチルエーテルが好ましい。また反応中に生じる
ハロゲン化水素を系外に除くために、ピリジン、
トリエチルアミンなどの塩基性物質を加えること
が好ましい。反応後、生成物は有機溶媒抽出、水
洗、結晶化等の処理をすることにより目的とする
５−ｎ−アルキル−２−チエニルアクリル酸ｐ−
ｎ−アルコキシフエニルを得ることができる。 また製造方法において、Ｎ，N′−ジシクロ
ヘキシルカルボジイミドは式（）の化合物に対
して通常等モル用い、ピリジンの存在下でジクロ
ロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素等の溶媒
中で脱水反応させる。 本発明に用いる式（）の５−ｎ−アルキル−
２−チエニルアクリル酸はたとえば次に示す方法
で得られる。 第１段階はチオフエン（）に塩化第二錫を触
媒として、酸塩化物（R₃COCl、R₃は目的とする
化合物（）のR₁より炭素原子数が１小さな直
鎖アルキル基を示す。）を反応させて式（）の
化合物を製造することが出来る［J.R.Johnson
and G.E.May、Org.Syn.Col.Vol.、８
（1943）］。 第２段階は式（）の化合物をエチレングリコ
ール系溶剤の存在下でヒドラジン水化物との還流
により還元する。水との共沸混合物を分離し、稀
塩酸で洗浄後、水洗、乾燥、蒸溜等の一連の精製
処理を施して式（）の化合物を製造することが
出来る、［J.Org.Chem.、14638（1949）］。 第３段階は式（）の化合物をエチルエーテル
を溶剤としてフエニルリチウム、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミドと室温で反応させたのち、水を加
え、有機層を分離後、水洗、乾燥、蒸溜等の一連
の精製処理を施して式（）の化合物を製造す
る。 第４段階は式（）の化合物をナトリウムの存
在下で酢酸メチルと還流して式（）の化合物を
製造する。反応によつて生成した混合物から式
（）の化合物を単離する必要はなく、酢酸で中
和し、重曹溶液で洗滌後、過剰の酢酸メチルを除
去するだけでよい。 第５段階は第４段階で製造された粗製の式
（）の化合物を加水分解し、反応生成物を含水
エタノールから再結晶させて式（）の化合物を
製造する。 本発明の５−ｎ−アルキル−２−チエニルアク
リル酸ｐ−ｎ−アルコキシフエニルは室温付近の
広い温度範囲でネマチツク液晶を形成する液晶性
化合物であり、チオフエン環を含む液晶性化合物
としては初めてのものである。この化合物は液晶
組成物の配合成分として通常複数の液晶性化合物
と共に用いられる。更に本発明の液晶性化合物中
にはそれ自体では液晶相を示さずとも液晶組成物
の配合成分として有用な物質も含まれる。 次に本発明の主な液晶性化合物の物理特性を第
１表に示す。

【表】 ←

【表】 ←

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中、R₁は炭素原子数２〜16の直鎖アルキル
   基を示し、R₂は炭素原子数２〜12の直鎖アルキ
   ル基を示す） で表わされることを特徴とする５−ｎ−アルキル
   −２−チエニルアクリル酸ｐ−ｎ−アルコキシフ
   エニル。 ２ R₁が炭素原子数２〜12の直鎖アルキル基で
   あり、R₂が炭素原子数５〜８の直鎖アルキル基
   である特許請求の範囲第１項記載の５−ｎ−アル
   キル−２−チエニルアクリル酸ｐ−ｎ−アルコキ
   シフエニル。 ３ 一般式 （式中、R₁は炭素原子数２〜16の直鎖アルキル
   基を示す） で表わされる５−ｎ−アルキル−２−チエニルア
   クリル酸を塩素化剤と反応させて 一般式 （式中、R₁は前記と同じ意味） で表わされる５−ｎ−アルキル−２−チエニルア
   クリル酸クロライドとし、次いでこの酸塩化物
   と、一般式 （式中、R₂は炭素原子数２〜12の直鎖アルキル
   基を示す） で表わされるｐ−ｎ−アルコキシフエノールを不
   活性溶媒中で反応させて 一般式 （式中、R₁および₂は前記と同じ意味） で表わされる化合物を得ることを特徴とする５−
   ｎ−アルキル−２−チエニルアクリル酸ｐ−ｎ−
   アルコキシフエニルの製造方法。 ４ R₁が炭素原子数２〜12の直鎖アルキル基で
   あり、R₂が炭素原子数５〜８の直鎖アルキル基
   である特許請求の範囲第３項記載の方法。 ５ 一般式 （式中、R₁は炭素原子数２〜16の直鎖アルキル
   基を示す） で表わされる化合物と、 一般式 （式中、R₂は炭素原子数２〜12の直鎖アルキル
   基を示す） で表わされる化合物とをＮ，N′−ジシクロヘキ
   シルカルボジイミドの存在下で脱水反応させ、 一般式 （式中、R₁およびR₂は前記と同じ意味） で表わされる化合物を得ることを特徴とする５−
   ｎ−アルキル−２−チエニルアクリル酸ｐ−ｎ−
   アルコキシフエニルの製造方法。 ６ R₁が炭素原子数２〜12の直鎖アルキル基で
   あり、R₂が炭素原子数５〜８の直鎖アルキル基
   である特許請求の範囲第５項記載の方法。 ７ 一般式 （式中、R₁は炭素原子数２〜12の直鎖アルキル
   基を示し、R₂は炭素原子数５〜８の直鎖アルキ
   ル基を示す） で表わされる化合物を１種以上含むことを特徴と
   する液晶組成物。