JPS6360981A - フラン系液晶化合物、液晶中間体、液晶組成物およびそれらの製造方法 - Google Patents
フラン系液晶化合物、液晶中間体、液晶組成物およびそれらの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は広い温度範囲で液晶相を示す1.Ii規なフラ
ン系液晶化合物、液晶中間体、この化合物を含む液晶組
成物および前記液晶組成物の製造方法に関する。
ン系液晶化合物、液晶中間体、この化合物を含む液晶組
成物および前記液晶組成物の製造方法に関する。
(従来の技術)
液晶は電場や磁場の影響を受けて配向をかえて、光学的
性質を顕茗に変える性11かあり、広く電気的表示装買
に利用されている。このような表示装置に用いられる液
晶に要求される性質は液晶温度範囲が広く、低粘性であ
ること、誘電異方性が高く化学的に安定であること等が
要求されている。
性質を顕茗に変える性11かあり、広く電気的表示装買
に利用されている。このような表示装置に用いられる液
晶に要求される性質は液晶温度範囲が広く、低粘性であ
ること、誘電異方性が高く化学的に安定であること等が
要求されている。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は広い液晶温度範囲を0する1′i現なフラン系
、液晶化合物、液晶中間体この化合物を含む液晶組成物
および前記化合物の製3貴方法を提供することを目的と
する。
、液晶化合物、液晶中間体この化合物を含む液晶組成物
および前記化合物の製3貴方法を提供することを目的と
する。
E発明の構成コ
(問題点を解決するための手段)
すなわち、本発明の液晶化合物は
一般式
+<f c++・CH←CO映5)−coo−@−x・
・・(1)(式中Rは炭素原子数2〜14の直鎖アルキ
ル基を示し、nは1またはOてあり、Xはシアノ基また
はフッ素原子、塩素原子もしくは臭素原子を示す)で表
わされることを特徴と覆る。
・・(1)(式中Rは炭素原子数2〜14の直鎖アルキ
ル基を示し、nは1またはOてあり、Xはシアノ基また
はフッ素原子、塩素原子もしくは臭素原子を示す)で表
わされることを特徴と覆る。
本発明に含まれる化合物としてはnか1の場合の
一般式
%式%()
(式中Rは炭素原子数2〜14の直鎖アルキル基、Xは
シアノ基またはフッ素原子、塩素原子もしくは臭素原子
を示す)で表わされる化合物と、nかOの場合の 一般式 %式%) (式中Rは炭素原子F!2〜14の直鎖アルキル基、X
はシアノ基またはフッ素原子、塩素原子もしくは臭素原
子を示1)の化合物が取り挙げられる。
シアノ基またはフッ素原子、塩素原子もしくは臭素原子
を示す)で表わされる化合物と、nかOの場合の 一般式 %式%) (式中Rは炭素原子F!2〜14の直鎖アルキル基、X
はシアノ基またはフッ素原子、塩素原子もしくは臭素原
子を示1)の化合物が取り挙げられる。
またこれらの製造方法は
(1)一般式
%式%)
(式中[くけ炭素原子数2〜14の直鎖アルキル基を示
しnは1またはOである)で表わされる化合物と 一般式 %式% (式中Xはシアノ基またはフッ素原子、塩素原子もしく
は臭素原子を示1>で表わされる化合物を脱水剤の存在
下で反応させて 一般式 %式% (式中R,nおよびXは前記と同じ意味を示″g)化合
物を得る方法と あるいは (2)一般式 %式%) (式中Rは炭素原子数2〜14の直鎖アルキル基を示し
、nは1または0である)で表わされる化合物を塩素化
剤と反応させて 一般式 %式%) (式中Rおよびnは前記と同じ意味を示す)で表わされ
る酸塩化合物とし次いで 一般式 %式% (式中Xはシアノ基またはフッ素原子、塩素原子もしく
は臭素原子を示す)で表わされる化合物とを反応させて 一般式 %式%( (式中、R,nおよびXは前記と同じ意味を示す)で表
わされる化合物を得る方法とがある。
しnは1またはOである)で表わされる化合物と 一般式 %式% (式中Xはシアノ基またはフッ素原子、塩素原子もしく
は臭素原子を示1>で表わされる化合物を脱水剤の存在
下で反応させて 一般式 %式% (式中R,nおよびXは前記と同じ意味を示″g)化合
物を得る方法と あるいは (2)一般式 %式%) (式中Rは炭素原子数2〜14の直鎖アルキル基を示し
、nは1または0である)で表わされる化合物を塩素化
剤と反応させて 一般式 %式%) (式中Rおよびnは前記と同じ意味を示す)で表わされ
る酸塩化合物とし次いで 一般式 %式% (式中Xはシアノ基またはフッ素原子、塩素原子もしく
は臭素原子を示す)で表わされる化合物とを反応させて 一般式 %式%( (式中、R,nおよびXは前記と同じ意味を示す)で表
わされる化合物を得る方法とがある。
次に上述した本発明の製造方法(1)、(2>について
詳細に説明する。
詳細に説明する。
製)貴方法(1)
この方法において、脱水剤としてN−ヒドロキシフタル
イミド、N、N’−ジ4ナクシニイミジルカルボネイト
、N、N’−ジシクロヘキシル−力ルポシイミF宿が挙
げられるが、1箔こN、N’−ジシクロへ4ジルカルボ
ジイミドを用いるN、Pravdicらの方rls (
J、 Ct+em、 Soc、 4633.1964
)が好ましい。また、N、N’−ジシクロへキシルカル
小ジイミドは化合物(IV)5−n−アルキル−2−フ
リルアクリル酸、あるいは5−n−アルキル− て等モル量を用い、ピリジンの存在下でジクロロメタン
、ジクロロエタン、四塩化炭素等の溶媒中で脱水反応さ
せ、−段階で目的と覆る化合物をjqることができる。
イミド、N、N’−ジ4ナクシニイミジルカルボネイト
、N、N’−ジシクロヘキシル−力ルポシイミF宿が挙
げられるが、1箔こN、N’−ジシクロへ4ジルカルボ
ジイミドを用いるN、Pravdicらの方rls (
J、 Ct+em、 Soc、 4633.1964
)が好ましい。また、N、N’−ジシクロへキシルカル
小ジイミドは化合物(IV)5−n−アルキル−2−フ
リルアクリル酸、あるいは5−n−アルキル− て等モル量を用い、ピリジンの存在下でジクロロメタン
、ジクロロエタン、四塩化炭素等の溶媒中で脱水反応さ
せ、−段階で目的と覆る化合物をjqることができる。
製造方法(2)
この方法において用いられる塩素化剤としては塩化チオ
ニル、三塩化リン、五塩化リン等が挙げられるが、特に
反応後の処理の容易さから塩化チスニルが好ましい。
ニル、三塩化リン、五塩化リン等が挙げられるが、特に
反応後の処理の容易さから塩化チスニルが好ましい。
塩化チオニルを用いた場合には式(IV)5−n−アル
キル−2−フリルアクリル酸、あるいは5−n−アルキ
ル−2−フランカルボン酸に対して過剰モル岳を用いて
還流8せ、反応複塩化ブオニンを減圧下で溜去づればよ
い。式(vl)の5−n−アルキル−2−フリルアクリ
ル酸クロライドあるいは5−n−アルキル−フランカル
ボン酸クロライ!:と式(V)の4′−置換4−ヒドロ
キシベンゾエートとの反応はエチルエーテル、ベンゼン
、rjAMエチル等の不活性溶媒中で行うが、1jに溶
解性の面から酢酸エチルが好ましい。また反応中に生ず
る塩化水素を系外に除くため、ピリジン、トリエチルア
ミン等の塩基性物質を加えることが好ましい。反応後の
生成物は、h機溶媒抽出、水洗、結晶化等の処理により
目的とする化合物を得ることができる。
キル−2−フリルアクリル酸、あるいは5−n−アルキ
ル−2−フランカルボン酸に対して過剰モル岳を用いて
還流8せ、反応複塩化ブオニンを減圧下で溜去づればよ
い。式(vl)の5−n−アルキル−2−フリルアクリ
ル酸クロライドあるいは5−n−アルキル−フランカル
ボン酸クロライ!:と式(V)の4′−置換4−ヒドロ
キシベンゾエートとの反応はエチルエーテル、ベンゼン
、rjAMエチル等の不活性溶媒中で行うが、1jに溶
解性の面から酢酸エチルが好ましい。また反応中に生ず
る塩化水素を系外に除くため、ピリジン、トリエチルア
ミン等の塩基性物質を加えることが好ましい。反応後の
生成物は、h機溶媒抽出、水洗、結晶化等の処理により
目的とする化合物を得ることができる。
本発明で中間体として用いる式(IV)の5−n−アル
キル−2−フリルアクリル酸、あるいは5−n−アルキ
ル−2−フリルカルボン酸は次の工程によって製造する
ことができる。
キル−2−フリルアクリル酸、あるいは5−n−アルキ
ル−2−フリルカルボン酸は次の工程によって製造する
ことができる。
(a)
第1段階 ↓ 0
QC−R+ (b )
第2段階 ↓
QCH,−R+ (c )
第3段階 ↓ 0
−とC−11(d )
第4段階 ↓
R−Q−co=cH−coot+ (IV ) a
(式中Rは、炭素原子数2〜14のめ鎖アルキル基、R
1は、Rよりも炭素原子が1少ない直鎖アルキル基を示
す) 第1段階では少足の過塩素酸を触媒として、フランとロ
ーカルボン酸無水物とを反応させて式(b)のn−アル
キル−2−フリルケトンが製造される。
(式中Rは、炭素原子数2〜14のめ鎖アルキル基、R
1は、Rよりも炭素原子が1少ない直鎖アルキル基を示
す) 第1段階では少足の過塩素酸を触媒として、フランとロ
ーカルボン酸無水物とを反応させて式(b)のn−アル
キル−2−フリルケトンが製造される。
第2段階ではn−アルキル−2−フリルケトンをエヂレ
ングリコール系溶媒の存在下で抱水ヒドラジンで還元す
ることにより式(C)の2−n−アルキルフランが製造
される。
ングリコール系溶媒の存在下で抱水ヒドラジンで還元す
ることにより式(C)の2−n−アルキルフランが製造
される。
第3段階ではオキシ塩化リンを触媒として、2−n−ア
ルキルフランとN、N−ジメチルホルムアミドとを反応
させて式(d)の5−n−アルキル−2−フランアルデ
ヒドが製造される。
ルキルフランとN、N−ジメチルホルムアミドとを反応
させて式(d)の5−n−アルキル−2−フランアルデ
ヒドが製造される。
第4段階では少量のピペリジンを含むピリジンを溶媒と
して、5−n−アルキル−2−フランアルデヒドとマロ
ン酸とを反応させるか、またはナトリウムの存在下で5
−n−アルキル−2−フランアルデヒドと耐酸メチルを
還流してWられる5−n−アルキル−フリルアクリル酸
メヂルをアルカリ加水分解して、式(IV)aの5−〇
−アルキルー2−フリルアクリル酸が製造される。
して、5−n−アルキル−2−フランアルデヒドとマロ
ン酸とを反応させるか、またはナトリウムの存在下で5
−n−アルキル−2−フランアルデヒドと耐酸メチルを
還流してWられる5−n−アルキル−フリルアクリル酸
メヂルをアルカリ加水分解して、式(IV)aの5−〇
−アルキルー2−フリルアクリル酸が製造される。
また(IV)bの5−n−アルキル−2フランカルボン
酸は次の工程によって製造することができる。
酸は次の工程によって製造することができる。
(式中Rは炭素原子数2〜14の直鎖アルキル基を示す
。) すなわち、5−n−アルキル−2−フランアルデヒドの
酸化銀または次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウ
ム等による酸化によって製造される。
。) すなわち、5−n−アルキル−2−フランアルデヒドの
酸化銀または次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウ
ム等による酸化によって製造される。
また本発明のもう一方の原料となる4′−置換フェニル
−4−ヒドロキシベンゾエートは特開昭58−1356
0号の方法を改良した特願昭60−260935号の方
法によって製造することができる。
−4−ヒドロキシベンゾエートは特開昭58−1356
0号の方法を改良した特願昭60−260935号の方
法によって製造することができる。
(以下余白)
i
■o−@−c−or+
第1段階 j CH3C0C℃a’E2m階
j HO−@−X (f)HO−@−a−0−
o−X < v >(式中、Xはシアノ基、またはフ
ッ素原子、塩素素子、もしくは臭素原子を示す) 第1段階では4−ヒドロキシ安息香酸に塩化アセチルを
反応させて(e)の4−アセトキシ安息香酸が製造され
る。
j HO−@−X (f)HO−@−a−0−
o−X < v >(式中、Xはシアノ基、またはフ
ッ素原子、塩素素子、もしくは臭素原子を示す) 第1段階では4−ヒドロキシ安息香酸に塩化アセチルを
反応させて(e)の4−アセトキシ安息香酸が製造され
る。
第2段階では、4−アセトキシ安息香酸に4−置換フェ
ノール(4−シアノフェノール、4−フルオロフェノー
ル、4−クロロフェノールおよび4−ブロモフェノール
)を脱水剤の存在下で反応させて式(g)の4′−置換
フェニル−4−アセトキシベンゾエートが製造される。
ノール(4−シアノフェノール、4−フルオロフェノー
ル、4−クロロフェノールおよび4−ブロモフェノール
)を脱水剤の存在下で反応させて式(g)の4′−置換
フェニル−4−アセトキシベンゾエートが製造される。
第8段階では4′−置換フェニル−4−アセトキシベン
ゾエートをアルコール溶媒中、塩酸で分解して(V)の
4′−置換フェニルー4−アセトキシベンゾエートを製
造スることができる。
ゾエートをアルコール溶媒中、塩酸で分解して(V)の
4′−置換フェニルー4−アセトキシベンゾエートを製
造スることができる。
式(I>の化合物に混合して使用することのできる他の
液晶化合物および非液晶化合物としては次のような化合
物が例示される。
液晶化合物および非液晶化合物としては次のような化合
物が例示される。
例示(1)
R−@−C−09R’
例示(2)
R−@−CH=N@−R
例示(3)
R−@@−R=
例示(4)
R−@−C−3−@−R。
【例示(1)〜(4)において式中RおよびR′はそれ
ぞれn−Cvt−12佃−1 n−Cm)lzm++−0−、n−CmHzIIl+l
−C−0−、−CN 。
ぞれn−Cvt−12佃−1 n−Cm)lzm++−0−、n−CmHzIIl+l
−C−0−、−CN 。
−N02のいずれかを表わす(但し、mは1〜10の整
数)] 例示(5) R如X防R゛ [式中Rはn−Cm Hzm++−を表わし、R′はn
−CmHz)−1n−CmHzm++−0−1n−Cm
Hz佃−C−0−、−CM 、 −802のいずれか
を表わす(ただし、mは1〜10の整数)] 例示(6) R@−C−0((防R。
数)] 例示(5) R如X防R゛ [式中Rはn−Cm Hzm++−を表わし、R′はn
−CmHz)−1n−CmHzm++−0−1n−Cm
Hz佃−C−0−、−CM 、 −802のいずれか
を表わす(ただし、mは1〜10の整数)] 例示(6) R@−C−0((防R。
例示(7)
R8cms−@−R。
例示(8)
R唖)@@”R’
例示(9)
[例示(6)〜(9)において式中Rはn−CmHzm
++−を表わし、R′は n−CmHzm++−、n−CmHzm−0−1n−C
mHzm+l−0−C−0−1−CN、−NO2(7)
イずれかを表わす(ただし、mは1〜10の整数)]例
示(10) Re訟R。
++−を表わし、R′は n−CmHzm++−、n−CmHzm−0−1n−C
mHzm+l−0−C−0−1−CN、−NO2(7)
イずれかを表わす(ただし、mは1〜10の整数)]例
示(10) Re訟R。
1式中RおよびR′はそれぞれn−Cm)Izm++−
1n−Cm)IzMI−0−、n−CmHzm++−C
−1−802のいずれかを表わす(但し、mは1〜10
の整数)] 例示(11) OX 例示(12) 例示(13) 例示(14) [例示(11)〜(14)において式中Rはn−C1+
Hzu++−を表わし、Xは[、(4、Brのいずれか
を表わす(ただし、mは1〜10の整数)]例示(15
) [式中RおよびR′はn−CmHzm−1n−CmHz
m−0−を表わし、Xは−CNまたは−Brを表わプ(
但し、mは1〜10のV数)] (作 用) 次に本発明の主な液晶化合物の物理的特性を第1表およ
び第2表に示す。
1n−Cm)IzMI−0−、n−CmHzm++−C
−1−802のいずれかを表わす(但し、mは1〜10
の整数)] 例示(11) OX 例示(12) 例示(13) 例示(14) [例示(11)〜(14)において式中Rはn−C1+
Hzu++−を表わし、Xは[、(4、Brのいずれか
を表わす(ただし、mは1〜10の整数)]例示(15
) [式中RおよびR′はn−CmHzm−1n−CmHz
m−0−を表わし、Xは−CNまたは−Brを表わプ(
但し、mは1〜10のV数)] (作 用) 次に本発明の主な液晶化合物の物理的特性を第1表およ
び第2表に示す。
(以下余白)
第1表
[表中の転移温度欄における0中のCは結晶相、Sはス
メクチック液晶相、Nはネマチック液晶相、Iは等方性
液体相、矢印は相転移を示す。以下同様] 第2表 (実施例) 次に本発明を中間体製造例、実施例、配合例を以て具体
的に説明する。
メクチック液晶相、Nはネマチック液晶相、Iは等方性
液体相、矢印は相転移を示す。以下同様] 第2表 (実施例) 次に本発明を中間体製造例、実施例、配合例を以て具体
的に説明する。
中間体製造例1
フラン34C1(0,5モル〉と無水西1酸51(j
(0,5モル)の混合物に撹拌下で60%過塩素110
滴を室温で摘下して2時間撹拌した。この混合物を水2
00 mβに加え、有機層を分離し、水酸化ナトリウム
溶液で中和し、反応生成物を減圧下で蒸溜して第3表の
1に掲げる化合物48.3(jを10だ。
(0,5モル)の混合物に撹拌下で60%過塩素110
滴を室温で摘下して2時間撹拌した。この混合物を水2
00 mβに加え、有機層を分離し、水酸化ナトリウム
溶液で中和し、反応生成物を減圧下で蒸溜して第3表の
1に掲げる化合物48.3(jを10だ。
中間体製造例2〜8
前記例1にd)(プる無水耐酸の代わりに下記の化合物
0.5モルをぞれそれ用いる以外は同様にして第3表の
2〜8に18ける化合物を得た。
0.5モルをぞれそれ用いる以外は同様にして第3表の
2〜8に18ける化合物を得た。
(C2H5Co)ン、0
(n−C3+17 C0)20
(II−C4H9C0)20
(n−Cs tl+ 1CD)20
(1+−CbH+ = CD)20
(n−C7H+ s Co)20
(n−C,、1119Co)20
中間体製造例9
フラン68g (1モル)と無水ラウリン1138.2
g(0,1モル)の混合物に撹拌下で60%過塩素酸1
0)^を室温で摘下して2時間撹拌した。この混合物を
水200mβに加え、200mβのエチルエーテルで抽
出した。水酸化ナトリウム溶液で中和後、エチルエーテ
ルを留去して生じた結晶を80%エタノールから再結晶
して第3表の9に掲げる化合物18.5gを得た。
g(0,1モル)の混合物に撹拌下で60%過塩素酸1
0)^を室温で摘下して2時間撹拌した。この混合物を
水200mβに加え、200mβのエチルエーテルで抽
出した。水酸化ナトリウム溶液で中和後、エチルエーテ
ルを留去して生じた結晶を80%エタノールから再結晶
して第3表の9に掲げる化合物18.5gを得た。
中間体製造例10
2−アセプルフランhsg(0,5)モルをエチレンブ
レコール300m、2と混合し、80%ヒドラジン11
5mflを徐々に加えた。この混合物30分間還流した
(160℃に冷却し、水酸化カリウム107C]を加え
、さら1こ3時間還流した後蒸溜した。蒸溜物の有機層
を分離し、10%塩酸で過剰のヒドラジンを除き、水洗
後無水塩化カルシウムで乾燥し、反応生成物を蒸溜して
第4表の10に掲げる化合物40.9Qを19だ。
レコール300m、2と混合し、80%ヒドラジン11
5mflを徐々に加えた。この混合物30分間還流した
(160℃に冷却し、水酸化カリウム107C]を加え
、さら1こ3時間還流した後蒸溜した。蒸溜物の有機層
を分離し、10%塩酸で過剰のヒドラジンを除き、水洗
後無水塩化カルシウムで乾燥し、反応生成物を蒸溜して
第4表の10に掲げる化合物40.9Qを19だ。
中間体製造例11〜16
中間体製造例104こおける2−アセデルフランに代え
て下記の化合物0.5モルをそれぞれ用いる以外は同製
造例と同様にして第4表の11〜16に掲げる化合物を
19だ。
て下記の化合物0.5モルをそれぞれ用いる以外は同製
造例と同様にして第4表の11〜16に掲げる化合物を
19だ。
(以下余白)
中間体製造例17〜18
中間体製造例10における2−アセチルフランに代えて
下記の化合物0.5モルをそれぞれ用い、エチレングリ
コールに代えてジエチケングリコール300m1をそれ
ぞれ用いる以外は同製造例と同様にして第4表の17.
18に掲げる化合物を1qた。
下記の化合物0.5モルをそれぞれ用い、エチレングリ
コールに代えてジエチケングリコール300m1をそれ
ぞれ用いる以外は同製造例と同様にして第4表の17.
18に掲げる化合物を1qた。
(以下余白)
第4表
(以下余白)
中間体#り55例19
2−アセチルフラン28.8o (0,3モル)とN、
N−ジメブルホルムアミド43.90の混合物にオキシ
塩化リン55.2gを徐々に滴下した後、80°Cで1
h問加熱した。水に加え、酉1酸ナトリウム溶液で中和
した後、有機層を分離した。無水芒硝て乾燥後減圧蒸溜
して第5表の19に掲げる化合物28.0gを19だ。
N−ジメブルホルムアミド43.90の混合物にオキシ
塩化リン55.2gを徐々に滴下した後、80°Cで1
h問加熱した。水に加え、酉1酸ナトリウム溶液で中和
した後、有機層を分離した。無水芒硝て乾燥後減圧蒸溜
して第5表の19に掲げる化合物28.0gを19だ。
中間体製造例20〜26
中間体製造例19におCブる2−アセチルフランにかえ
て下記の化合物0.3モルをそれぞれ用いる以外は同製
造例と同様にして第5表の20〜26に掲げる化合物を
得た。
て下記の化合物0.3モルをそれぞれ用いる以外は同製
造例と同様にして第5表の20〜26に掲げる化合物を
得た。
()\n−C5Hり
Qゝrl−C3Ig
$n−c5Hi1
Q−n−c 6H13
()−n−c7旧。
〈闇〉−ローC3H17
QNn−C+n Hzl
(以下余白)
第5表
*はCDCj23の中での測定値である。
中間体製)前例27
2−ドデシルフラン47.2g(0,2モル)とN、N
−ジメチルホルムアミ1〜50gの)6合物にオキシ塩
化リン3B、 agを徐々に摘手した後80’cて1時
間加熱した。
−ジメチルホルムアミ1〜50gの)6合物にオキシ塩
化リン3B、 agを徐々に摘手した後80’cて1時
間加熱した。
水に加え、西1酸サトリウム溶液で中和した後生じた結
晶をエタノールから再結晶して下記の化合物34.5!
;]を得た。収率65.3%。融点34℃。
晶をエタノールから再結晶して下記の化合物34.5!
;]を得た。収率65.3%。融点34℃。
N)iR(δ、 CCβ4)
0.87 (t、 3H,−CH3)
1.24 (S、 18M、−CH2−)1.68 (
m、 2H,−CH2−)2.68 (t、 2H,−
CH2−)6.12 (d、 1H,Hb) 7.00 (d、 IH,Ha) 9.41 (d、、 IH,−CHo)中間体製迄例2
8 5−エチル−2−フランアルデヒド12.4(+(0,
1モル)?Llン酩15.8g(0,15土ル)、ピリ
ジン50m I iJ3よびピペリジン1mlの混合物
を2[1;’+間j蓼流した後塩酸を含む氷水中に投入
して生じた結晶を50%]タノールから再結晶させて第
6表の28に掲げる化合物11.4gを得た。
m、 2H,−CH2−)2.68 (t、 2H,−
CH2−)6.12 (d、 1H,Hb) 7.00 (d、 IH,Ha) 9.41 (d、、 IH,−CHo)中間体製迄例2
8 5−エチル−2−フランアルデヒド12.4(+(0,
1モル)?Llン酩15.8g(0,15土ル)、ピリ
ジン50m I iJ3よびピペリジン1mlの混合物
を2[1;’+間j蓼流した後塩酸を含む氷水中に投入
して生じた結晶を50%]タノールから再結晶させて第
6表の28に掲げる化合物11.4gを得た。
中間体製造例29〜36
中間体製)5例28にあ(プる5−Tチル−2−フラン
アルデヒド0.1モルに代えて下記の化合物0.1モル
を各々用いる以外は同製造例と同様にして第6表の29
〜36に掲げる化合物を得た。
アルデヒド0.1モルに代えて下記の化合物0.1モル
を各々用いる以外は同製造例と同様にして第6表の29
〜36に掲げる化合物を得た。
n−C3h −Q−cti。
n−Ca llq −Q−CHO
n−C5HN −Q−CtlO
n−C,、H13−Q−CHO
n−C7Hls −Q−CHO
ローC8H17−Q−Cl0
n−clQ H21−Q−CtlO
n−C,、tl□5−Qづt10
第6表
中間体製造例37
5−コープルー2−フランアルデヒドG、2q(0,0
5モル)をコータノール40m lに溶かし、これに硝
酸銀18.6gを水jlOm+に溶かした溶)々を加え
た。この)捏合物に水nP化す1〜ツリウム0gを水3
00m lに溶かした溶液を滴下した。)^下終了後さ
らに1E11間撹拌を続行した後生じた酸化銀を濾過し
た。濾液を約100m1に蒸発部幅し、6N塩酸で酸性
にした。生じた沈澱を50%エタノールから再結晶して
第7表の37に掲げる化合物6.09を得た。
5モル)をコータノール40m lに溶かし、これに硝
酸銀18.6gを水jlOm+に溶かした溶)々を加え
た。この)捏合物に水nP化す1〜ツリウム0gを水3
00m lに溶かした溶液を滴下した。)^下終了後さ
らに1E11間撹拌を続行した後生じた酸化銀を濾過し
た。濾液を約100m1に蒸発部幅し、6N塩酸で酸性
にした。生じた沈澱を50%エタノールから再結晶して
第7表の37に掲げる化合物6.09を得た。
中間体製j^例38〜45
中間体製造例37における5−エチル−2−フランアル
デヒド0.05モルに代えて下記の化合物0、05モル
を各々用いる以外は同製造例と同様にして第7表の38
〜45に掲げる化合物を得た。
デヒド0.05モルに代えて下記の化合物0、05モル
を各々用いる以外は同製造例と同様にして第7表の38
〜45に掲げる化合物を得た。
n−c3H7−Q−cr+。
n−c5H14−Q−CHO
n−CRH13−Q−CHO
n−C? H15−Q−c+t。
n−C,H,7−1トCHO
n−CHI Hユニ −Q−CHOn−C,、Hz
s Q CHO’ (以下余白) 第7表 (以下余白) 次に液晶化合物製造の実施例について記載する。
s Q CHO’ (以下余白) 第7表 (以下余白) 次に液晶化合物製造の実施例について記載する。
実施例1
5−7’0 ’c”ルー2−7 ’) )’v7’)
’) ルta O,90Cl(0,005モル)と4′
−シアノフェニル4−ヒドロキシベンゾエート1.20
CI (0,005モル)とをピリジン5mβを含む
ジクロロメタン60m 12に溶解した。
’) ルta O,90Cl(0,005モル)と4′
−シアノフェニル4−ヒドロキシベンゾエート1.20
CI (0,005モル)とをピリジン5mβを含む
ジクロロメタン60m 12に溶解した。
次にN、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド1.0
4 CI (0,005モル)を加えて撹拌し、−夜装
置した。生成した尿素体を濾別し、濾液の溶媒を溜去し
た。メタノールを加えて加熱溶解し、冷却して得た結晶
をメタノールで再結晶して第8表の1の化合物1.90
0を得た。
4 CI (0,005モル)を加えて撹拌し、−夜装
置した。生成した尿素体を濾別し、濾液の溶媒を溜去し
た。メタノールを加えて加熱溶解し、冷却して得た結晶
をメタノールで再結晶して第8表の1の化合物1.90
0を得た。
実施例2〜6
実施例1における5−プロピル−2−フリルアクリル酸
0.005モルに代えて下記の化合物0.005モルを
用いた以外は実施例1と同様にして第8表の2〜6に挙
げる化合物を得た。
0.005モルに代えて下記の化合物0.005モルを
用いた以外は実施例1と同様にして第8表の2〜6に挙
げる化合物を得た。
n−Cs ++ II −Q−CH=CH−COOHn
−C6H13−Q−CH=CH−COOHn−c 8
H17−Q−cu=ch−coor+n−C10Hユ1
→Q−co=cu−coon(以下余白) 第8表 実71(!例7 5−ブブルー?−フリルアクリルH0,97g(o、o
ob−tル)と4′−シアラフlニル4−ヒドロキシベ
ンゾニー1へ1.20 Q (0,005−tル)とを
ピリジン5rlを含むジクロロメタン60mλに溶解し
た。次にN、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド1
.04 Cl (0,005モル)を加えて撹拌して、
−皮静防した。生成したに尿素体を濾別し、濾液の溶媒
を溜去した。メタノールを加えて加熱溶解し、冷却して
得た結晶をメタノールで再結晶して第9表の7に掲げる
化合物1.85 Qを得た。
−C6H13−Q−CH=CH−COOHn−c 8
H17−Q−cu=ch−coor+n−C10Hユ1
→Q−co=cu−coon(以下余白) 第8表 実71(!例7 5−ブブルー?−フリルアクリルH0,97g(o、o
ob−tル)と4′−シアラフlニル4−ヒドロキシベ
ンゾニー1へ1.20 Q (0,005−tル)とを
ピリジン5rlを含むジクロロメタン60mλに溶解し
た。次にN、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド1
.04 Cl (0,005モル)を加えて撹拌して、
−皮静防した。生成したに尿素体を濾別し、濾液の溶媒
を溜去した。メタノールを加えて加熱溶解し、冷却して
得た結晶をメタノールで再結晶して第9表の7に掲げる
化合物1.85 Qを得た。
実施例8〜10
実施例7における4′−シアノフェニル4−ヒドロキシ
ベンゾエート0.005モルに代えて下記の化合物0.
005モルを用いた以外は実施例7と同様にして第9表
の8〜10に挙げる化合物を得た。
ベンゾエート0.005モルに代えて下記の化合物0.
005モルを用いた以外は実施例7と同様にして第9表
の8〜10に挙げる化合物を得た。
HO−@−COO−@−F
HO−@−C00−@−Br
第9表
実施例11
5−/\ブヂルー2−フリルアクリルfi 1.18
g(0,005tル)と4′−シアノフJニル4−ヒド
ロキシl\ンゾ]−ト1.20 (1(0,005モル
)とをピリジン5mλを含むジクロロルタン60m f
!、Gこ溶解した。次にN、 N’ −ジシクロへキシ
ルカルボジイミド1.04 (,1(0,005モル)
を加えて撹拌して、−夜装置した。生成した尿素体を濾
別し、濾液の溶媒を溜去した。メタノールを加えて加熱
溶解し、冷却して得た結晶をメタノールで再結晶して第
10表の11に掲げる化合物を1.6gを1qた。
g(0,005tル)と4′−シアノフJニル4−ヒド
ロキシl\ンゾ]−ト1.20 (1(0,005モル
)とをピリジン5mλを含むジクロロルタン60m f
!、Gこ溶解した。次にN、 N’ −ジシクロへキシ
ルカルボジイミド1.04 (,1(0,005モル)
を加えて撹拌して、−夜装置した。生成した尿素体を濾
別し、濾液の溶媒を溜去した。メタノールを加えて加熱
溶解し、冷却して得た結晶をメタノールで再結晶して第
10表の11に掲げる化合物を1.6gを1qた。
実施例12〜14
実施例11における4′−シアノフェニル4−ヒドロキ
シベンゾエート0.005モルに代えて下記の化合物0
.005モルを用いた以外は実施例11と同様にして第
10表の12〜14に挙げる化合物を(E?7こ。
シベンゾエート0.005モルに代えて下記の化合物0
.005モルを用いた以外は実施例11と同様にして第
10表の12〜14に挙げる化合物を(E?7こ。
HO((防C00(温[
■o−o−coo−o−cz
HO−@−COO−@−Br
第10表
実施例15
5−プロピル−2−フランカルボンM O,77g(o
、 oo5モル)と4′−シアノフェニル4−ヒドロキ
シベンゾエート1.20(1(0,005モル)とをピ
リジン5mλを含むジクロロメタン60mλに溶解した
。
、 oo5モル)と4′−シアノフェニル4−ヒドロキ
シベンゾエート1.20(1(0,005モル)とをピ
リジン5mλを含むジクロロメタン60mλに溶解した
。
次にN、N’ −ジシクロヘキシルカルボジイミド1、
04 g ( 0.005モル)を加えて撹拌して一夜
静置した。生成した尿素体を濾別し、濾液の溶媒を溜去
した。メタノールを加えて加熱溶耐し、冷却して1qた
結晶をメタノールで再結晶して、第11表の15に掲げ
る化合物1.75 qを17だ。
04 g ( 0.005モル)を加えて撹拌して一夜
静置した。生成した尿素体を濾別し、濾液の溶媒を溜去
した。メタノールを加えて加熱溶耐し、冷却して1qた
結晶をメタノールで再結晶して、第11表の15に掲げ
る化合物1.75 qを17だ。
実施例16〜20
実施例15における5−プロピル−2−フランカルボン
M O.005モルに代えて下記の化合物0. 005
モルを用いた以外は同実施例と同様にして第11表の1
6〜20に挙げる化合物を得た。
M O.005モルに代えて下記の化合物0. 005
モルを用いた以外は同実施例と同様にして第11表の1
6〜20に挙げる化合物を得た。
n−c 4 h !l −Qrcooun−c 5 H
、、Qcoo++ n−c 6 H +3−Q−coon n−c 7 H +rQCOOH n−c B H +7−o−COOH 第11表 実施例21 5−エチル−2−フリルアクリル酸0.83 Cl(0
.005モル)に塩化チオニル4mβを加えて30分間
還流した。その俊、過剰の塩化ブオニルを減圧下で溜去
した。次に1ワられた反応生成物を冷却してエチルエー
テル30mβを加えた。この溶液を 4′−シアノフェ
ニル4−ヒドロキシベンゾエート1.2g( 0.00
5モル)を含むピリジン10mβと酢酸エチル50mβ
との混合液に滴下後、室温で一夜放置した。この反応液
を希塩酸、水、希苛性ソーダ溶液、水の順に処理した。
、、Qcoo++ n−c 6 H +3−Q−coon n−c 7 H +rQCOOH n−c B H +7−o−COOH 第11表 実施例21 5−エチル−2−フリルアクリル酸0.83 Cl(0
.005モル)に塩化チオニル4mβを加えて30分間
還流した。その俊、過剰の塩化ブオニルを減圧下で溜去
した。次に1ワられた反応生成物を冷却してエチルエー
テル30mβを加えた。この溶液を 4′−シアノフェ
ニル4−ヒドロキシベンゾエート1.2g( 0.00
5モル)を含むピリジン10mβと酢酸エチル50mβ
との混合液に滴下後、室温で一夜放置した。この反応液
を希塩酸、水、希苛性ソーダ溶液、水の順に処理した。
酢酸エチルを溜去後、メタノールから結晶化して下記の
化合物0.50(]を得た。
化合物0.50(]を得た。
収率26.0%
NHR(δ,CDCJ23>
1、29 (t, 3N,−CH3 )2、74 (Q
, 2H,−CH2 −)6、16 (d, 111,
Hb) 6、43 (d, IH, Hd) 6.65(d、 11L Ha) 7.35 (d、 2H,tie) 7.37 ((1,2H,Hg) 7、!17 (d、 ill、 IC)7.74 (
d、 2H,曲) 8.23 (d、 2N、 Hf) 配合例 次に本発明による液晶化合物を従来から知られている液
晶組成物に添加してなる液晶組成物についての実施例を
示す。
, 2H,−CH2 −)6、16 (d, 111,
Hb) 6、43 (d, IH, Hd) 6.65(d、 11L Ha) 7.35 (d、 2H,tie) 7.37 ((1,2H,Hg) 7、!17 (d、 ill、 IC)7.74 (
d、 2H,曲) 8.23 (d、 2N、 Hf) 配合例 次に本発明による液晶化合物を従来から知られている液
晶組成物に添加してなる液晶組成物についての実施例を
示す。
下記、液晶組成物(A>は72.5°C(N−1)まで
液晶相をまし、結晶化温度(N−C)はO’C以下で偽
る。
液晶相をまし、結晶化温度(N−C)はO’C以下で偽
る。
(A>の組成
n−C5Hn OOCN 43%(II)n
−C3H7−0$CN 17%(重量)n−Cs
H++−0−@−@−CN 13%(重量)n−
Cat(+7−0ICN 17%(重量)n−c
shn−@lcN 10%(重N)(A>に本発明でi
lられた下記の化合物(B)を5%、10%、15%、
になるように加えた。
−C3H7−0$CN 17%(重量)n−Cs
H++−0−@−@−CN 13%(重量)n−
Cat(+7−0ICN 17%(重量)n−c
shn−@lcN 10%(重N)(A>に本発明でi
lられた下記の化合物(B)を5%、10%、15%、
になるように加えた。
・・・・・・・・・(B)
結果は第12表に示すような特性をもつ使用可能な液晶
組成物が19られた。
組成物が19られた。
第12表
[発明の効果]
本発明により新規なフラン環を持つ液晶中間体、液晶化
合物、液晶組成物を得ることがでさた。またこれらの液
晶組成物は第1表の代表例を示したように広い液晶温度
範囲を持つことが判った。
合物、液晶組成物を得ることがでさた。またこれらの液
晶組成物は第1表の代表例を示したように広い液晶温度
範囲を持つことが判った。
Claims (13)
- (1)一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rは、炭素原子数2〜14の直鎖アルキル基、n
は1または0であり、Xはシアノ基、またはフッ素原子
、塩素原子もしくは臭素原子を示す)で表されることを
特徴とする液晶化合物。 - (2)一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rは、炭素原子数2〜14の直鎖アルキル基、X
はシアノ基、またはフッ素原子、塩素原子もしくは臭素
原子を示す)で表されることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の液晶化合物。 - (3)一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rは炭素原子数2〜14の直鎖アルキル基、Xは
シアノ基またはフッ素原子、塩素原子もしくは臭素原子
を示す)で表されることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の液晶化合物。 - (4)Xがシアノ基である特許請求の範囲第1項記載の
液晶化合物。 - (5)Xがフッ素原子である特許請求の範囲第1項記載
の液晶化合物。 - (6)Xが塩素原子である特許請求の範囲第1項記載の
液晶化合物。 - (7)Xが臭素原子である特許請求の範囲第1項記載の
液晶化合物。 - (8)一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rは、炭素原子数2〜14の直鎖アルキル基、n
は1または0であり、Xはシアノ基またはフッ素原子、
塩素原子もしくは臭素原子を示す)で表される化合物を
一種以上含むことを特徴とする液晶組成物。 - (9)一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rは、炭素原子数2〜14の直鎖アルキル基を示
し、nは1または0である)で表される化合物と 一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Xはシアノ基またはフッ素原子、塩素原子もしく
は臭素原子を示す)で表される化合物とを脱水剤の存在
下で反応させて 一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R、Xおよびnは前記と同じ意味を示す)で表わ
される化合物を得ることを特徴とする液晶化合物の製造
方法。 - (10)一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rは炭素原子数2〜14の直鎖アルキル基を示し
、nは1または0である)で表される化合物を塩素化剤
で反応させて 一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rおよびnは前記と同じ意味を示す)で表わされ
る酸塩化物とし次いで 一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Xはシアノ基またはフッ素原子、塩素原子もしく
は臭素原子を示す)で表わされる化合物と反応させて 一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R、nはおよびXは前記と同じ意味を示す)で表
わされる化合物を得ることを特徴とする液晶化合物の製
造方法。 - (11)一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rは炭素原子数7〜14の直鎖アルキル基を示す
。) で表わされる液晶中間体。 - (12)一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rは炭素原子数3〜14の直鎖アルキル基を示す
。) で表わされる液晶中間体。 - (13)一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rは炭素原子数7〜14の直鎖アルキル基を示す
。) で表わされる液晶中間体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61105531A JPS6360981A (ja) | 1986-05-08 | 1986-05-08 | フラン系液晶化合物、液晶中間体、液晶組成物およびそれらの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61105531A JPS6360981A (ja) | 1986-05-08 | 1986-05-08 | フラン系液晶化合物、液晶中間体、液晶組成物およびそれらの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6360981A true JPS6360981A (ja) | 1988-03-17 |
Family
ID=14410171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61105531A Pending JPS6360981A (ja) | 1986-05-08 | 1986-05-08 | フラン系液晶化合物、液晶中間体、液晶組成物およびそれらの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6360981A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1013649A1 (en) * | 1998-12-22 | 2000-06-28 | Chisso Corporation | Liquid crystal compounds incorporating furan ring, liquid crystal composition and liquid crystal display device |
| WO2001016131A3 (de) * | 1999-09-01 | 2001-08-30 | Clariant Int Ltd | Fünfring-verbindungen und ihre verwendung in flüssigkristallinen mischungen |
| JP4870244B2 (ja) * | 2009-04-01 | 2012-02-08 | 新日本製鐵株式会社 | 大気中の降下煤塵の水平成分捕集器および水平成分の計測方法 |
-
1986
- 1986-05-08 JP JP61105531A patent/JPS6360981A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1013649A1 (en) * | 1998-12-22 | 2000-06-28 | Chisso Corporation | Liquid crystal compounds incorporating furan ring, liquid crystal composition and liquid crystal display device |
| WO2001016131A3 (de) * | 1999-09-01 | 2001-08-30 | Clariant Int Ltd | Fünfring-verbindungen und ihre verwendung in flüssigkristallinen mischungen |
| US7052742B1 (en) | 1999-09-01 | 2006-05-30 | Clariant International Ltd. | Five membered-ring compounds and utilization thereof in liquid crystal mixtures |
| JP4870244B2 (ja) * | 2009-04-01 | 2012-02-08 | 新日本製鐵株式会社 | 大気中の降下煤塵の水平成分捕集器および水平成分の計測方法 |
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